专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI382034B 研磨墊及其製造方法有权
简体标题：研磨垫及其制造方法
公开(公告)号：TWI382034B
公开(公告)日：2013-01-11
申请号：TW096146036
申请日：2007-12-04
申请人：東洋橡膠工業股份有限公司 , TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD.
发明人：福田武司 , FUKUDA, TAKESHI , 廣瀨純司 , HIROSE, JUNJI , 中村賢治 , NAKAMURA, KENJI , 堂浦真人 , DOURA, MASATO , 佐藤彰則 , SATO, AKINORI
IPC分类号： C08G18/32 , C08G18/62 , B24B37/24 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/24 , B24D3/26 , B24D11/001

2. 发明专利

TWI429504B 研磨墊及其製造方法以及玻璃基板之製造方法有权
简体标题：研磨垫及其制造方法以及玻璃基板之制造方法
公开(公告)号：TWI429504B
公开(公告)日：2014-03-11
申请号：TW100110347
申请日：2011-03-25
申请人：東洋橡膠工業股份有限公司 , TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD.
发明人：佐藤彰則 , SATO, AKINORI , 石坂信吉 , ISHIZAKA, NOBUYOSHI
IPC分类号： B24B37/24
CPC分类号： B24D11/00 , B24B7/241 , B24B37/24

3. 发明专利

TWI475056B 研磨墊之製造方法有权
简体标题：研磨垫之制造方法
公开(公告)号：TWI475056B
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW097117539
申请日：2008-05-13
申请人：東洋橡膠工業股份有限公司 , TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD.
发明人：堂浦真人 , DOURA, MASATO , 廣瀬純司 , HIROSE, JUNJI , 中村賢治 , NAKAMURA, KENJI , 福田武司 , FUKUDA, TAKESHI , 佐藤彰則 , SATO, AKINORI
IPC分类号： C08J5/14 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/205

4. 发明专利

TW201319132A 研磨墊审中-公开
简体标题：研磨垫
公开(公告)号：TW201319132A
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：TW101131997
申请日：2012-09-03
申请人：東洋橡膠工業股份有限公司 , TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD.
发明人：佐藤彰則 , SATO, AKINORI , 堂浦真人 , DOURA, MASATO
IPC分类号： C08J5/14 , C08G18/32 , C08G18/65 , C08G18/48 , C08G18/74 , B24B37/00 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/24 , B24B37/042 , C08G18/12 , C08G18/2835 , C08G18/3206 , C08G18/3243 , C08G18/3814 , C08G18/4018 , C08G18/4277 , C08G18/4854 , C08G18/664 , C08G18/6674 , C08G18/724 , C08G18/758 , C08G18/7621 , C08G18/792 , C08G18/797 , C08G2101/00 , H01L21/304 , C08G18/10 , C08G18/2865
摘要：本發明之目的係提供一種在維持硬度的狀態下使修整性之研磨墊、或是一種不容易使研磨對象物的表面產生刮痕，而且使修整性提升之研磨墊。本發明之研磨墊係具有由聚胺基甲酸酯樹脂發泡體或是無發泡聚胺基甲酸酯樹脂所構成之研磨層，其特徵在於：前述聚胺基甲酸酯樹脂發泡體或是無發泡聚胺基甲酸酯樹脂係含有(A)異氰酸酯成分、(B)多元醇成分、及(C)具有1個羥基之芳香族化合物及/或具有1個胺基之芳香族化合物作為原料成分。
简体摘要：本发明之目的系提供一种在维持硬度的状态下使修整性之研磨垫、或是一种不容易使研磨对象物的表面产生刮痕，而且使修整性提升之研磨垫。本发明之研磨垫系具有由聚胺基甲酸酯树脂发泡体或是无发泡聚胺基甲酸酯树脂所构成之研磨层，其特征在于：前述聚胺基甲酸酯树脂发泡体或是无发泡聚胺基甲酸酯树脂系含有(A)异氰酸酯成分、(B)多元醇成分、及(C)具有1个羟基之芳香族化合物及/或具有1个胺基之芳香族化合物作为原料成分。

5. 发明专利

TWI357843B 研磨墊之製造方法有权
简体标题：研磨垫之制造方法
公开(公告)号：TWI357843B
公开(公告)日：2012-02-11
申请号：TW097118661
申请日：2008-05-21
申请人：東洋橡膠工業股份有限公司
发明人：佐藤彰則 , 廣瀨純司 , 中村賢治 , 福田武司 , 堂浦真人
IPC分类号： B24B , B24D
CPC分类号： B24D18/00 , B24B37/205 , Y10T428/24322 , Y10T428/24331 , Y10T428/24364
摘要：本發明之目的係於提供一種研磨墊之製造方法，該研磨墊可防止來自研磨區與透光區之間研磨漿之漏出，具有優異的光學檢測精度。本發明係有關於一種研磨墊之製造方法，包含有以下步驟，即：藉機械發泡法，調製氣泡分散型胺基甲酸乙酯組成物；一邊送出面材，或一邊移動皮帶運輸器，一邊在該面材上或皮帶運輸器上之預定位置配置透光區；朝未配置前述透光區之前述面材或皮帶運輸器上，連續吐出前述氣泡分散型胺基甲酸乙酯組成物；在所吐出之前述氣泡分散型胺基甲酸乙酯組成物上堆疊另一面材或皮帶運輸器；一邊調整厚度使其均勻，一邊使前述氣泡分散型胺基甲酸乙酯組成物固化，形成由聚胺酯發泡體構成之研磨區，製作研磨薄片；在前述研磨薄片之一面塗佈含有脂肪族/或脂環族聚異氰酸酯之聚胺酯樹脂塗料，使其固化，形成不透水性膜；及，裁斷前述研磨墊。
简体摘要：本发明之目的系于提供一种研磨垫之制造方法，该研磨垫可防止来自研磨区与透光区之间研磨浆之漏出，具有优异的光学检测精度。本发明系有关于一种研磨垫之制造方法，包含有以下步骤，即：借机械发泡法，调制气泡分散型胺基甲酸乙酯组成物；一边送出面材，或一边移动皮带运输器，一边在该面材上或皮带运输器上之预定位置配置透光区；朝未配置前述透光区之前述面材或皮带运输器上，连续吐出前述气泡分散型胺基甲酸乙酯组成物；在所吐出之前述气泡分散型胺基甲酸乙酯组成物上堆栈另一面材或皮带运输器；一边调整厚度使其均匀，一边使前述气泡分散型胺基甲酸乙酯组成物固化，形成由聚胺酯发泡体构成之研磨区，制作研磨薄片；在前述研磨薄片之一面涂布含有脂肪族/或脂环族聚异氰酸酯之聚胺酯树脂涂料，使其固化，形成不透水性膜；及，裁断前述研磨垫。

6. 发明专利

TW201139060A 研磨墊及其製造方法以及玻璃基板之製造方法审中-公开
简体标题：研磨垫及其制造方法以及玻璃基板之制造方法
公开(公告)号：TW201139060A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：TW100110347
申请日：2011-03-25
申请人：東洋橡膠工業股份有限公司
发明人：佐藤彰則 , 石坂信吉
IPC分类号： B24D , C08G , B24B , H01L
CPC分类号： B24D11/00 , B24B7/241 , B24B37/24
摘要：本發明目的在於提供一種研磨墊及使用該研磨墊之玻璃基板半導體之製造方法，該研磨墊係藉由使粗研磨後的研磨對象物之端部形狀成為突起形狀，能夠使精加工研磨後的研磨對象物亦包含端部成為平坦。為了達成如此的目的，係於一種具有由熱硬化性聚胺甲酸酯發泡體所構成的研磨層之研磨墊中，使熱硬化性聚胺甲酸酯發泡體之在水中浸漬24小時後的ASKER C硬度值在60秒值為82以下，且在頻率1.6Hz之拉伸儲存彈性模數E’(30℃)的值係以滿足下述式(1)的方式調整：Y＜5X-150 (1) (式(1)中，Y係拉伸儲存彈性模數E’(MPa)，X係在水中浸漬24小時後的ASKER C硬度值(60秒值))。
简体摘要：本发明目的在于提供一种研磨垫及使用该研磨垫之玻璃基板半导体之制造方法，该研磨垫系借由使粗研磨后的研磨对象物之端部形状成为突起形状，能够使精加工研磨后的研磨对象物亦包含端部成为平坦。为了达成如此的目的，系于一种具有由热硬化性聚胺甲酸酯发泡体所构成的研磨层之研磨垫中，使热硬化性聚胺甲酸酯发泡体之在水中浸渍24小时后的ASKER C硬度值在60秒值为82以下，且在频率1.6Hz之拉伸存储弹性模数E’(30℃)的值系以满足下述式(1)的方式调整：Y＜5X-150 (1) (式(1)中，Y系拉伸存储弹性模数E’(MPa)，X系在水中浸渍24小时后的ASKER C硬度值(60秒值))。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式