会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 2. 发明专利
    • 抗蝕劑組成物和使用它的裝置的製造方法
    • 抗蚀剂组成物和使用它的设备的制造方法
    • TW201807491A
    • 2018-03-01
    • TW106114066
    • 2017-04-27
    • 東洋合成工業股份有限公司TOYO GOSEI CO., LTD.
    • 榎本智至ENOMOTO, SATOSHI菅優介SUGA, YUSUKE
    • G03F7/004C07C323/09C07C323/19C07C323/20C07D317/12C07D319/06C07D327/04C07D339/06C08F20/38G03F7/038G03F7/039G03F7/20H01L21/027
    • C07C25/18C07C309/06C07C323/18C09K3/00G03F7/004G03F7/039G03F7/20G03F7/38
    • 本發明提供一種抗蝕劑組成物,其提高酸產生效率,形成具有高敏感度、高解析度和高LWR特性的光致抗蝕劑。下述通式(1)表示的化合物。 (上述式(1)中,Ar1和Ar2各自獨立地為可具有取代基的亞苯基,R1為選自可具有取代基的由硫代烷氧基、芳硫基和硫代烷氧基苯基所組成群組中的任一者,X為選自由硫原子、氧原子和直接鍵所組成群組中的任一者,R2為可具有取代基的烷基和芳基中的任一者,Y各自獨立地為氧原子和硫原子中的任一者,R3和R4各自獨立地為可具有取代基的直鏈狀、支鏈狀或環狀的烷基,所述R3和R4可彼此鍵合而與式中的2個Y形成環結構,R1、R2、R3和R4所具有的烷基中的至少1個碳-碳單鍵可被碳-碳雙鍵或碳-碳三鍵取代,R1、R2、R3和R4所具有的烷基中的至少1個亞甲基可被二價的含雜原子基團取代
    • 本发明提供一种抗蚀剂组成物,其提高酸产生效率,形成具有高敏感度、高分辨率和高LWR特性的光致抗蚀剂。下述通式(1)表示的化合物。 (上述式(1)中,Ar1和Ar2各自独立地为可具有取代基的亚苯基,R1为选自可具有取代基的由硫代烷氧基、芳硫基和硫代烷氧基苯基所组成群组中的任一者,X为选自由硫原子、氧原子和直接键所组成群组中的任一者,R2为可具有取代基的烷基和芳基中的任一者,Y各自独立地为氧原子和硫原子中的任一者,R3和R4各自独立地为可具有取代基的直链状、支链状或环状的烷基,所述R3和R4可彼此键合而与式中的2个Y形成环结构,R1、R2、R3和R4所具有的烷基中的至少1个碳-碳单键可被碳-碳双键或碳-碳三键取代,R1、R2、R3和R4所具有的烷基中的至少1个亚甲基可被二价的含杂原子基团取代