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1. 发明专利

TW201439045A 製備雙（３－胺基苯基）二硫化物及３－胺基硫醇之方法审中-公开
简体标题：制备双（３－胺基苯基）二硫化物及３－胺基硫醇之方法
公开(公告)号：TW201439045A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：TW102145489
申请日：2013-12-11
申请人：拜耳作物科學股份有限公司 , BAYER CROPSCIENCE AKTIENGESELLSCHAFT
发明人：海莫勒湯瑪士 , HIMMLER, THOMAS , 紐曼茱莉亞 , NEUMANN, JULIA
IPC分类号： C07C319/06 , C07C319/22 , C07C319/24 , C07C323/09 , C07C323/34 , C07C323/37
CPC分类号： C07C319/06 , C07C319/22 , C07C319/24 , C07C323/09 , C07C323/34 , C07C323/35 , C07C323/37
摘要：本發明係關於製備通式(I)的雙(3-胺基苯基)二硫化物及通式(II)的3-胺基硫醇之新穎方法，其中X、Y具有在發明說明中陳述之意義，其作為中間物用於製備具有殺蟲、殺蟎及殺線蟲活性的苯基亞碸類。
简体摘要：本发明系关于制备通式(I)的双(3-胺基苯基)二硫化物及通式(II)的3-胺基硫醇之新颖方法，其中X、Y具有在发明说明中陈述之意义，其作为中间物用于制备具有杀虫、杀螨及杀线虫活性的苯基亚砜类。

2. 发明专利

TWI466854B 光起始劑混合物有权
简体标题：光起始剂混合物
公开(公告)号：TWI466854B
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW098118759
申请日：2009-06-05
申请人：席巴控股股份有限公司 , CIBA HOLDING INC.
发明人：松本明 , MATSUMOTO, AKIRA , 倉久敏 , KURA, HISATOSHI , 史圖特卡堤亞 , STUDER, KATIA , 維雷鈕薩巴斯田 , VILLENEUVE, SEBASTIEN
IPC分类号： C07C251/64 , C07C323/22 , C07D333/22 , C07D209/86 , C07C323/09 , C07C323/47 , C07D277/74 , C07D295/112 , G03F7/004 , G03F7/031 , C08F2/50 , G02B5/20
CPC分类号： C07D209/86 , C07C251/66 , C07D333/38 , C08F2/50 , C09D11/101 , G03F7/0007 , G03F7/0037 , G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/105

3. 发明专利

TW201815772A 製備3-烷基硫基-2-氯-N-(1-烷基-1H-四唑-5-基)-4-三氟甲基苯甲醯胺之方法审中-公开
简体标题：制备3-烷基硫基-2-氯-N-(1-烷基-1H-四唑-5-基)-4-三氟甲基苯甲酰胺之方法
公开(公告)号：TW201815772A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106133880
申请日：2017-09-30
申请人：德商拜耳作物科學公司 , BAYER CROPSCIENCE AG
发明人：加侖坎普丹尼爾 , GALLENKAMP, DANIEL , 福特馬克詹姆士 , FORD, MARK JAMES
IPC分类号： C07D257/06 , C07B43/06 , C07C323/09 , C07C323/62 , A01N43/713
摘要：本發明闡述製備下式(I)之3-烷基硫基-2-氯-N-(1-烷基-1H-四唑-5-基)-4-三氟甲基苯甲醯胺之方法。其中取代基R1及R2係諸如烷基及取代苯基之基團。
简体摘要：本发明阐述制备下式(I)之3-烷基硫基-2-氯-N-(1-烷基-1H-四唑-5-基)-4-三氟甲基苯甲酰胺之方法。其中取代基R1及R2系诸如烷基及取代苯基之基团。

4. 发明专利

TW201321347A 有害生物防治劑审中-公开
简体标题：有害生物防治剂
公开(公告)号：TW201321347A
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW101129933
申请日：2012-08-17
申请人：石原產業股份有限公司 , ISHIHARA SANGYO KAISHA, LTD.
发明人：中元健一 , NAKAMOTO, KENICHI , 小南秀真 , KOMINAMI, HIDEMASA , 芹澤將和 , SERIZAWA, MASAKAZU , 西濱悠子 , NISHIHAMA, YUKO , 可兒達也 , KANI, TATSUYA , 島田達也 , SHIMADA, TATSUYA
IPC分类号： C07C317/14 , C07C317/22 , C07C317/32 , C07C321/28 , C07C323/09 , C07C323/18 , C07C323/31 , C07C323/65 , C07D213/24 , C07D213/64 , C07D237/14 , C07D239/34 , A01N31/14 , A01N33/22 , A01N37/34 , A01N41/10 , A01N43/40 , A01N43/54 , A01N43/58 , A01P7/00
CPC分类号： C07D239/34 , A01N31/08 , A01N31/14 , A01N33/18 , A01N41/10 , A01N43/40 , A01N43/54 , A01N43/58 , C07C317/14 , C07C317/22 , C07C323/09 , C07C323/19 , C07C323/65 , C07D213/30 , C07D213/61 , C07D213/64 , C07D213/65 , C07D213/68 , C07D213/70 , C07D213/84 , C07D237/14 , C07D237/18 , C07D239/38 , C07D295/096
摘要：本發明係提供一種新穎的有害生物防治劑。本發明係提供一種式(I)所示之化合物或其鹽，〔式中，Q係可取代之苯基或可取代之吡啶基；W係氧原子或S(O)m；A1~A5係-C(R5)=或氮原子，且A1~A5可為氮原子的數目為0~2個；B1~B4可各自相同或相異，係氫原子、鹵素原子、烷基或鹵烷基；R1及R2各自係氫原子、鹵素原子、烷基、鹵烷基、烷氧基、鹵烷氧基或氰基；R3係烷基或鹵烷基〕。
简体摘要：本发明系提供一种新颖的有害生物防治剂。本发明系提供一种式(I)所示之化合物或其盐，〔式中，Q系可取代之苯基或可取代之吡啶基；W系氧原子或S(O)m；A1~A5系-C(R5)=或氮原子，且A1~A5可为氮原子的数目为0~2个；B1~B4可各自相同或相异，系氢原子、卤素原子、烷基或卤烷基；R1及R2各自系氢原子、卤素原子、烷基、卤烷基、烷氧基、卤烷氧基或氰基；R3系烷基或卤烷基〕。

5. 发明专利

TWI623520B 製備雙（３－胺基苯基）二硫化物及３－胺基硫醇之方法有权
简体标题：制备双（３－胺基苯基）二硫化物及３－胺基硫醇之方法
公开(公告)号：TWI623520B
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：TW102145489
申请日：2013-12-11
申请人：德商拜耳作物科學股份有限公司 , BAYER CROPSCIENCE AKTIENGESELLSCHAFT
发明人：海莫勒湯瑪士 , HIMMLER, THOMAS , 紐曼茱莉亞 , NEUMANN, JULIA
IPC分类号： C07C319/06 , C07C319/22 , C07C319/24 , C07C323/09 , C07C323/34 , C07C323/37

6. 发明专利

TW201807491A 抗蝕劑組成物和使用它的裝置的製造方法审中-公开
简体标题：抗蚀剂组成物和使用它的设备的制造方法
公开(公告)号：TW201807491A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW106114066
申请日：2017-04-27
申请人：東洋合成工業股份有限公司 , TOYO GOSEI CO., LTD.
发明人：榎本智至 , ENOMOTO, SATOSHI , 菅優介 , SUGA, YUSUKE
IPC分类号： G03F7/004 , C07C323/09 , C07C323/19 , C07C323/20 , C07D317/12 , C07D319/06 , C07D327/04 , C07D339/06 , C08F20/38 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： C07C25/18 , C07C309/06 , C07C323/18 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/38
摘要：本發明提供一種抗蝕劑組成物，其提高酸產生效率，形成具有高敏感度、高解析度和高LWR特性的光致抗蝕劑。下述通式(1)表示的化合物。 (上述式(1)中，Ar1和Ar2各自獨立地為可具有取代基的亞苯基，R1為選自可具有取代基的由硫代烷氧基、芳硫基和硫代烷氧基苯基所組成群組中的任一者，X為選自由硫原子、氧原子和直接鍵所組成群組中的任一者，R2為可具有取代基的烷基和芳基中的任一者，Y各自獨立地為氧原子和硫原子中的任一者，R3和R4各自獨立地為可具有取代基的直鏈狀、支鏈狀或環狀的烷基，所述R3和R4可彼此鍵合而與式中的2個Y形成環結構，R1、R2、R3和R4所具有的烷基中的至少1個碳-碳單鍵可被碳-碳雙鍵或碳-碳三鍵取代，R1、R2、R3和R4所具有的烷基中的至少1個亞甲基可被二價的含雜原子基團取代
简体摘要：本发明提供一种抗蚀剂组成物，其提高酸产生效率，形成具有高敏感度、高分辨率和高LWR特性的光致抗蚀剂。下述通式(1)表示的化合物。 (上述式(1)中，Ar1和Ar2各自独立地为可具有取代基的亚苯基，R1为选自可具有取代基的由硫代烷氧基、芳硫基和硫代烷氧基苯基所组成群组中的任一者，X为选自由硫原子、氧原子和直接键所组成群组中的任一者，R2为可具有取代基的烷基和芳基中的任一者，Y各自独立地为氧原子和硫原子中的任一者，R3和R4各自独立地为可具有取代基的直链状、支链状或环状的烷基，所述R3和R4可彼此键合而与式中的2个Y形成环结构，R1、R2、R3和R4所具有的烷基中的至少1个碳-碳单键可被碳-碳双键或碳-碳三键取代，R1、R2、R3和R4所具有的烷基中的至少1个亚甲基可被二价的含杂原子基团取代

7. 发明专利

TWI528366B 有機分子記憶體有权
简体标题：有机分子内存
公开(公告)号：TWI528366B
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW101109862
申请日：2012-03-22
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：西澤秀之 , NISHIZAWA, HIDEYUKI , 服部繁樹 , HATTORI, SHIGEKI , 寺井勝哉 , TERAI, MASAYA , 御子柴智 , MIKOSHIBA, SATOSHI , 淺川鋼兒 , ASAKAWA, KOJI , 多田宰 , TADA, TSUKASA
IPC分类号： G11C13/02 , C07C323/09 , C09B47/04
CPC分类号： H01L29/792 , B82Y10/00 , G11C13/0014 , G11C13/0016 , G11C2213/53 , H01L29/16 , H01L29/42348 , H01L29/513 , H01L29/517 , H01L29/518 , H01L51/0077 , H01L51/0092 , H01L51/0098 , H01L51/0591

8. 发明专利

TW201301284A 有機分子記憶體审中-公开
简体标题：有机分子内存
公开(公告)号：TW201301284A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW101109862
申请日：2012-03-22
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：西澤秀之 , NISHIZAWA, HIDEYUKI , 服部繁樹 , HATTORI, SHIGEKI , 寺井勝哉 , TERAI, MASAYA , 御子柴智 , MIKOSHIBA, SATOSHI , 淺川鋼兒 , ASAKAWA, KOJI , 多田宰 , TADA, TSUKASA
IPC分类号： G11C13/02 , C07C323/09 , C09B47/04
CPC分类号： H01L29/792 , B82Y10/00 , G11C13/0014 , G11C13/0016 , G11C2213/53 , H01L29/16 , H01L29/42348 , H01L29/513 , H01L29/517 , H01L29/518 , H01L51/0077 , H01L51/0092 , H01L51/0098 , H01L51/0591
摘要：本發明實施形態之有機分子記憶體，該有機分子記憶體為具備第一導電層、第二導電層、設置在第一導電層與第二導電層之間、含有電阻變化型分子鏈或電荷累積型分子鏈、且電阻變化型分子鏈或電荷累積型分子鏈具備拉電子基之有機分子層。
简体摘要：本发明实施形态之有机分子内存，该有机分子内存为具备第一导电层、第二导电层、设置在第一导电层与第二导电层之间、含有电阻变化型分子链或电荷累积型分子链、且电阻变化型分子链或电荷累积型分子链具备拉电子基之有机分子层。

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