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1. 发明专利

TWI642654B 組成物及製造器件之方法有权
简体标题：组成物及制造器件之方法
公开(公告)号：TWI642654B
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW103121689
申请日：2014-06-24
申请人：東洋合成工業股份有限公司 , TOYO GOSEI CO., LTD. , 國立大學法人大阪大學 , OSAKA UNIVERSITY
发明人：榎本智至 , ENOMOTO, SATOSHI
IPC分类号： C07C43/23 , C07C35/38 , C07C39/12 , C07D219/06 , C07D311/86 , C07D335/16 , C07C49/782 , C07C33/24 , C07D309/12 , G03F7/028 , G03F7/004 , G03F7/20 , H01L21/027

2. 发明专利

TW201807491A 抗蝕劑組成物和使用它的裝置的製造方法审中-公开
简体标题：抗蚀剂组成物和使用它的设备的制造方法
公开(公告)号：TW201807491A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW106114066
申请日：2017-04-27
申请人：東洋合成工業股份有限公司 , TOYO GOSEI CO., LTD.
发明人：榎本智至 , ENOMOTO, SATOSHI , 菅優介 , SUGA, YUSUKE
IPC分类号： G03F7/004 , C07C323/09 , C07C323/19 , C07C323/20 , C07D317/12 , C07D319/06 , C07D327/04 , C07D339/06 , C08F20/38 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： C07C25/18 , C07C309/06 , C07C323/18 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/38
摘要：本發明提供一種抗蝕劑組成物，其提高酸產生效率，形成具有高敏感度、高解析度和高LWR特性的光致抗蝕劑。下述通式(1)表示的化合物。 (上述式(1)中，Ar1和Ar2各自獨立地為可具有取代基的亞苯基，R1為選自可具有取代基的由硫代烷氧基、芳硫基和硫代烷氧基苯基所組成群組中的任一者，X為選自由硫原子、氧原子和直接鍵所組成群組中的任一者，R2為可具有取代基的烷基和芳基中的任一者，Y各自獨立地為氧原子和硫原子中的任一者，R3和R4各自獨立地為可具有取代基的直鏈狀、支鏈狀或環狀的烷基，所述R3和R4可彼此鍵合而與式中的2個Y形成環結構，R1、R2、R3和R4所具有的烷基中的至少1個碳-碳單鍵可被碳-碳雙鍵或碳-碳三鍵取代，R1、R2、R3和R4所具有的烷基中的至少1個亞甲基可被二價的含雜原子基團取代
简体摘要：本发明提供一种抗蚀剂组成物，其提高酸产生效率，形成具有高敏感度、高分辨率和高LWR特性的光致抗蚀剂。下述通式(1)表示的化合物。 (上述式(1)中，Ar1和Ar2各自独立地为可具有取代基的亚苯基，R1为选自可具有取代基的由硫代烷氧基、芳硫基和硫代烷氧基苯基所组成群组中的任一者，X为选自由硫原子、氧原子和直接键所组成群组中的任一者，R2为可具有取代基的烷基和芳基中的任一者，Y各自独立地为氧原子和硫原子中的任一者，R3和R4各自独立地为可具有取代基的直链状、支链状或环状的烷基，所述R3和R4可彼此键合而与式中的2个Y形成环结构，R1、R2、R3和R4所具有的烷基中的至少1个碳-碳单键可被碳-碳双键或碳-碳三键取代，R1、R2、R3和R4所具有的烷基中的至少1个亚甲基可被二价的含杂原子基团取代

3. 发明专利

TW201302989A 液晶組合物、液晶顯示裝置及液晶顯示裝置之製造方法审中-公开
简体标题：液晶组合物、液晶显示设备及液晶显示设备之制造方法
公开(公告)号：TW201302989A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101108180
申请日：2012-03-09
申请人：夏普股份有限公司 , SHARP KABUSHIKI KAISHA , 東洋合成工業股份有限公司 , TOYO GOSEI CO., LTD.
发明人：水崎真伸 , MIZUSAKI, MASANOBU , 山田祐一郎 , YAMADA, YUICHIRO , 榎本智至 , ENOMOTO, SATOSHI , 原祐樹 , HARA, YUKI , 菊地英夫 , KIKUCHI, HIDEO
IPC分类号： C09K19/00 , G02F1/1337
CPC分类号： G02F1/1337 , C09K19/2014 , C09K19/56 , C09K2019/0448 , G02F1/133707 , G02F1/133711 , G02F1/133788 , G02F1/1343 , G02F2001/133715
摘要：本發明提供一種可同時實現稼動時間(tact time)之縮短化與獲得良好之顯示品質的液晶組合物，以及使用有該液晶組合物之液晶顯示裝置及液晶顯示裝置之製造方法。本發明之液晶組合物含有液晶材料及一種以上之自由基聚合性單體，且上述自由基聚合性單體之至少一者為具有藉由光照射引發之自身裂解反應而生成自由基之結構、且含有兩個以上之自由基聚合性基的化合物。
简体摘要：本发明提供一种可同时实现稼动时间(tact time)之缩短化与获得良好之显示品质的液晶组合物，以及使用有该液晶组合物之液晶显示设备及液晶显示设备之制造方法。本发明之液晶组合物含有液晶材料及一种以上之自由基聚合性单体，且上述自由基聚合性单体之至少一者为具有借由光照射引发之自身裂解反应而生成自由基之结构、且含有两个以上之自由基聚合性基的化合物。

4. 发明专利

TWI632231B 化學放大阻劑組成物和製造裝置之方法有权
简体标题：化学放大阻剂组成物和制造设备之方法
公开(公告)号：TWI632231B
公开(公告)日：2018-08-11
申请号：TW103116796
申请日：2014-05-13
申请人：東洋合成工業股份有限公司 , TOYO GOSEI CO., LTD. , 國立大學法人大阪大學 , OSAKA UNIVERSITY
发明人：榎本智至 , ENOMOTO, SATOSHI
IPC分类号： C09K3/00 , C07D309/12 , C07C35/42 , C07C39/12 , C07D219/06 , C07D311/86 , C07D335/16 , C07C49/245 , C07C33/24 , G03F7/039 , G03F1/20 , G03F1/22 , G03F7/26 , H01L21/306 , H01L21/027

5. 发明专利

TWI564286B 化合物，其製造方法及自由基聚合起始劑以及光硬化性組成物有权
简体标题：化合物，其制造方法及自由基聚合起始剂以及光硬化性组成物
公开(公告)号：TWI564286B
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW101103337
申请日：2012-02-02
申请人：東洋合成工業股份有限公司 , TOYO GOSEI CO., LTD.
发明人：榎本智至 , ENOMOTO, SATOSHI , 原祐樹 , HARA, YUKI
IPC分类号： C07C69/604 , C07C67/313 , G03F7/031
CPC分类号： C08F2/50 , C07C69/54

6. 发明专利

TW201512162A 用於增進化學物種之產生之試劑审中-公开
简体标题：用于增进化学物种之产生之试剂
公开(公告)号：TW201512162A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW103121689
申请日：2014-06-24
申请人：東洋合成工業股份有限公司 , TOYO GOSEI CO., LTD.
发明人：榎本智至 , ENOMOTO, SATOSHI
IPC分类号： C07C43/23 , C07C35/38 , C07C39/12 , C07D219/06 , C07D311/86 , C07D335/16 , C07C49/782 , C07C33/24 , C07D309/12 , G03F7/028 , G03F7/004 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： C07D335/16 , C07C33/24 , C07C35/38 , C07C35/40 , C07C43/23 , C07C49/83 , C07C2603/18 , C07C2603/24 , C07D219/06 , C07D309/12 , C07D311/86 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/16 , G03F7/2051 , G03F7/36 , H01L21/0271 , H01L21/3081
摘要：本發明係揭示增進光酸產生劑的酸產生之試劑以及含有此種試劑之組成物。
简体摘要：本发明系揭示增进光酸产生剂的酸产生之试剂以及含有此种试剂之组成物。

7. 发明专利

TW201500528A 阻劑之試劑與組成物审中-公开
简体标题：阻剂之试剂与组成物
公开(公告)号：TW201500528A
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW103116796
申请日：2014-05-13
申请人：東洋合成工業股份有限公司 , TOYO GOSEI CO., LTD.
发明人：榎本智至 , ENOMOTO, SATOSHI
IPC分类号： C09K3/00 , C07D309/12 , C07C35/42 , C07C39/12 , C07D219/06 , C07D311/86 , C07D335/16 , C07C49/245 , C07C33/24 , G03F7/039 , G03F1/20 , G03F1/22 , G03F7/26 , H01L21/306 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C33/24 , C07C35/38 , C07C35/40 , C07C49/83 , C07C2603/18 , C07D219/06 , C07D309/12 , C07D311/86 , C07D335/16 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/2004 , G03F7/2037 , G03F7/2039 , G03F7/36
摘要：本發明描述促進光酸產生劑之酸產生之試劑及包含此試劑之組成物。
简体摘要：本发明描述促进光酸产生剂之酸产生之试剂及包含此试剂之组成物。

8. 发明专利

TW201821402A 組成物和使用該組成物的裝置的製造方法审中-公开
简体标题：组成物和使用该组成物的设备的制造方法
公开(公告)号：TW201821402A
公开(公告)日：2018-06-16
申请号：TW106135350
申请日：2017-10-16
申请人：日商東洋合成工業股份有限公司 , TOYO GOSEI CO., LTD.
发明人：菅優介 , SUGA, YUSUKE , 榎本智至 , ENOMOTO, SATOSHI
IPC分类号： C07C309/06 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07D317/12 , C07D333/76 , C07C49/84 , C07D317/72 , G03F7/004 , C08F212/14 , C08F220/10 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/38 , H01L21/027
摘要：本發明提供適用於使用電子束或極紫外線等第1活性能量線和UV等第2活性能量線這2種活性能量線的微影製程用抗蝕劑組成物的、高敏感度且LWR等圖案特性優異的鎓鹽和組成物。根據本發明，提供由下述通式(1)、下述通式(2)、下述通式(11)、和下述通式(12)中的任一者表示的鎓鹽。
简体摘要：本发明提供适用于使用电子束或极紫外线等第1活性能量线和UV等第2活性能量线这2种活性能量线的微影制程用抗蚀剂组成物的、高敏感度且LWR等图案特性优异的鎓盐和组成物。根据本发明，提供由下述通式(1)、下述通式(2)、下述通式(11)、和下述通式(12)中的任一者表示的鎓盐。

9. 发明专利

TWI525177B 液晶組合物、液晶顯示裝置及液晶顯示裝置之製造方法有权
简体标题：液晶组合物、液晶显示设备及液晶显示设备之制造方法
公开(公告)号：TWI525177B
公开(公告)日：2016-03-11
申请号：TW101108180
申请日：2012-03-09
申请人：夏普股份有限公司 , SHARP KABUSHIKI KAISHA , 東洋合成工業股份有限公司 , TOYO GOSEI CO., LTD.
发明人：水崎真伸 , MIZUSAKI, MASANOBU , 山田祐一郎 , YAMADA, YUICHIRO , 榎本智至 , ENOMOTO, SATOSHI , 原祐樹 , HARA, YUKI , 菊地英夫 , KIKUCHI, HIDEO
IPC分类号： C09K19/00 , G02F1/1337
CPC分类号： G02F1/1337 , C09K19/2014 , C09K19/56 , C09K2019/0448 , G02F1/133707 , G02F1/133711 , G02F1/133788 , G02F1/1343 , G02F2001/133715

10. 发明专利

TW201602718A 用以提升化學物種之產生的試劑及製造裝置审中-公开
简体标题：用以提升化学物种之产生的试剂及制造设备
公开(公告)号：TW201602718A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW103134853
申请日：2014-10-07
申请人：東洋合成工業股份有限公司 , TOYO GOSEI CO., LTD.
发明人：榎本智至 , ENOMOTO, SATOSHI , 宮澤貴士 , MIYAZAWA, TAKASHI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , C08K5/06 , C08K5/1545 , C08F220/28 , C08F220/38 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0382 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/095 , G03F7/2022 , G03F7/203
摘要：本發明揭露一種提升光酸產生劑的酸產生的試劑及含有這種試劑的組成物。
简体摘要：本发明揭露一种提升光酸产生剂的酸产生的试剂及含有这种试剂的组成物。

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