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1. 发明专利

TWI349960B 研磨墊之製造方法有权
简体标题：研磨垫之制造方法
公开(公告)号：TWI349960B
公开(公告)日：2011-10-01
申请号：TW096114786
申请日：2007-04-26
申请人：東洋橡膠工業股份有限公司
发明人：福田武司 , 丸山覺史 , 廣瀨純司 , 中村賢治 , 堂浦真人
IPC分类号： H01L , B24B
CPC分类号： C08G18/4277 , B24B37/24 , B24D3/26 , B24D11/001 , C08G18/4072 , C08G18/632 , C08G18/6607 , C08G2101/00 , C08G2101/0008
摘要：本發明之目的在於提供一種廉價且輕易地製造出耐久性優異之研磨墊的製造方法。本發明之研磨墊的製造方法係包含有藉由機械發泡法調製出氣泡分散胺甲酸酯組成物之調製步驟，在基材層上塗布氣泡分散胺甲酸酯組成物之塗布步驟，使氣泡分散胺甲酸酯組成物硬化以形成具有大致球狀之連續氣泡的聚胺甲酸酯發泡層的形成步驟，以及將聚胺甲酸酯發泡層之厚度調整為一致之調整步驟。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种廉价且轻易地制造出耐久性优异之研磨垫的制造方法。本发明之研磨垫的制造方法系包含有借由机械发泡法调制出气泡分散胺甲酸酯组成物之调制步骤，在基材层上涂布气泡分散胺甲酸酯组成物之涂布步骤，使气泡分散胺甲酸酯组成物硬化以形成具有大致球状之连续气泡的聚胺甲酸酯发泡层的形成步骤，以及将聚胺甲酸酯发泡层之厚度调整为一致之调整步骤。

2. 发明专利

TW200942557A 研磨墊审中-公开
简体标题：研磨垫
公开(公告)号：TW200942557A
公开(公告)日：2009-10-16
申请号：TW098106388
申请日：2009-02-27
申请人：東洋橡膠工業股份有限公司
发明人：廣瀨純司 , 福田武司
IPC分类号： C08G
CPC分类号： B24B37/24 , C08G18/3206 , C08G18/4018 , C08G18/4277 , C08G18/4854 , C08G18/6607 , C08G18/6611 , C08G18/664 , C08G18/6644 , C08G18/6677 , C08G18/797 , C08G2101/00 , C08L83/00 , Y10T428/24273 , Y10T428/249975 , Y10T428/249978 , Y10T428/249979 , Y10T428/31551
摘要：本發明之目的係提供一種耐久性優異且研磨速度之安定性優異之研磨墊，又，本發明係有關於一種研磨墊，其係於基材層上設置研磨層者，其特徵在於：前述研磨層係藉由包含有具開口且略呈球狀之連續氣泡的熱硬化性聚胺基甲酸酯發泡體所構成，又，前述熱硬化性聚胺基甲酸酯發泡體係含有異氰酸酯成分與含活性氫基化合物作為原料成分，且前述異氰酸酯成分係含有二苯甲烷二異氰酸酯及╱或其改質體90重量％以上，前述含活性氫基化合物係含有聚己內酯多元醇60重量％至98重量％，且含有與異氰酸酯基反應之官能基數為3之化合物15重量％至40重量％，又，相對於異氰酸酯成分與含活性氫基化合物之合計量的異氰酸酯基濃度係10重量％至15重量％，且前述研磨層之乾燥狀態壓縮率A與濕潤狀態壓縮率B的變化率[{(B-A)／A}×100]之絕對值為100以下。
简体摘要：本发明之目的系提供一种耐久性优异且研磨速度之安定性优异之研磨垫，又，本发明系有关于一种研磨垫，其系于基材层上设置研磨层者，其特征在于：前述研磨层系借由包含有具开口且略呈球状之连续气泡的热硬化性聚胺基甲酸酯发泡体所构成，又，前述热硬化性聚胺基甲酸酯发泡体系含有异氰酸酯成分与含活性氢基化合物作为原料成分，且前述异氰酸酯成分系含有二苯甲烷二异氰酸酯及╱或其改质体90重量％以上，前述含活性氢基化合物系含有聚己内酯多元醇60重量％至98重量％，且含有与异氰酸酯基反应之官能基数为3之化合物15重量％至40重量％，又，相对于异氰酸酯成分与含活性氢基化合物之合计量的异氰酸酯基浓度系10重量％至15重量％，且前述研磨层之干燥状态压缩率A与湿润状态压缩率B的变化率[{(B-A)／A}×100]之绝对值为100以下。

3. 发明专利

TWI382034B 研磨墊及其製造方法有权
简体标题：研磨垫及其制造方法
公开(公告)号：TWI382034B
公开(公告)日：2013-01-11
申请号：TW096146036
申请日：2007-12-04
申请人：東洋橡膠工業股份有限公司 , TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD.
发明人：福田武司 , FUKUDA, TAKESHI , 廣瀨純司 , HIROSE, JUNJI , 中村賢治 , NAKAMURA, KENJI , 堂浦真人 , DOURA, MASATO , 佐藤彰則 , SATO, AKINORI
IPC分类号： C08G18/32 , C08G18/62 , B24B37/24 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/24 , B24D3/26 , B24D11/001

4. 发明专利

TWI321078B 研磨墊有权
简体标题：研磨垫
公开(公告)号：TWI321078B
公开(公告)日：2010-03-01
申请号：TW096114785
申请日：2007-04-26
申请人：東洋橡膠工業股份有限公司
发明人：福田武司 , 丸山覺史 , 廣瀨純司 , 中村賢治 , 堂浦真人
IPC分类号： B24B , H01L
CPC分类号： B24D3/26 , B24B37/24
摘要：本發明之目的在於提供一種耐久性優異之研磨墊。本發明之研磨墊係在基材層上設有研磨層，且前述研磨層係由具有平均氣泡徑35~300μm之大致球狀連續氣泡的熱硬化性聚胺甲酸酯發泡體構成者。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种耐久性优异之研磨垫。本发明之研磨垫系在基材层上设有研磨层，且前述研磨层系由具有平均气泡径35~300μm之大致球状连续气泡的热硬化性聚胺甲酸酯发泡体构成者。

5. 发明专利

TWI352735B 研磨墊有权
简体标题：研磨垫
公开(公告)号：TWI352735B
公开(公告)日：2011-11-21
申请号：TW096100913
申请日：2007-01-10
申请人：東洋橡膠工業股份有限公司
发明人：福田武司 , 廣瀨純司 , 堂浦真人
IPC分类号： C09K , C08G , B24D , H01L
CPC分类号： C08G18/10 , B24B37/24 , C08G18/61 , C08G2101/00 , C08G2101/0025 , Y10T29/49124 , Y10T428/31678 , C08G18/3814
摘要：本發明之目的係提供一種研磨時之研磨顆粒與研磨屑不易積存於溝中，即使長時間連續使用研磨速度亦不易降低之研磨墊。本發明之研磨墊，係具有含微細氣泡之聚胺甲酸乙酯樹脂發泡體構成之研磨層，且該研磨層之表面形成有凹凸構造者，其特徵在於，前述聚胺甲酸乙酯樹脂發泡體，係含有多元醇及異氰酸鹽之異氰酸鹽基末端預聚物與鏈延長劑之反應硬化體，且含有燃燒殘留量係大於等於8重量%之矽系界面活性劑者。
简体摘要：本发明之目的系提供一种研磨时之研磨颗粒与研磨屑不易积存于沟中，即使长时间连续使用研磨速度亦不易降低之研磨垫。本发明之研磨垫，系具有含微细气泡之聚胺甲酸乙酯树脂发泡体构成之研磨层，且该研磨层之表面形成有凹凸构造者，其特征在于，前述聚胺甲酸乙酯树脂发泡体，系含有多元醇及异氰酸盐之异氰酸盐基末端预聚物与链延长剂之反应硬化体，且含有燃烧残留量系大于等于8重量%之硅系界面活性剂者。

6. 发明专利

TWI330569B 研磨墊（二）有权
简体标题：研磨垫（二）
公开(公告)号：TWI330569B
公开(公告)日：2010-09-21
申请号：TW096117369
申请日：2007-05-16
申请人：東洋橡膠工業股份有限公司
发明人：福田武司 , 廣瀨純司 , 中井良之 , 木村毅
IPC分类号： B24B , H01L
CPC分类号： B24B37/205
摘要：本發明目的在提供一種研磨墊，其具有在較廣之波長範圍(尤其在短波長域)內之優異光學檢知精確度，且可防止自研磨領域與透光領域之間發生漿劑漏出。本發明之研磨墊係於由研磨領域及透光領域所構成之研磨層之一面上積層有至少透明支持薄膜者，而包含至少透光領域及透明支持薄膜之光學檢知領域之透光率在波長300~400nm之全範圍內為40%以上。
简体摘要：本发明目的在提供一种研磨垫，其具有在较广之波长范围(尤其在短波长域)内之优异光学检知精确度，且可防止自研磨领域与透光领域之间发生浆剂漏出。本发明之研磨垫系于由研磨领域及透光领域所构成之研磨层之一面上积层有至少透明支持薄膜者，而包含至少透光领域及透明支持薄膜之光学检知领域之透光率在波长300~400nm之全范围内为40%以上。

7. 发明专利

TWI326288B 積層片及其製造方法失效
简体标题：积层片及其制造方法
公开(公告)号：TWI326288B
公开(公告)日：2010-06-21
申请号：TW095125437
申请日：2006-07-12
申请人：東洋橡膠工業股份有限公司
发明人：廣瀨純司 , 福田武司
IPC分类号： C08G
CPC分类号： B29C44/06 , B32B5/022 , B32B5/20 , B32B5/245 , B32B7/12 , B32B27/065 , B32B27/12 , B32B27/36 , B32B2262/0246 , B32B2266/0278 , B32B2266/06 , B32B2307/724 , B32B2457/00 , B32B2457/14 , B32B2551/00 , B32B2551/08 , C08G18/12 , C08G18/4072 , C08G18/4277 , C08G18/4854 , C08G18/6564 , C08G18/6607 , C08G2101/00 , C08G2101/0008 , C08J9/30 , C08J2375/04 , H01L21/6836 , H01L2221/68327 , H01L2924/01012 , Y10T428/249975 , Y10T428/249978 , Y10T428/249979 , Y10T428/249991 , C08G18/3206
摘要：第1發明之目的係提供一種極為容易製造保持面之表面精度高之積層片之方法。第2發明之目的係提供一種極為容易製造保持面之表面精度高、被研磨材之吸著性優異之積層片之方法。第3發明之目的係提供一種保持面之表面精度高、被研磨材之吸著性優異之積層片及其製造方法。第4發明之目的係提供一種被研磨材之吸著性優異且耐久性優異之積層片。本發明之積層片包含基材片及聚胺基甲酸酯發泡層。
简体摘要：第1发明之目的系提供一种极为容易制造保持面之表面精度高之积层片之方法。第2发明之目的系提供一种极为容易制造保持面之表面精度高、被研磨材之吸着性优异之积层片之方法。第3发明之目的系提供一种保持面之表面精度高、被研磨材之吸着性优异之积层片及其制造方法。第4发明之目的系提供一种被研磨材之吸着性优异且耐久性优异之积层片。本发明之积层片包含基材片及聚胺基甲酸酯发泡层。

8. 发明专利

TWI431026B 研磨墊有权
简体标题：研磨垫
公开(公告)号：TWI431026B
公开(公告)日：2014-03-21
申请号：TW098106388
申请日：2009-02-27
申请人：東洋橡膠工業股份有限公司 , TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD.
发明人：廣瀨純司 , HIROSE, JUNJI , 福田武司 , FUKUDA, TAKESHI
IPC分类号： C08G18/00
CPC分类号： B24B37/24 , C08G18/3206 , C08G18/4018 , C08G18/4277 , C08G18/4854 , C08G18/6607 , C08G18/6611 , C08G18/664 , C08G18/6644 , C08G18/6677 , C08G18/797 , C08G2101/00 , C08L83/00 , Y10T428/24273 , Y10T428/249975 , Y10T428/249978 , Y10T428/249979 , Y10T428/31551

9. 发明专利

TWI374791B 研磨墊之製造方法（一）有权
简体标题：研磨垫之制造方法（一）
公开(公告)号：TWI374791B
公开(公告)日：2012-10-21
申请号：TW096113791
申请日：2007-04-19
申请人：東洋橡膠工業股份有限公司
发明人：福田武司 , 渡邊二夫 , 廣瀨純司 , 中村賢治 , 堂浦真人
IPC分类号： B24B , C08G , H01L
CPC分类号： B24D11/003 , B24B37/205 , B24B37/22 , B24B37/24 , B24B37/26 , B24D3/32 , B24D18/00 , B29C44/24 , B29C44/308 , B29C44/32 , B29C44/322 , B29C44/326 , B29C44/5654 , C08J9/30 , C08J2375/08 , Y10T156/1052 , Y10T156/1059
摘要：本發明之目的係提供製造程序少且生產性優異之研磨墊之製造方法，並提供製造程序少且生產性優異，同時研磨層與緩衝層間不會剝離之積層研磨墊之製造方法。又，本發明之研磨墊之製造方法包含有以下程序，即：藉由機械發泡法調製氣泡分散胺基甲酸酯組成物；送出面材並於該面材上連續地吐出氣泡分散胺基甲酸酯組成物；於該氣泡分散胺基甲酸酯組成物上積層其他面材；均勻地調整厚度，並藉由使氣泡分散胺基甲酸酯組成物硬化，形成由聚胺基甲酸酯發泡體所構成之研磨層；將該研磨層以面呈平行之方式切割為二，藉此，同時地製作二片由研磨層與面材所構成之長形研磨層；及裁切長形研磨層。
简体摘要：本发明之目的系提供制造进程少且生产性优异之研磨垫之制造方法，并提供制造进程少且生产性优异，同时研磨层与缓冲层间不会剥离之积层研磨垫之制造方法。又，本发明之研磨垫之制造方法包含有以下进程，即：借由机械发泡法调制气泡分散胺基甲酸酯组成物；送出面材并于该面材上连续地吐出气泡分散胺基甲酸酯组成物；于该气泡分散胺基甲酸酯组成物上积层其他面材；均匀地调整厚度，并借由使气泡分散胺基甲酸酯组成物硬化，形成由聚胺基甲酸酯发泡体所构成之研磨层；将该研磨层以面呈平行之方式切割为二，借此，同时地制作二片由研磨层与面材所构成之长形研磨层；及裁切长形研磨层。

10. 发明专利

TWI357843B 研磨墊之製造方法有权
简体标题：研磨垫之制造方法
公开(公告)号：TWI357843B
公开(公告)日：2012-02-11
申请号：TW097118661
申请日：2008-05-21
申请人：東洋橡膠工業股份有限公司
发明人：佐藤彰則 , 廣瀨純司 , 中村賢治 , 福田武司 , 堂浦真人
IPC分类号： B24B , B24D
CPC分类号： B24D18/00 , B24B37/205 , Y10T428/24322 , Y10T428/24331 , Y10T428/24364
摘要：本發明之目的係於提供一種研磨墊之製造方法，該研磨墊可防止來自研磨區與透光區之間研磨漿之漏出，具有優異的光學檢測精度。本發明係有關於一種研磨墊之製造方法，包含有以下步驟，即：藉機械發泡法，調製氣泡分散型胺基甲酸乙酯組成物；一邊送出面材，或一邊移動皮帶運輸器，一邊在該面材上或皮帶運輸器上之預定位置配置透光區；朝未配置前述透光區之前述面材或皮帶運輸器上，連續吐出前述氣泡分散型胺基甲酸乙酯組成物；在所吐出之前述氣泡分散型胺基甲酸乙酯組成物上堆疊另一面材或皮帶運輸器；一邊調整厚度使其均勻，一邊使前述氣泡分散型胺基甲酸乙酯組成物固化，形成由聚胺酯發泡體構成之研磨區，製作研磨薄片；在前述研磨薄片之一面塗佈含有脂肪族/或脂環族聚異氰酸酯之聚胺酯樹脂塗料，使其固化，形成不透水性膜；及，裁斷前述研磨墊。
简体摘要：本发明之目的系于提供一种研磨垫之制造方法，该研磨垫可防止来自研磨区与透光区之间研磨浆之漏出，具有优异的光学检测精度。本发明系有关于一种研磨垫之制造方法，包含有以下步骤，即：借机械发泡法，调制气泡分散型胺基甲酸乙酯组成物；一边送出面材，或一边移动皮带运输器，一边在该面材上或皮带运输器上之预定位置配置透光区；朝未配置前述透光区之前述面材或皮带运输器上，连续吐出前述气泡分散型胺基甲酸乙酯组成物；在所吐出之前述气泡分散型胺基甲酸乙酯组成物上堆栈另一面材或皮带运输器；一边调整厚度使其均匀，一边使前述气泡分散型胺基甲酸乙酯组成物固化，形成由聚胺酯发泡体构成之研磨区，制作研磨薄片；在前述研磨薄片之一面涂布含有脂肪族/或脂环族聚异氰酸酯之聚胺酯树脂涂料，使其固化，形成不透水性膜；及，裁断前述研磨垫。

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