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1. 发明专利

TWI524399B 液體處理裝置及液體處理方法有权
简体标题：液体处理设备及液体处理方法
公开(公告)号：TWI524399B
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW100142688
申请日：2011-11-22
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：東島治郎 , HIGASHIJIMA, JIRO , 緒方信博 , OGATA, NOBUHIRO , 金子聰 , KANEKO, SATOSHI , 長峰秀一 , NAGAMINE, SHUICHI , 甲斐義廣 , KAI, YOSHIHIRO
IPC分类号： H01L21/30
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/68728 , H01L21/68785 , H01L21/68792

2. 发明专利

TW201324649A 基板液處理裝置及基板液處理方法审中-公开
简体标题：基板液处理设备及基板液处理方法
公开(公告)号：TW201324649A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW101123715
申请日：2012-07-02
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：東島治郎 , HIGASHIJIMA, JIRO , 伊藤規宏 , ITOH, NORIHIRO , 緒方信博 , OGATA, NOBUHIRO , 長峰秀一 , NAGAMINE, SHUICHI
IPC分类号： H01L21/67 , B08B3/04
CPC分类号： H01L21/67017 , B05B14/00 , B05C11/08 , B08B3/04 , B08B3/08 , B08B15/02 , G03F7/40 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/6715
摘要： [課題]不需要與回收杯體另外地設置氣液分離裝置，謀求基板液處理裝置之小型化。[解決手段]本發明係具有：基板旋轉機構，其係用以保持基板並且使保持的基板旋轉；處理液供給機構，其係對基板選擇性地供給複數種類之處理液；回收杯體，其係用以回收供給至基板之後的處理液；複數之液回收部，其係為了回收處理液而形成在回收杯體；排液口，其係為了排出從液回收部回收之處理液而形成在回收杯體之底部；排氣口，其係形成在較回收杯體之排液口更上方側；固定蓋，其係為了隔著特定之間隔而覆蓋排氣口之上方而形成在回收杯體；升降杯體，其係為了將供給至基板之後的處理液引導至液回收部而設置在固定蓋之上方；及杯體升降機構，其係用以因應處理液之種類而使升降杯體升降。
简体摘要： [课题]不需要与回收杯体另外地设置气液分离设备，谋求基板液处理设备之小型化。[解决手段]本发明系具有：基板旋转机构，其系用以保持基板并且使保持的基板旋转；处理液供给机构，其系对基板选择性地供给复数种类之处理液；回收杯体，其系用以回收供给至基板之后的处理液；复数之液回收部，其系为了回收处理液而形成在回收杯体；排液口，其系为了排出从液回收部回收之处理液而形成在回收杯体之底部；排气口，其系形成在较回收杯体之排液口更上方侧；固定盖，其系为了隔着特定之间隔而覆盖排气口之上方而形成在回收杯体；升降杯体，其系为了将供给至基板之后的处理液引导至液回收部而设置在固定盖之上方；及杯体直升电梯构，其系用以因应处理液之种类而使升降杯体升降。

3. 发明专利

TW201248703A 液體處理裝置及液體處理方法 LIQUID PROCESSING APPARATUS AND LIQUID PROCESSING METHOD 审中-公开
简体标题：液体处理设备及液体处理方法 LIQUID PROCESSING APPARATUS AND LIQUID PROCESSING METHOD
公开(公告)号：TW201248703A
公开(公告)日：2012-12-01
申请号：TW100142688
申请日：2011-11-22
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：東島治郎 , 緒方信博 , 金子聰 , 長峰秀一 , 甲斐義廣
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/68728 , H01L21/68785 , H01L21/68792
摘要：本發明提供一種可高效率地對基板下表面進行液體清洗及雙流體清洗之液體處理裝置。基板清洗裝置(10)具有噴嘴(60),其位在由基板固持部所固持之基板(W)的下方,能對基板下表面噴吐液體與氣體混合而成的雙流體。噴嘴包含:複數液體噴吐通道(67a),用以噴吐液體;及複數氣體噴吐通道(67b),用以噴吐氣體。噴嘴具有分別對應複數液體噴吐通道之複數液體噴吐口(61)。液體噴吐口,以從由基板固持部所固持的基板之周緣部朝向內方之方式形成於在基板下方延伸的水平線上。液體噴吐口係形成為:在不對氣體噴吐通道供給氣體而對液體噴吐通道供給液體時,自液體噴吐口朝基板下表面噴吐的液體之噴吐方向,係相對於包含基板下表面的平面傾斜,而與藉由旋轉驅動部所旋轉的基板之旋轉方向呈一定角度。
简体摘要：本发明提供一种可高效率地对基板下表面进行液体清洗及双流体清洗之液体处理设备。基板清洗设备(10)具有喷嘴(60),其位在由基板固持部所固持之基板(W)的下方,能对基板下表面喷吐液体与气体混合而成的双流体。喷嘴包含:复数液体喷吐信道(67a),用以喷吐液体;及复数气体喷吐信道(67b),用以喷吐气体。喷嘴具有分别对应复数液体喷吐信道之复数液体喷吐口(61)。液体喷吐口,以从由基板固持部所固持的基板之周缘部朝向内方之方式形成于在基板下方延伸的水平在线。液体喷吐口系形成为:在不对气体喷吐信道供给气体而对液体喷吐信道供给液体时,自液体喷吐口朝基板下表面喷吐的液体之喷吐方向,系相对于包含基板下表面的平面倾斜,而与借由旋转驱动部所旋转的基板之旋转方向呈一定角度。

4. 发明专利

TW485440B 處理液噴出裝置有权
简体标题：处理液喷出设备
公开(公告)号：TW485440B
公开(公告)日：2002-05-01
申请号：TW090112280
申请日：2001-05-22
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：長峰秀一 , 林伸一
IPC分类号： B05C , H01L
摘要：本發明處理液噴出裝置，具有內部形成為液體蓄存部之本體，自上述本體上所設之噴出口，將上述液體蓄存部之處理液噴出於基板上；其特徵在於：此處理液噴出裝置具有：自上述本體外將處理液供給至上述液體蓄存部之第一處理液供給管及第二處理液供給管，配置於上述第一處理液供給管之外周，有溫度調節用流體流過之第一溫度調節管，及配置於上述第二處理液供給管之外周，有溫度調節用流體流過之第二溫度調節管；上述第一溫度調節管係連接於配置在上述液體蓄存部內之液體蓄存部溫度調節管的一端部；上述液體蓄存部溫度調節管之他端部，係與將溫度調節用流體移送至上述本體外之特定場所的第一移送管連接；上述第二溫度調節管，係與位於上述液體蓄存部外[且將溫度調節用流體逕行]移送至上述本體外之特定場所的第二移送管連接。
根據本發明，可抑制液體蓄存部內之熱交換量，且使自各噴出口噴出之處理液的溫度均一化。此外，還可使裝置整體之高度或大小予以小型化。
简体摘要：本发明处理液喷出设备，具有内部形成为液体蓄存部之本体，自上述本体上所设之喷出口，将上述液体蓄存部之处理液喷出于基板上；其特征在于：此处理液喷出设备具有：自上述本体外将处理液供给至上述液体蓄存部之第一处理液供给管及第二处理液供给管，配置于上述第一处理液供给管之外周，有温度调节用流体流过之第一温度调节管，及配置于上述第二处理液供给管之外周，有温度调节用流体流过之第二温度调节管；上述第一温度调节管系连接于配置在上述液体蓄存部内之液体蓄存部温度调节管的一端部；上述液体蓄存部温度调节管之他端部，系与将温度调节用流体移送至上述本体外之特定场所的第一移送管连接；上述第二温度调节管，系与位于上述液体蓄存部外[且将温度调节用流体迳行]移送至上述本体外之特定场所的第二移送管连接。根据本发明，可抑制液体蓄存部内之热交换量，且使自各喷出口喷出之处理液的温度均一化。此外，还可使设备整体之高度或大小予以小型化。

5. 发明专利

TWI569887B 基板液處理裝置有权
简体标题：基板液处理设备
公开(公告)号：TWI569887B
公开(公告)日：2017-02-11
申请号：TW100116679
申请日：2011-05-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：緒方信博 , OGATA, NOBUHIRO , 長峰秀一 , NAGAMINE, SHUICHI
IPC分类号： B05C11/10
CPC分类号： H01L21/67051

6. 发明专利

TWI517225B 液體處理裝置及液體處理方法有权
简体标题：液体处理设备及液体处理方法
公开(公告)号：TWI517225B
公开(公告)日：2016-01-11
申请号：TW100142559
申请日：2011-11-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：東島治郎 , HIGASHIJIMA, JIRO , 緒方信博 , OGATA, NOBUHIRO , 金子聰 , KANEKO, SATOSHI , 長峰秀一 , NAGAMINE, SHUICHI , 甲斐義廣 , KAI, YOSHIHIRO
IPC分类号： H01L21/30
CPC分类号： H01L21/6708 , H01L21/67051 , H01L21/68728

7. 发明专利

TWI487049B 流路切換裝置、處理裝置、流路切換方法、處理方法及記憶媒體有权
简体标题：流路切换设备、处理设备、流路切换方法、处理方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI487049B
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW100121818
申请日：2011-06-22
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：緒方信博 , OGATA, NOBUHIRO , 長峰秀一 , NAGAMINE, SHUICHI , 清田健司 , KIYOTA, KENJI
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67028 , H01L21/67173 , Y10T137/0324 , Y10T137/87684 , Y10T137/87877

8. 发明专利

TW201246322A 液體處理裝置及液體處理方法 LIQUID TREATMENT DEVICE AND LIQUID TREATMENT METHOD 审中-公开
简体标题：液体处理设备及液体处理方法 LIQUID TREATMENT DEVICE AND LIQUID TREATMENT METHOD
公开(公告)号：TW201246322A
公开(公告)日：2012-11-16
申请号：TW100142559
申请日：2011-11-21
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：東島治郎 , 緒方信博 , 金子聰 , 長峰秀一 , 甲斐義廣
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/6708 , H01L21/67051 , H01L21/68728
摘要：本發明提供一種能夠有效率地洗淨基板底面的液體處理裝置。為了達成上述目的，本發明之基板洗淨裝置(10)具備位於基板保持機構所保持之基板(W)的底面的下方並對基板的底面吐出處理液的噴嘴(60)。噴嘴具備在對向基板中央部的位置與對向基板周緣部的位置之間排列的複數個第1吐出口(61)。第1吐出口以向基板底面吐出之處理液的吐出方向包含基板旋轉方向的分量的方式設置。
简体摘要：本发明提供一种能够有效率地洗净基板底面的液体处理设备。为了达成上述目的，本发明之基板洗净设备(10)具备位于基板保持机构所保持之基板(W)的底面的下方并对基板的底面吐出处理液的喷嘴(60)。喷嘴具备在对向基板中央部的位置与对向基板周缘部的位置之间排列的复数个第1吐出口(61)。第1吐出口以向基板底面吐出之处理液的吐出方向包含基板旋转方向的分量的方式设置。

9. 发明专利

TW201215458A 基板液處理裝置审中-公开
简体标题：基板液处理设备
公开(公告)号：TW201215458A
公开(公告)日：2012-04-16
申请号：TW100116679
申请日：2011-05-12
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：緒方信博 , 長峰秀一
IPC分类号： B05C
CPC分类号： H01L21/67051
摘要：本發明的基板液處理裝置係具備：基板保持台，其係保持基板；旋轉驅動部，其係使基板保持台旋轉；處理液供給部，其係對被保持於基板保持台的基板選擇性地供給複數種類的處理液；第1引導杯及第2引導杯，其係設於基板保持台的周邊，為了將從被保持於基板保持台而旋轉的基板所飛散的處理液分別引導至下方，而由上依序設置；及位置調整機構，其係調整基板保持台與第1引導杯及第2引導杯之間的位置關係。在第1引導杯及第2引導杯的下方領域設有用以回收藉由第1引導杯所引導的處理液之第1處理液回收用槽。在第1處理液回收用槽的內周側設有用以回收藉由第2引導杯所引導的處理液之第2處理液回收用槽。
简体摘要：本发明的基板液处理设备系具备：基板保持台，其系保持基板；旋转驱动部，其系使基板保持台旋转；处理液供给部，其系对被保持于基板保持台的基板选择性地供给复数种类的处理液；第1引导杯及第2引导杯，其系设于基板保持台的周边，为了将从被保持于基板保持台而旋转的基板所飞散的处理液分别引导至下方，而由上依序设置；及位置调整机构，其系调整基板保持台与第1引导杯及第2引导杯之间的位置关系。在第1引导杯及第2引导杯的下方领域设有用以回收借由第1引导杯所引导的处理液之第1处理液回收用槽。在第1处理液回收用槽的内周侧设有用以回收借由第2引导杯所引导的处理液之第2处理液回收用槽。

10. 发明专利

TW201126630A 液處理裝置及液處理方法审中-公开
简体标题：液处理设备及液处理方法
公开(公告)号：TW201126630A
公开(公告)日：2011-08-01
申请号：TW099128637
申请日：2010-08-26
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：緒方信博 , 長峰秀一
IPC分类号： H01L
CPC分类号： B08B3/04 , B08B11/02 , H01L21/67051 , H01L21/68728 , H01L21/68742 , H01L21/68792
摘要： [課題]提供可以於基板之乾燥後防止在上升銷殘留處理液,依此防止在液處理後之基板背面附著處理液的液處理裝置及液處理方法。[解決手段]在基板洗淨裝置10,設置有保持基板W之保持板30;被設置在保持板30上方,具有從下方支撐基板W之上升銷22的上升銷板20;和對藉由保持板30所保持之基板W之背面供給處理液的處理液供給部40。處理液供給部40具有被設置成塞住上升銷板20之貫通孔20a的頭部分42。處理液供給部40及上升銷板20係對保持板30相對性升降。
简体摘要： [课题]提供可以于基板之干燥后防止在上升销残留处理液,依此防止在液处理后之基板背面附着处理液的液处理设备及液处理方法。[解决手段]在基板洗净设备10,设置有保持基板W之保持板30;被设置在保持板30上方,具有从下方支撑基板W之上升销22的上升销板20;和对借由保持板30所保持之基板W之背面供给处理液的处理液供给部40。处理液供给部40具有被设置成塞住上升销板20之贯通孔20a的头部分42。处理液供给部40及上升销板20系对保持板30相对性升降。

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