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1. 发明专利

TW201843439A 基板處理系統审中-公开
简体标题：基板处理系统
公开(公告)号：TW201843439A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107104891
申请日：2018-02-12
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：羽島仁志 , HASHIMA, HITOSHI , 松岡伸明 , MATSUOKA, NOBUAKI , 中島常長 , NAKASHIMA, TSUNENAGA , 安武孝洋 , YASUTAKE, TAKAHIRO , 船越秀朗 , FUNAKOSHI, HIDEO , 中村泰之 , NAKAMURA, HIROSHI
IPC分类号： G01N23/00 , H01L21/677
摘要：本發明的基板處理系統具備處理基板的處理裝置，並設置用以將基板搬運至該處理裝置的基板搬運區，可更確實地防止懸浮微粒附著於基板。本發明的基板處理系統，具備熱處理裝置40等作為處理基板的處理裝置，並設有用以將晶圓W搬運至該處理裝置的搬運區R1～R4，本發明的基板處理系統具備音波發射裝置60、70，該音波發射裝置60、70發射音波而防止搬運區R1～R4內的懸浮微粒附著於基板。音波發射裝置70例如設置於搬運區R1中之與熱處理裝置40的晶圓W的搬入/搬出口K2相鄰之區域。
简体摘要：本发明的基板处理系统具备处理基板的处理设备，并设置用以将基板搬运至该处理设备的基板搬运区，可更确实地防止悬浮微粒附着于基板。本发明的基板处理系统，具备热处理设备40等作为处理基板的处理设备，并设有用以将晶圆W搬运至该处理设备的搬运区R1～R4，本发明的基板处理系统具备音波发射设备60、70，该音波发射设备60、70发射音波而防止搬运区R1～R4内的悬浮微粒附着于基板。音波发射设备70例如设置于搬运区R1中之与热处理设备40的晶圆W的搬入/搬出口K2相邻之区域。

2. 发明专利

TWI524456B 基板處理系統、基板運送方法、程式及電腦記憶媒體有权
简体标题：基板处理系统、基板运送方法、进程及电脑记忆媒体
公开(公告)号：TWI524456B
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW101134699
申请日：2012-09-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：中原田雅弘 , NAKAHARADA, MASAHIRO , 酒田洋司 , SAKATA, YOJI , 宮田亮 , MIYATA, AKIRA , 林伸一 , HAYASHI, SHINICHI , 榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU , 中島常長 , NAKASHIMA, TSUNENAGA
IPC分类号： H01L21/67 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/26
CPC分类号： H01L21/67046 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67213 , H01L21/67253 , H01L21/67748 , H01L21/6875

3. 发明专利

TW201919772A 處理液供給裝置审中-公开
简体标题：处理液供给设备
公开(公告)号：TW201919772A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107129886
申请日：2018-08-28
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：一野克憲 , ICHINO, KATSUNORI , 中島常長 , NAKASHIMA, TSUNENAGA , 船越秀朗 , FUNAKOSHI, HIDEO , 松岡伸明 , MATSUOKA, NOBUAKI , 梶原正幸 , KAJIWARA, MASAYUKI
IPC分类号： B05C11/10 , H01L21/027 , G03F7/16
摘要： [課題] 供給異物更少的處理液。 [解決手段] 光阻液供給裝置(200)係經由配設有除去光阻液中之異物的過濾器(206)和送出光阻液之泵浦(207)的供給路徑(202)，將光阻液供給至塗佈噴嘴(142)。在管式隔膜泵浦亦即泵浦(207)及過濾器(206)之上游側，配設開關閥(205)，在泵浦(207)及過濾器(206)之下游側，配設倒吸閥(208)。控制部U進行停止從泵浦(207)送出光阻液的控制，和於藉由倒吸閥(208)之作動，中斷從塗佈噴嘴(142)吐出光阻液之後，封閉開關閥(205)藉此使上述吐出完全停止的控制。
简体摘要： [课题] 供给异物更少的处理液。 [解决手段] 光阻液供给设备(200)系经由配设有除去光阻液中之异物的过滤器(206)和送出光阻液之泵浦(207)的供给路径(202)，将光阻液供给至涂布喷嘴(142)。在管式隔膜泵浦亦即泵浦(207)及过滤器(206)之上游侧，配设开关阀(205)，在泵浦(207)及过滤器(206)之下游侧，配设倒吸阀(208)。控制部U进行停止从泵浦(207)送出光阻液的控制，和于借由倒吸阀(208)之作动，中断从涂布喷嘴(142)吐出光阻液之后，封闭开关阀(205)借此使上述吐出完全停止的控制。

4. 发明专利

TW201338014A 基板處理系統、基板運送方法及電腦記憶媒體审中-公开
简体标题：基板处理系统、基板运送方法及电脑记忆媒体
公开(公告)号：TW201338014A
公开(公告)日：2013-09-16
申请号：TW101133757
申请日：2012-09-14
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：中原田雅弘 , NAKAHARADA, MASAHIRO , 酒田洋司 , SAKATA, YOJI , 宮田亮 , MIYATA, AKIRA , 林伸一 , HAYASHI, SHINICHI , 榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU , 中島常長 , NAKASHIMA, TSUNENAGA
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/677 , B65G49/07
CPC分类号： H01L21/67051 , G03F7/70691 , H01L21/02043 , H01L21/67046 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67213 , H01L21/67225 , H01L21/67242 , H01L21/67248 , H01L21/67253 , H01L21/67706 , H01L21/67748 , H01L21/6875 , H01L22/20
摘要：本發明旨在提供一種基板處理系統，具有於曝光前清洗基板背面之功能，可提升基板處理之良率。且可減少基板運送之負擔。其中塗布顯影處理系統之介面站5包含：清洗單元100，在將晶圓送入曝光裝置前至少清洗晶圓背面；檢驗單元101，在將晶圓送入曝光裝置前就清洗後晶圓之背面檢驗該晶圓是否可曝光；晶圓運送機構120、130，包含在各單元100、101之間運送基板之臂部；及晶圓運送控制部，控制晶圓運送機構120、130之動作。晶圓運送控制部控制晶圓運送機構120、130，俾若檢驗結果判定晶圓狀態可藉由在清洗單元100再清洗而變得可以曝光，即再次運送該晶圓至清洗單元100。且塗布顯影處理系統之介面站5包含：晶圓清洗部241，在將晶圓送入曝光裝置前至少清洗晶圓背面；晶圓檢驗部242，在將晶圓送入曝光裝置前就清洗後晶圓之背面檢驗該晶圓是否可曝光；及運送機構243，在晶圓清洗部241與晶圓檢驗部242之間運送晶圓W。晶圓清洗部241、晶圓檢驗部242及運送機構243設於框體240內部。
简体摘要：本发明旨在提供一种基板处理系统，具有于曝光前清洗基板背面之功能，可提升基板处理之良率。且可减少基板运送之负担。其中涂布显影处理系统之界面站5包含：清洗单元100，在将晶圆送入曝光设备前至少清洗晶圆背面；检验单元101，在将晶圆送入曝光设备前就清洗后晶圆之背面检验该晶圆是否可曝光；晶圆运送机构120、130，包含在各单元100、101之间运送基板之臂部；及晶圆运送控制部，控制晶圆运送机构120、130之动作。晶圆运送控制部控制晶圆运送机构120、130，俾若检验结果判定晶圆状态可借由在清洗单元100再清洗而变得可以曝光，即再次运送该晶圆至清洗单元100。且涂布显影处理系统之界面站5包含：晶圆清洗部241，在将晶圆送入曝光设备前至少清洗晶圆背面；晶圆检验部242，在将晶圆送入曝光设备前就清洗后晶圆之背面检验该晶圆是否可曝光；及运送机构243，在晶圆清洗部241与晶圆检验部242之间运送晶圆W。晶圆清洗部241、晶圆检验部242及运送机构243设于框体240内部。

5. 发明专利

TW201810371A 液體處理裝置、液體處理方法及記憶媒體审中-公开
简体标题：液体处理设备、液体处理方法及记忆媒体
公开(公告)号：TW201810371A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106117667
申请日：2017-05-26
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：安倍昌洋 , ABE, MASAHIRO , 稲田博一 , INADA, HIROICHI , 東徹 , AZUMA, TOHRU , 中島常長 , NAKASHIMA, TSUNENAGA , 木下尚文 , KISHITA, NAOFUMI , 梶原英樹 , KAJIWARA, HIDEKI
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/6715 , G03F7/162
摘要：針對在噴嘴載置區域與複數個基板載置區域上之各處理位置之間進行噴嘴之搬送的液體處理裝置，抑制對於與噴嘴連接的配管之損傷，而且抑制生產量之降低。裝置構成為具備：噴嘴載置區域，設於基板載置區域之列之後方，供作為載置噴嘴(41)；及驅動部，使臂部(54)繞旋動軸沿著水平方向旋動，或使上述旋動軸沿著左右方向移動。從噴嘴載置區域，針對與各處理位置對應而設定的待機位置(20A、20B)之中，與搬送對象之處理位置對應的待機位置係由其後方進行上述噴嘴之搬送，接著，使該噴嘴待機於該待機位置，之後，將該噴嘴搬送至上述處理位置。上述待機位置，係基板載置區域之外側，由前後方向觀察時位於處理位置與噴嘴載置區域之間。
简体摘要：针对在喷嘴载置区域与复数个基板载置区域上之各处理位置之间进行喷嘴之搬送的液体处理设备，抑制对于与喷嘴连接的配管之损伤，而且抑制生产量之降低。设备构成为具备：喷嘴载置区域，设于基板载置区域之列之后方，供作为载置喷嘴(41)；及驱动部，使臂部(54)绕旋动轴沿着水平方向旋动，或使上述旋动轴沿着左右方向移动。从喷嘴载置区域，针对与各处理位置对应而设置的待机位置(20A、20B)之中，与搬送对象之处理位置对应的待机位置系由其后方进行上述喷嘴之搬送，接着，使该喷嘴待机于该待机位置，之后，将该喷嘴搬送至上述处理位置。上述待机位置，系基板载置区域之外侧，由前后方向观察时位于处理位置与喷嘴载置区域之间。

6. 发明专利

TWI522177B 藥液供給噴嘴及藥液供給方法有权
简体标题：药液供给喷嘴及药液供给方法
公开(公告)号：TWI522177B
公开(公告)日：2016-02-21
申请号：TW099145832
申请日：2010-12-24
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：中島常長 , NAKASHIMA, TSUNENAGA , 林伸一 , HAYASHI, SHINICHI , 藤本昭浩 , FUJIMOTO, AKIHIRO , 大久保敬弘 , OOKUBO, TAKAHIRO
IPC分类号： B05B9/03 , B05C11/10
CPC分类号： B05C5/0237 , B05C5/0225 , B05C13/02 , G03F7/162

7. 发明专利

TW201529450A 藥液容器交換裝置、容器載置模組及藥液容器之交換方法、基板處理裝置审中-公开
简体标题：药液容器交换设备、容器载置模块及药液容器之交换方法、基板处理设备
公开(公告)号：TW201529450A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103134266
申请日：2014-10-01
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：中島常長 , NAKASHIMA, TSUNENAGA
IPC分类号： B65G47/52 , B65G47/46
CPC分类号： G03F7/30 , G03F7/162 , G03F7/3021
摘要：提供一種可在潔淨的環境下，進行藥液容器之交換的藥液容器交換裝置等。又，提供一種不需經由人工，即可進行藥液容器之交換的基板處理裝置。在進行藥液容器(50)之交換的藥液容器交換裝置(D2)中，在容器配置部(60)配置有裝設了進行藥液之供給之藥液供給路徑之基端側的複數個藥液容器(50)，裝卸機構(61)，係對容器配置部(60)之藥液容器(50)執行藥液供給路徑之基端側的裝卸操作。在搬入搬出埠(62)中，係進行用於對基板(W)進行液處理之新的藥液容器(50)之搬入與已使用過的藥液容器(50)之搬出，容器搬送機構(7)，係執行從容器配置部(60)搬送已使用過的藥液容器(50)至搬入搬出埠(62)與從搬入搬出埠(62)搬送新的藥液容器(50)至容器配置部(62)。又，基板處理裝置(1)，係具備有：載體區塊(D1)，搬入收納了基板(W)的載體(C)；及處理區塊(D3)，設置有對基板(W)進行使用藥液之液處理的液處理模組。收容儲存了被供給至液處理模組之藥液之複數個藥液容器(50)的藥液塊體(D2)，係設置為相對於載體區塊(D1)及處理區塊(D3)以一列的方式排列。在該藥液塊體(D2)中，在容器配置部(60)，係在與載體區塊(D1)及處理區塊(D3)之排列方向正交的方向，配置複數個藥液容器(50)，在搬入搬出埠(69)進行藥液容器(50)之搬入搬出。且，機構(7)，係在容器配置部(60)與搬入搬出埠(69)之間進行已使用過及新的藥液容器(50)之自動交換。
简体摘要：提供一种可在洁净的环境下，进行药液容器之交换的药液容器交换设备等。又，提供一种不需经由人工，即可进行药液容器之交换的基板处理设备。在进行药液容器(50)之交换的药液容器交换设备(D2)中，在容器配置部(60)配置有装设了进行药液之供给之药液供给路径之基端侧的复数个药液容器(50)，装卸机构(61)，系对容器配置部(60)之药液容器(50)运行药液供给路径之基端侧的装卸操作。在搬入搬出端口(62)中，系进行用于对基板(W)进行液处理之新的药液容器(50)之搬入与已使用过的药液容器(50)之搬出，容器搬送机构(7)，系运行从容器配置部(60)搬送已使用过的药液容器(50)至搬入搬出端口(62)与从搬入搬出端口(62)搬送新的药液容器(50)至容器配置部(62)。又，基板处理设备(1)，系具备有：载体区块(D1)，搬入收纳了基板(W)的载体(C)；及处理区块(D3)，设置有对基板(W)进行使用药液之液处理的液处理模块。收容存储了被供给至液处理模块之药液之复数个药液容器(50)的药液块体(D2)，系设置为相对于载体区块(D1)及处理区块(D3)以一列的方式排列。在该药液块体(D2)中，在容器配置部(60)，系在与载体区块(D1)及处理区块(D3)之排列方向正交的方向，配置复数个药液容器(50)，在搬入搬出端口(69)进行药液容器(50)之搬入搬出。且，机构(7)，系在容器配置部(60)与搬入搬出端口(69)之间进行已使用过及新的药液容器(50)之自动交换。

8. 发明专利

TW201330150A 基板處理系統、基板運送方法、程式及電腦記憶媒體审中-公开
简体标题：基板处理系统、基板运送方法、进程及电脑记忆媒体
公开(公告)号：TW201330150A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101134699
申请日：2012-09-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：中原田雅弘 , NAKAHARADA, MASAHIRO , 酒田洋司 , SAKATA, YOJI , 宮田亮 , MIYATA, AKIRA , 林伸一 , HAYASHI, SHINICHI , 榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU , 中島常長 , NAKASHIMA, TSUNENAGA
IPC分类号： H01L21/67 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/26
CPC分类号： H01L21/67046 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67213 , H01L21/67253 , H01L21/67748 , H01L21/6875
摘要：本發明之目的在於，在基板處理系統中，降低搬送基板的負載；該基板處理系統，具有在曝光之前洗淨基板背面的功能。為達成上述之目的，本發明提供一種塗佈顯影處理系統，其中的介面站5包含：晶圓洗淨部141，其在晶圓搬入曝光裝置前，至少洗淨晶圓的背面；晶圓檢查部142，其在晶圓搬入曝光裝置前，就洗淨後的晶圓的背面，檢查該晶圓是否可進行曝光；以及搬送構件143，其在晶圓洗淨部141與晶圓檢查部142之間搬送晶圓W。晶圓洗淨部141、晶圓檢查部142以及搬送構件143，設置於框體140的內部。另外，在具有於曝光前進行基板背面洗淨功能的基板處理系統中，在不變更處理單元構造的情況下，縮小佔地面積。在包含處理站3與介面站5的塗佈顯影處理系統當中，介面站5包含：洗淨單元300，其在晶圓搬入曝光裝置之前洗淨晶圓的背面；檢查單元301，其檢查洗淨後的晶圓是否為可曝光的狀態；以及晶圓搬送機構120，其具有在洗淨單元300與檢查單元301之間搬送晶圓的手臂。洗淨單元300與檢查單元301，多段的設置在介面站5正面的上下方向上；晶圓搬送機構120，設置在與洗淨單元300以及檢查單元301相鄰連接的區域。
简体摘要：本发明之目的在于，在基板处理系统中，降低搬送基板的负载；该基板处理系统，具有在曝光之前洗净基板背面的功能。为达成上述之目的，本发明提供一种涂布显影处理系统，其中的界面站5包含：晶圆洗净部141，其在晶圆搬入曝光设备前，至少洗净晶圆的背面；晶圆检查部142，其在晶圆搬入曝光设备前，就洗净后的晶圆的背面，检查该晶圆是否可进行曝光；以及搬送构件143，其在晶圆洗净部141与晶圆检查部142之间搬送晶圆W。晶圆洗净部141、晶圆检查部142以及搬送构件143，设置于框体140的内部。另外，在具有于曝光前进行基板背面洗净功能的基板处理系统中，在不变更处理单元构造的情况下，缩小占地面积。在包含处理站3与界面站5的涂布显影处理系统当中，界面站5包含：洗净单元300，其在晶圆搬入曝光设备之前洗净晶圆的背面；检查单元301，其检查洗净后的晶圆是否为可曝光的状态；以及晶圆搬送机构120，其具有在洗净单元300与检查单元301之间搬送晶圆的手臂。洗净单元300与检查单元301，多段的设置在界面站5正面的上下方向上；晶圆搬送机构120，设置在与洗净单元300以及检查单元301相邻连接的区域。

9. 发明专利

TWI584351B 藥液容器交換裝置、容器載置模組及藥液容器之交換方法、基板處理裝置有权
简体标题：药液容器交换设备、容器载置模块及药液容器之交换方法、基板处理设备
公开(公告)号：TWI584351B
公开(公告)日：2017-05-21
申请号：TW103134266
申请日：2014-10-01
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：中島常長 , NAKASHIMA, TSUNENAGA
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/30 , G03F7/16 , B05C11/10
CPC分类号： G03F7/30 , G03F7/162 , G03F7/3021

10. 发明专利

TWI550686B 基板處理系統、基板運送方法及電腦記憶媒體有权
简体标题：基板处理系统、基板运送方法及电脑记忆媒体
公开(公告)号：TWI550686B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：TW101133757
申请日：2012-09-14
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：中原田雅弘 , NAKAHARADA, MASAHIRO , 酒田洋司 , SAKATA, YOJI , 宮田亮 , MIYATA, AKIRA , 林伸一 , HAYASHI, SHINICHI , 榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU , 中島常長 , NAKASHIMA, TSUNENAGA
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/677 , B65G49/07
CPC分类号： H01L21/67051 , G03F7/70691 , H01L21/02043 , H01L21/67046 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67213 , H01L21/67225 , H01L21/67242 , H01L21/67248 , H01L21/67253 , H01L21/67706 , H01L21/67748 , H01L21/6875 , H01L22/20

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