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1. 发明专利

TWI682424B 電漿處理裝置及電漿處理方法有权
简体标题：等离子处理设备及等离子处理方法
公开(公告)号：TWI682424B
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW104135082
申请日：2015-10-26
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：山涌純 , YAMAWAKU, JUN , 松土龍夫 , MATSUDO, TATSUO , 輿水地塩 , KOSHIMIZU, CHISHIO
IPC分类号： H01J37/32

2. 发明专利

TWI553717B 聚焦環及具備該聚焦環之基板處理裝置有权
简体标题：聚焦环及具备该聚焦环之基板处理设备
公开(公告)号：TWI553717B
公开(公告)日：2016-10-11
申请号：TW101100542
申请日：2012-01-06
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：山涌純 , YAMAWAKU, JUN , 輿水地鹽 , KOSHIMIZU, CHISHIO
IPC分类号： H01L21/30 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32642 , H01J37/32724

3. 发明专利

TW201630029A 電漿處理裝置及電漿處理方法审中-公开
简体标题：等离子处理设备及等离子处理方法
公开(公告)号：TW201630029A
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：TW104135082
申请日：2015-10-26
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：山涌純 , YAMAWAKU, JUN , 松土龍夫 , MATSUDO, TATSUO , 輿水地塩 , KOSHIMIZU, CHISHIO
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/3211 , H01J37/32183 , H01J37/32651 , H01J2237/334
摘要：提供一種在電漿處理裝置(該電漿處理裝置，係利用高頻天線使電漿產生，對被處理基板進行處理)中，調整電漿密度之面內分布的技術。將高頻電源(50)連接於漩渦狀之高頻天線(5)的內端部(6)，使作為外側端部的中間部位(8)接地，構成第1高頻天線元件(51)，將高頻天線(5)之外端部(7)設成為開放端，將從中間部位(8)至外端部(7)的線路長度設定為λ/4，構成第2高頻天線元件(52)。而且，構成為與高頻電源(50)串聯地設置第1可變容量電容器(55)，與高頻電源(50)並聯地設置第2可變容量電容器(56)，在接地電位與中間部位(8)之間設置第3可變容量電容器(57)，在第1高頻天線元件(51)與第2高頻天線元件(52)分別出現第1及第2共振頻率。
简体摘要：提供一种在等离子处理设备(该等离子处理设备，系利用高频天线使等离子产生，对被处理基板进行处理)中，调整等离子密度之面内分布的技术。将高频电源(50)连接于漩涡状之高频天线(5)的内端部(6)，使作为外侧端部的中间部位(8)接地，构成第1高频天线组件(51)，将高频天线(5)之外端部(7)设成为开放端，将从中间部位(8)至外端部(7)的线路长度设置为λ/4，构成第2高频天线组件(52)。而且，构成为与高频电源(50)串联地设置第1可变容量电容器(55)，与高频电源(50)并联地设置第2可变容量电容器(56)，在接地电位与中间部位(8)之间设置第3可变容量电容器(57)，在第1高频天线组件(51)与第2高频天线组件(52)分别出现第1及第2共振频率。

4. 发明专利

TWI497044B 溫度測定方法及記憶媒體有权
简体标题：温度测定方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI497044B
公开(公告)日：2015-08-21
申请号：TW100134604
申请日：2011-09-26
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：輿水地鹽 , KOSHIMIZU, CHISHIO , 山涌純 , YAMAWAKU, JUN , 松土龍夫 , MATSUDO, TATSUO
IPC分类号： G01K11/00 , G01B11/06
CPC分类号： G01K11/125 , G01B9/02021 , G01B9/02025 , G01B9/0209 , G01B11/0675

5. 发明专利

TW201304032A 基板處理裝置之處理室內構成構件及其溫度測定方法审中-公开
简体标题：基板处理设备之处理室内构成构件及其温度测定方法
公开(公告)号：TW201304032A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101109354
申请日：2012-03-19
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：山涌純 , YAMAWAKU, JUN , 輿水地鹽 , KOSHIMIZU, CHISHIO , 松土龍夫 , MATSUDO, TATSUO
IPC分类号： H01L21/67 , G01K11/12
CPC分类号： G01K11/14 , G01K5/48 , H01L21/67248
摘要：本發明提供一種基板處理裝置之處理室內構成構件，即便因磨耗等而破壞表面與背面的平行，仍可使用利用低同調光的干涉之溫度測定裝置，施行正確的溫度測定。於真空氣體環境使用並測定溫度之對焦環25，具有：損耗面25a，暴露於電漿產生之損耗氣體環境；非損耗面25b，未暴露於損耗氣體環境；薄壁部25T，具備互為平行的頂面25Ta及底面25Tb；以及包覆構件25d，包覆於薄壁部25T之頂面25Ta；並對薄壁部25T之頂面25Ta與底面25Tb，分別施以鏡面加工。
简体摘要：本发明提供一种基板处理设备之处理室内构成构件，即便因磨耗等而破坏表面与背面的平行，仍可使用利用低同调光的干涉之温度测定设备，施行正确的温度测定。于真空气体环境使用并测定温度之对焦环25，具有：损耗面25a，暴露于等离子产生之损耗气体环境；非损耗面25b，未暴露于损耗气体环境；薄壁部25T，具备互为平行的顶面25Ta及底面25Tb；以及包覆构件25d，包覆于薄壁部25T之顶面25Ta；并对薄壁部25T之顶面25Ta与底面25Tb，分别施以镜面加工。

7. 发明专利

TWI540942B 電漿處理裝置及電漿處理方法有权
简体标题：等离子处理设备及等离子处理方法
公开(公告)号：TWI540942B
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW099136519
申请日：2010-10-26
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：山澤陽平 , YAMAZAWA, YOHEI , 齊藤昌司 , SAITO, MASASHI , 傳寶一樹 , DENPOH, KAZUKI , 輿水地鹽 , KOSHIMIZU, CHISHIO , 山涌純 , YAMAWAKU, JUN
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/3211 , H01J37/321 , H01J37/32174 , H01J37/3244 , H01J2237/334 , H01L21/67069 , H01L21/6831 , H05H1/46

8. 发明专利

TWI526122B 電漿處理裝置有权
简体标题：等离子处理设备
公开(公告)号：TWI526122B
公开(公告)日：2016-03-11
申请号：TW099136417
申请日：2010-10-26
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：山澤陽平 , YAMAZAWA, YOHEI , 傳寶一樹 , DENPOH, KAZUKI , 山涌純 , YAMAWAKU, JUN
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/3211 , C23C16/505 , H01J37/321 , H01J37/3244

9. 发明专利

TWI497581B 基板處理裝置及排氣方法有权
简体标题：基板处理设备及排气方法
公开(公告)号：TWI497581B
公开(公告)日：2015-08-21
申请号：TW099107922
申请日：2010-03-18
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：山涌純 , YAMAWAKU, JUN , 及川純史 , OIKAWA, JUNJI , 中山博之 , NAKAYAMA, HIROYUKI
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/67017

10. 发明专利

TWI457987B 搬送腔室及粒子附著防止方法有权
简体标题：搬送腔室及粒子附着防止方法
公开(公告)号：TWI457987B
公开(公告)日：2014-10-21
申请号：TW099103838
申请日：2010-02-08
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：山涌純 , YAMAWAKU, JUN , 及川純史 , OIKAWA, JUNJI , 中山博之 , NAKAYAMA, HIROYUKI
IPC分类号： H01L21/265 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67184 , H01L21/67069 , H01L21/67196 , H01L21/67201 , H01L21/67213 , H01L21/67742 , H01L21/6831

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