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    • 2. 发明专利
    • 研磨墊
    • 研磨垫
    • TW200942557A
    • 2009-10-16
    • TW098106388
    • 2009-02-27
    • 東洋橡膠工業股份有限公司
    • 廣瀨純司福田武司
    • C08G
    • B24B37/24C08G18/3206C08G18/4018C08G18/4277C08G18/4854C08G18/6607C08G18/6611C08G18/664C08G18/6644C08G18/6677C08G18/797C08G2101/00C08L83/00Y10T428/24273Y10T428/249975Y10T428/249978Y10T428/249979Y10T428/31551
    • 本發明之目的係提供一種耐久性優異且研磨速度之安定性優異之研磨墊,又,本發明係有關於一種研磨墊,其係於基材層上設置研磨層者,其特徵在於:前述研磨層係藉由包含有具開口且略呈球狀之連續氣泡的熱硬化性聚胺基甲酸酯發泡體所構成,又,前述熱硬化性聚胺基甲酸酯發泡體係含有異氰酸酯成分與含活性氫基化合物作為原料成分,且前述異氰酸酯成分係含有二苯甲烷二異氰酸酯及╱或其改質體90重量%以上,前述含活性氫基化合物係含有聚己內酯多元醇60重量%至98重量%,且含有與異氰酸酯基反應之官能基數為3之化合物15重量%至40重量%,又,相對於異氰酸酯成分與含活性氫基化合物之合計量的異氰酸酯基濃度係10重量%至15重量%,且前述研磨層之乾燥狀態壓縮率A與濕潤狀態壓縮率B的變化率[{(B-A)/A}×100]之絕對值為100以下。
    • 本发明之目的系提供一种耐久性优异且研磨速度之安定性优异之研磨垫,又,本发明系有关于一种研磨垫,其系于基材层上设置研磨层者,其特征在于:前述研磨层系借由包含有具开口且略呈球状之连续气泡的热硬化性聚胺基甲酸酯发泡体所构成,又,前述热硬化性聚胺基甲酸酯发泡体系含有异氰酸酯成分与含活性氢基化合物作为原料成分,且前述异氰酸酯成分系含有二苯甲烷二异氰酸酯及╱或其改质体90重量%以上,前述含活性氢基化合物系含有聚己内酯多元醇60重量%至98重量%,且含有与异氰酸酯基反应之官能基数为3之化合物15重量%至40重量%,又,相对于异氰酸酯成分与含活性氢基化合物之合计量的异氰酸酯基浓度系10重量%至15重量%,且前述研磨层之干燥状态压缩率A与湿润状态压缩率B的变化率[{(B-A)/A}×100]之绝对值为100以下。