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1. 发明专利

TW201338014A 基板處理系統、基板運送方法及電腦記憶媒體审中-公开
简体标题：基板处理系统、基板运送方法及电脑记忆媒体
公开(公告)号：TW201338014A
公开(公告)日：2013-09-16
申请号：TW101133757
申请日：2012-09-14
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：中原田雅弘 , NAKAHARADA, MASAHIRO , 酒田洋司 , SAKATA, YOJI , 宮田亮 , MIYATA, AKIRA , 林伸一 , HAYASHI, SHINICHI , 榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU , 中島常長 , NAKASHIMA, TSUNENAGA
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/677 , B65G49/07
CPC分类号： H01L21/67051 , G03F7/70691 , H01L21/02043 , H01L21/67046 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67213 , H01L21/67225 , H01L21/67242 , H01L21/67248 , H01L21/67253 , H01L21/67706 , H01L21/67748 , H01L21/6875 , H01L22/20
摘要：本發明旨在提供一種基板處理系統，具有於曝光前清洗基板背面之功能，可提升基板處理之良率。且可減少基板運送之負擔。其中塗布顯影處理系統之介面站5包含：清洗單元100，在將晶圓送入曝光裝置前至少清洗晶圓背面；檢驗單元101，在將晶圓送入曝光裝置前就清洗後晶圓之背面檢驗該晶圓是否可曝光；晶圓運送機構120、130，包含在各單元100、101之間運送基板之臂部；及晶圓運送控制部，控制晶圓運送機構120、130之動作。晶圓運送控制部控制晶圓運送機構120、130，俾若檢驗結果判定晶圓狀態可藉由在清洗單元100再清洗而變得可以曝光，即再次運送該晶圓至清洗單元100。且塗布顯影處理系統之介面站5包含：晶圓清洗部241，在將晶圓送入曝光裝置前至少清洗晶圓背面；晶圓檢驗部242，在將晶圓送入曝光裝置前就清洗後晶圓之背面檢驗該晶圓是否可曝光；及運送機構243，在晶圓清洗部241與晶圓檢驗部242之間運送晶圓W。晶圓清洗部241、晶圓檢驗部242及運送機構243設於框體240內部。
简体摘要：本发明旨在提供一种基板处理系统，具有于曝光前清洗基板背面之功能，可提升基板处理之良率。且可减少基板运送之负担。其中涂布显影处理系统之界面站5包含：清洗单元100，在将晶圆送入曝光设备前至少清洗晶圆背面；检验单元101，在将晶圆送入曝光设备前就清洗后晶圆之背面检验该晶圆是否可曝光；晶圆运送机构120、130，包含在各单元100、101之间运送基板之臂部；及晶圆运送控制部，控制晶圆运送机构120、130之动作。晶圆运送控制部控制晶圆运送机构120、130，俾若检验结果判定晶圆状态可借由在清洗单元100再清洗而变得可以曝光，即再次运送该晶圆至清洗单元100。且涂布显影处理系统之界面站5包含：晶圆清洗部241，在将晶圆送入曝光设备前至少清洗晶圆背面；晶圆检验部242，在将晶圆送入曝光设备前就清洗后晶圆之背面检验该晶圆是否可曝光；及运送机构243，在晶圆清洗部241与晶圆检验部242之间运送晶圆W。晶圆清洗部241、晶圆检验部242及运送机构243设于框体240内部。

2. 发明专利

TW201330150A 基板處理系統、基板運送方法、程式及電腦記憶媒體审中-公开
简体标题：基板处理系统、基板运送方法、进程及电脑记忆媒体
公开(公告)号：TW201330150A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101134699
申请日：2012-09-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：中原田雅弘 , NAKAHARADA, MASAHIRO , 酒田洋司 , SAKATA, YOJI , 宮田亮 , MIYATA, AKIRA , 林伸一 , HAYASHI, SHINICHI , 榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU , 中島常長 , NAKASHIMA, TSUNENAGA
IPC分类号： H01L21/67 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/26
CPC分类号： H01L21/67046 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67213 , H01L21/67253 , H01L21/67748 , H01L21/6875
摘要：本發明之目的在於，在基板處理系統中，降低搬送基板的負載；該基板處理系統，具有在曝光之前洗淨基板背面的功能。為達成上述之目的，本發明提供一種塗佈顯影處理系統，其中的介面站5包含：晶圓洗淨部141，其在晶圓搬入曝光裝置前，至少洗淨晶圓的背面；晶圓檢查部142，其在晶圓搬入曝光裝置前，就洗淨後的晶圓的背面，檢查該晶圓是否可進行曝光；以及搬送構件143，其在晶圓洗淨部141與晶圓檢查部142之間搬送晶圓W。晶圓洗淨部141、晶圓檢查部142以及搬送構件143，設置於框體140的內部。另外，在具有於曝光前進行基板背面洗淨功能的基板處理系統中，在不變更處理單元構造的情況下，縮小佔地面積。在包含處理站3與介面站5的塗佈顯影處理系統當中，介面站5包含：洗淨單元300，其在晶圓搬入曝光裝置之前洗淨晶圓的背面；檢查單元301，其檢查洗淨後的晶圓是否為可曝光的狀態；以及晶圓搬送機構120，其具有在洗淨單元300與檢查單元301之間搬送晶圓的手臂。洗淨單元300與檢查單元301，多段的設置在介面站5正面的上下方向上；晶圓搬送機構120，設置在與洗淨單元300以及檢查單元301相鄰連接的區域。
简体摘要：本发明之目的在于，在基板处理系统中，降低搬送基板的负载；该基板处理系统，具有在曝光之前洗净基板背面的功能。为达成上述之目的，本发明提供一种涂布显影处理系统，其中的界面站5包含：晶圆洗净部141，其在晶圆搬入曝光设备前，至少洗净晶圆的背面；晶圆检查部142，其在晶圆搬入曝光设备前，就洗净后的晶圆的背面，检查该晶圆是否可进行曝光；以及搬送构件143，其在晶圆洗净部141与晶圆检查部142之间搬送晶圆W。晶圆洗净部141、晶圆检查部142以及搬送构件143，设置于框体140的内部。另外，在具有于曝光前进行基板背面洗净功能的基板处理系统中，在不变更处理单元构造的情况下，缩小占地面积。在包含处理站3与界面站5的涂布显影处理系统当中，界面站5包含：洗净单元300，其在晶圆搬入曝光设备之前洗净晶圆的背面；检查单元301，其检查洗净后的晶圆是否为可曝光的状态；以及晶圆搬送机构120，其具有在洗净单元300与检查单元301之间搬送晶圆的手臂。洗净单元300与检查单元301，多段的设置在界面站5正面的上下方向上；晶圆搬送机构120，设置在与洗净单元300以及检查单元301相邻连接的区域。

3. 发明专利

TW201318097A 基板處理裝置、基板處理方法及記憶媒體审中-公开
简体标题：基板处理设备、基板处理方法及记忆媒体
公开(公告)号：TW201318097A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：TW101134747
申请日：2012-09-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU , 中原田雅弘 , NAKAHARADA, MASAHIRO , 宮田亮 , MIYATA, AKIRA , 木山秀和 , KIYAMA, HIDEKAZU , 飯田成昭 , IIDA, NARUAKI
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67178 , H01L21/67745 , H01L21/67766 , H01L21/67769 , H01L21/67781 , H01L21/68707 , Y10S414/137 , Y10S414/139
摘要：基板處理裝置是具有：載體區塊，其係包含分離於左右而設的第1載體載置部及第2載體載置部；處理區塊，其係具有上下配置複數的階層部分的階層構造，且各階層部分具有搬送基板的基板搬送機構及處理基板的處理模組；塔單元，其係包含被配置在藉由各對應的階層部分的基板搬送機構來進行基板的交接的高度位置之複數的基板載置部；第1基板移載機構，其係於第1載體載置部上的載體與塔單元的各基板載置部之間進行基板的移載；及第2基板移載機構，其係於第2載體載置部上的載體與塔單元的各基板載置部之間進行基板的移載。
简体摘要：基板处理设备是具有：载体区块，其系包含分离于左右而设的第1载体载置部及第2载体载置部；处理区块，其系具有上下配置复数的阶层部分的阶层构造，且各阶层部分具有搬送基板的基板搬送机构及处理基板的处理模块；塔单元，其系包含被配置在借由各对应的阶层部分的基板搬送机构来进行基板的交接的高度位置之复数的基板载置部；第1基板移载机构，其系于第1载体载置部上的载体与塔单元的各基板载置部之间进行基板的移载；及第2基板移载机构，其系于第2载体载置部上的载体与塔单元的各基板载置部之间进行基板的移载。

4. 发明专利

TWI600106B 基板處理裝置、基板處理方法及記憶媒體有权
简体标题：基板处理设备、基板处理方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI600106B
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：TW101134747
申请日：2012-09-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU , 中原田雅弘 , NAKAHARADA, MASAHIRO , 宮田亮 , MIYATA, AKIRA , 木山秀和 , KIYAMA, HIDEKAZU , 飯田成昭 , IIDA, NARUAKI
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67178 , H01L21/67745 , H01L21/67766 , H01L21/67769 , H01L21/67781 , H01L21/68707 , Y10S414/137 , Y10S414/139

5. 发明专利

TWI523134B 基板處理系統、基板搬運方法、及電腦記憶媒體有权
简体标题：基板处理系统、基板搬运方法、及电脑记忆媒体
公开(公告)号：TWI523134B
公开(公告)日：2016-02-21
申请号：TW101132054
申请日：2012-09-03
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU , 中原田雅弘 , NAKAHARADA, MASAHIRO , 木山秀和 , KIYAMA, HIDEKAZU , 飯田成昭 , IIDA, NARUAKI , 宮田亮 , MIYATA, AKIRA
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67766 , H01L21/67155 , H01L21/67178 , H01L21/67769 , H01L21/68707

6. 发明专利

TWI524456B 基板處理系統、基板運送方法、程式及電腦記憶媒體有权
简体标题：基板处理系统、基板运送方法、进程及电脑记忆媒体
公开(公告)号：TWI524456B
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW101134699
申请日：2012-09-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：中原田雅弘 , NAKAHARADA, MASAHIRO , 酒田洋司 , SAKATA, YOJI , 宮田亮 , MIYATA, AKIRA , 林伸一 , HAYASHI, SHINICHI , 榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU , 中島常長 , NAKASHIMA, TSUNENAGA
IPC分类号： H01L21/67 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/26
CPC分类号： H01L21/67046 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67213 , H01L21/67253 , H01L21/67748 , H01L21/6875

7. 发明专利

TWI550686B 基板處理系統、基板運送方法及電腦記憶媒體有权
简体标题：基板处理系统、基板运送方法及电脑记忆媒体
公开(公告)号：TWI550686B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：TW101133757
申请日：2012-09-14
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：中原田雅弘 , NAKAHARADA, MASAHIRO , 酒田洋司 , SAKATA, YOJI , 宮田亮 , MIYATA, AKIRA , 林伸一 , HAYASHI, SHINICHI , 榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU , 中島常長 , NAKASHIMA, TSUNENAGA
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/677 , B65G49/07
CPC分类号： H01L21/67051 , G03F7/70691 , H01L21/02043 , H01L21/67046 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67213 , H01L21/67225 , H01L21/67242 , H01L21/67248 , H01L21/67253 , H01L21/67706 , H01L21/67748 , H01L21/6875 , H01L22/20

8. 发明专利

TW201332036A 基板處理系統、基板搬運方法、及電腦記憶媒體审中-公开
简体标题：基板处理系统、基板搬运方法、及电脑记忆媒体
公开(公告)号：TW201332036A
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：TW101132054
申请日：2012-09-03
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU , 中原田雅弘 , NAKAHARADA, MASAHIRO , 木山秀和 , KIYAMA, HIDEKAZU , 飯田成昭 , IIDA, NARUAKI , 宮田亮 , MIYATA, AKIRA
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67766 , H01L21/67155 , H01L21/67178 , H01L21/67769 , H01L21/68707
摘要：本發明提供一種基板處理系統、基板搬運方法、及電腦記憶媒體，使基板處理系統之占有面積減小。本發明之基板處理系統1具備：處理站3，將複數處理單元於上下方向設置為多層；晶圓匣盒載置台12，載置收納複數枚晶圓W之晶圓匣盒；以及晶圓搬運機構21，配置於處理站3與晶圓匣盒載置台12之間；其特徵為：於處理站3與晶圓搬運機構21之間，配置將複數傳遞單元設置為多層之傳遞區塊22，該複數傳遞單元暫時性地收納在晶圓匣盒載置台12與處理站3之間搬運的晶圓、及在各處理單元之各層間搬運的基板。晶圓搬運機構21具備：第1搬運臂，在晶圓匣盒載置台12與傳遞區塊22之間搬運晶圓；以及第2搬運臂，在傳遞單元各層間之各層間搬運晶圓。
简体摘要：本发明提供一种基板处理系统、基板搬运方法、及电脑记忆媒体，使基板处理系统之占有面积减小。本发明之基板处理系统1具备：处理站3，将复数处理单元于上下方向设置为多层；晶圆匣盒载置台12，载置收纳复数枚晶圆W之晶圆匣盒；以及晶圆搬运机构21，配置于处理站3与晶圆匣盒载置台12之间；其特征为：于处理站3与晶圆搬运机构21之间，配置将复数传递单元设置为多层之传递区块22，该复数传递单元暂时性地收纳在晶圆匣盒载置台12与处理站3之间搬运的晶圆、及在各处理单元之各层间搬运的基板。晶圆搬运机构21具备：第1搬运臂，在晶圆匣盒载置台12与传递区块22之间搬运晶圆；以及第2搬运臂，在传递单元各层间之各层间搬运晶圆。

9. 发明专利

TWI323924B 基板輸送裝置、基板輸送方法及塗布、顯影裝置 SUBSTRATE TRANSPORTATION DEVICE, SUBSTRATE TRANSPORTATION METHOD AND COATING-DEVELOPING APPARATUS 有权
简体标题：基板输送设备、基板输送方法及涂布、显影设备 SUBSTRATE TRANSPORTATION DEVICE, SUBSTRATE TRANSPORTATION METHOD AND COATING-DEVELOPING APPARATUS
公开(公告)号：TWI323924B
公开(公告)日：2010-04-21
申请号：TW095130068
申请日：2006-08-16
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：中原田雅弘 , 石田省貴 , 山本太郎 , 森川勝洋
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03D3/08 , H01L21/67126 , H01L21/68707 , Y10S414/141
摘要：本發明之課題在於提供一種基板輸送裝置，可抑制來自附著於基板背面之液滴，並能抑制液滴再附著到基板等之污染。至於本發明解決該課題之手段，係於具備輸送已浸液曝光之基板的臂部本體之基板輸送裝置中，具備以下三部份而構成基板輸送裝置：支撐部，裝設於該臂部本體，以支撐比該基板背面之邊緣較內側的部份；限制部，對著該支撐部，中間隔著該基板的邊緣，而裝設於對向的位置，以限制該基板的邊緣之位置；液滴收容部，設置於比該支撐部與限制部二者間之基板的背面較下方之位置。附著在基板背面的邊緣部份之液滴可以躲到液滴收容部上。因此，即使反複進行基板的輸送，而液滴收容部上蓄積了液滴，但由於基板的邊緣仍不會碰著到液滴收容部，於是可抑制該液滴產生濺開而附著在基板之表面的情形。 On the substrate transportation device which has the arm body which transports the substrate which is exposed in the immersion process.
The substrate transportation device has the support part where it is set up in the arm body, and side of one on inside is supported more than the peripheral portion that can be put on the back side of substrate, the restriction part set up at position that places the peripheral portion of substrate for support part to restrict position of the peripheral portion of substrate and opposes it, the liquid receiving part set up from the back of substrate between support part and restriction part to lower position.
The liquid drop that adheres to the peripheral portion of the back of substrate can run away on the liquid receiving part.
Therefore, because the peripheral portion of substrate might not collide with the liquid receiving part even if it repeats, the substrate is transported, and the liquid drop is accumulated in the liquid receiving part, the liquid drop disperses and it is suppressed to adhere to the surface of the substrate. 【創作特點】本發明係為解決前述之問題所構成，其目的在對於輸送已浸液曝光處理後之基板時，提供基板輸送裝置、基板輸送方法，可抑制來自附著於基板背面之液滴，並能抑制液滴再附著到基板等之污染。又，本發明的其他目的在於提供塗佈、顯影裝置，藉由將前述之基板輸送裝置設置在介面，可抑制基板受自浸液曝光的污染，並避免良率下降。
本發明之特徵係於具備輸送已浸液曝光之基板的臂部本體之基板輸送裝置中，具備以下三部份：支撐部，裝設於該臂部本體，以支撐比該基板背面之邊緣較內側的部份；限制部，對著該支撐部，中間隔著該基板的邊緣，而裝設於對向的位置，以限制該基板的邊緣之位置；液滴收容部，設置於比該支撐部與限制部二者間之基板的背面較下方之位置。
就該基板輸送裝置的一例而言，可舉出以下的結構：藉由於基板被支撐部所支撐以後，具備用以將該基板之後側邊緣相對地推壓到前側的推壓機構，而基板相對地被推壓到前側，使基板的邊緣位置由於基板之前側的限制部而受到限制。而就本發明的理想樣態而言，可舉出以下的結構：於該液滴收容部設置抽吸口，用以抽吸液體；或於該液滴收容部設置將氣體噴出的氣體噴出口，用以乾燥基板之背部的邊緣部份；或於該液滴收容部設置吸水性構件等。又，該抽吸口係作為形成在臂部本體之抽吸通路的前端開口部而構成；而該氣體噴出口則作為形成在臂部本體之氣體供應通路的前端開口部而構成。此外，從支撐部往限制部看過去，該液滴收容部的底面係朝左右方向傾斜而構成，以使附著在例如該底面的液滴滑落。
至於其他之發明的特徵，於塗佈、顯影裝置中，具備處理區塊，裝有將光阻塗佈到基板之表面的塗佈單元，以及將顯影液供應到曝光後之基板，而進行顯影的顯影單元；亦具備曝光裝置，將液層形成於基板之表面，以進行浸液曝光；與連接於處理區塊和曝光裝置的介面部。而其中，該介面部具備前述之基板輸送裝置，以作為將浸液曝光後的基板加以輸送到處理區塊側之基板輸送裝置。
本發明之基板輸送方法的特徵在於使用具備以下二部份之基板輸送裝置：支撐部，支撐比基板的背面之邊緣較為內側的部份；限制部，對著前述支撐部，中間隔著該基板的邊緣，而裝設於對向的位置，用以限制該基板的邊緣之位置。並且，包括以下兩段製程：輸送基板製程，將經過可能殘留液體在基板背面之邊緣部份之處理的基板加以輸送；抽吸製程，液滴收容部設置於比該支撐部與限制部二者間之基板的背面較下方之位置，此製程則將蓄積在液滴收容部的液體加以抽吸。
該發明方法甚至亦可包含將氣體噴出到前述支撐部與限制部二者間之基板的背面，以使其乾燥的製程。此時，抽吸該液體的製程與該乾燥的製程二者亦可同時進行。又，該基板輸送方法的特徵在於包含以下兩段步驟：支撐步驟，使裝設於基板後側方的推壓機構相對地往後退，而於此狀態下，使基板由支撐部支撐；限制步驟，接著將該推壓機構相對地推出到前側方，以藉由基板之前側方的限制部，而限制基板之邊緣的位置。
本發明之基板輸送裝置由於藉由支撐部，以支撐比浸液曝光處理後之基板的背面邊緣較為內側部份，並且於支撐部以及限制該支撐部與晶圓之邊緣位置的限制部二者間，設置液滴收容部；於是，附著於基板背面之邊緣部份(邊緣或其附近)的液滴可以躲到液滴收容部上。因此，即使反複進行基板的輸送，而液滴收容部上蓄積了液滴，但由於基板的邊緣仍不會碰著到液滴收容部，於是可抑制該液滴產生濺開而附著在基板之表面的情形。
又，於基板放置到臂部本體之上以後，若能藉由推壓機構，以將基板從後面推；再藉由前側方的限制部，以限制基板的位置，則往往可將基板放置到預定的位置，可謂能夠自動對準。藉此，可達成確實輸送基板之目的；但此時，由於基板必定會碰著到前側方的限制部，可知設置液滴收容部的效果很大。
甚且，藉由在該液滴收容部設置抽吸口，可將液滴收容部上的液滴容易地加以去除，因此可抑制液滴再附著到基板表面，或微粒由於液滴之蓄積而產生。又，藉由在該液滴收容部設置氣體噴出口，可促進去除基板之背面的液滴。又，若能在液滴收容部設置吸水性構件，由於液滴將從液滴收容部消失，實屬有效。此外，若能將前述之手段(抽吸口、氣體噴出口、吸水性構件)加以組合，將更加有效。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种基板输送设备，可抑制来自附着于基板背面之液滴，并能抑制液滴再附着到基板等之污染。至于本发明解决该课题之手段，系于具备输送已浸液曝光之基板的臂部本体之基板输送设备中，具备以下三部份而构成基板输送设备：支撑部，装设于该臂部本体，以支撑比该基板背面之边缘较内侧的部份；限制部，对着该支撑部，中间隔着该基板的边缘，而装设于对向的位置，以限制该基板的边缘之位置；液滴收容部，设置于比该支撑部与限制部二者间之基板的背面较下方之位置。附着在基板背面的边缘部份之液滴可以躲到液滴收容部上。因此，即使反复进行基板的输送，而液滴收容部上蓄积了液滴，但由于基板的边缘仍不会碰着到液滴收容部，于是可抑制该液滴产生溅开而附着在基板之表面的情形。 On the substrate transportation device which has the arm body which transports the substrate which is exposed in the immersion process. The substrate transportation device has the support part where it is set up in the arm body, and side of one on inside is supported more than the peripheral portion that can be put on the back side of substrate, the restriction part set up at position that places the peripheral portion of substrate for support part to restrict position of the peripheral portion of substrate and opposes it, the liquid receiving part set up from the back of substrate between support part and restriction part to lower position. The liquid drop that adheres to the peripheral portion of the back of substrate can run away on the liquid receiving part. Therefore, because the peripheral portion of substrate might not collide with the liquid receiving part even if it repeats, the substrate is transported, and the liquid drop is accumulated in the liquid receiving part, the liquid drop disperses and it is suppressed to adhere to the surface of the substrate. 【创作特点】本发明系为解决前述之问题所构成，其目的在对于输送已浸液曝光处理后之基板时，提供基板输送设备、基板输送方法，可抑制来自附着于基板背面之液滴，并能抑制液滴再附着到基板等之污染。又，本发明的其他目的在于提供涂布、显影设备，借由将前述之基板输送设备设置在界面，可抑制基板受自浸液曝光的污染，并避免良率下降。本发明之特征系于具备输送已浸液曝光之基板的臂部本体之基板输送设备中，具备以下三部份：支撑部，装设于该臂部本体，以支撑比该基板背面之边缘较内侧的部份；限制部，对着该支撑部，中间隔着该基板的边缘，而装设于对向的位置，以限制该基板的边缘之位置；液滴收容部，设置于比该支撑部与限制部二者间之基板的背面较下方之位置。就该基板输送设备的一例而言，可举出以下的结构：借由于基板被支撑部所支撑以后，具备用以将该基板之后侧边缘相对地推压到前侧的推压机构，而基板相对地被推压到前侧，使基板的边缘位置由于基板之前侧的限制部而受到限制。而就本发明的理想样态而言，可举出以下的结构：于该液滴收容部设置抽吸口，用以抽吸液体；或于该液滴收容部设置将气体喷出的气体喷出口，用以干燥基板之背部的边缘部份；或于该液滴收容部设置吸水性构件等。又，该抽吸口系作为形成在臂部本体之抽吸通路的前端开口部而构成；而该气体喷出口则作为形成在臂部本体之气体供应通路的前端开口部而构成。此外，从支撑部往限制部看过去，该液滴收容部的底面系朝左右方向倾斜而构成，以使附着在例如该底面的液滴滑落。至于其他之发明的特征，于涂布、显影设备中，具备处理区块，装有将光阻涂布到基板之表面的涂布单元，以及将显影液供应到曝光后之基板，而进行显影的显影单元；亦具备曝光设备，将液层形成于基板之表面，以进行浸液曝光；与连接于处理区块和曝光设备的界面部。而其中，该界面部具备前述之基板输送设备，以作为将浸液曝光后的基板加以输送到处理区块侧之基板输送设备。本发明之基板输送方法的特征在于使用具备以下二部份之基板输送设备：支撑部，支撑比基板的背面之边缘较为内侧的部份；限制部，对着前述支撑部，中间隔着该基板的边缘，而装设于对向的位置，用以限制该基板的边缘之位置。并且，包括以下两段制程：输送基板制程，将经过可能残留液体在基板背面之边缘部份之处理的基板加以输送；抽吸制程，液滴收容部设置于比该支撑部与限制部二者间之基板的背面较下方之位置，此制程则将蓄积在液滴收容部的液体加以抽吸。该发明方法甚至亦可包含将气体喷出到前述支撑部与限制部二者间之基板的背面，以使其干燥的制程。此时，抽吸该液体的制程与该干燥的制程二者亦可同时进行。又，该基板输送方法的特征在于包含以下两段步骤：支撑步骤，使装设于基板后侧方的推压机构相对地往后退，而于此状态下，使基板由支撑部支撑；限制步骤，接着将该推压机构相对地推出到前侧方，以借由基板之前侧方的限制部，而限制基板之边缘的位置。本发明之基板输送设备由于借由支撑部，以支撑比浸液曝光处理后之基板的背面边缘较为内侧部份，并且于支撑部以及限制该支撑部与晶圆之边缘位置的限制部二者间，设置液滴收容部；于是，附着于基板背面之边缘部份(边缘或其附近)的液滴可以躲到液滴收容部上。因此，即使反复进行基板的输送，而液滴收容部上蓄积了液滴，但由于基板的边缘仍不会碰着到液滴收容部，于是可抑制该液滴产生溅开而附着在基板之表面的情形。又，于基板放置到臂部本体之上以后，若能借由推压机构，以将基板从后面推；再借由前侧方的限制部，以限制基板的位置，则往往可将基板放置到预定的位置，可谓能够自动对准。借此，可达成确实输送基板之目的；但此时，由于基板必定会碰着到前侧方的限制部，可知设置液滴收容部的效果很大。甚且，借由在该液滴收容部设置抽吸口，可将液滴收容部上的液滴容易地加以去除，因此可抑制液滴再附着到基板表面，或微粒由于液滴之蓄积而产生。又，借由在该液滴收容部设置气体喷出口，可促进去除基板之背面的液滴。又，若能在液滴收容部设置吸水性构件，由于液滴将从液滴收容部消失，实属有效。此外，若能将前述之手段(抽吸口、气体喷出口、吸水性构件)加以组合，将更加有效。

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