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1. 发明专利

TW201418909A 顯影處理裝置审中-公开
简体标题：显影处理设备
公开(公告)号：TW201418909A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW102132435
申请日：2013-09-09
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 池田義謙 , IKEDA, YOSHINORI , 吉村好貴 , YOSHIMURA, KOKI , 岡本芳樹 , OKAMOTO, YOSHIKI , 福田昌弘 , FUKUDA, MASAHIRO
IPC分类号： G03F7/30 , G03F7/16 , H01L21/67
CPC分类号： G03F7/16 , G03F7/3021 , G03F7/3092 , H01L21/67017
摘要：本發明在可施行正型顯影液產生的顯影處理與負型顯影液產生的顯影處理雙方之顯影處理裝置中，藉由減少搭載之模組數，而可使裝置小型化。本發明之顯影處理裝置具有：旋轉夾盤40；正型顯影液供給噴嘴，對晶圓W供給正型光阻用之顯影液；負型顯影液供給噴嘴，對晶圓W供給負型光阻用之顯影液；以及可動杯45；藉由使可動杯上升而將正型或負型光阻用其中一方的飛散之顯影液導入內周流路48b，藉由使可動杯下降而將正型或負型光阻用其中另一方的飛散之顯影液導入外周流路48a。使導入至內周流路之顯影液自一方的排出口49b排出，使導入至外周流路之顯影液自另一方的排出口49a排出。
简体摘要：本发明在可施行正型显影液产生的显影处理与负型显影液产生的显影处理双方之显影处理设备中，借由减少搭载之模块数，而可使设备小型化。本发明之显影处理设备具有：旋转夹盘40；正型显影液供给喷嘴，对晶圆W供给正型光阻用之显影液；负型显影液供给喷嘴，对晶圆W供给负型光阻用之显影液；以及可动杯45；借由使可动杯上升而将正型或负型光阻用其中一方的飞散之显影液导入内周流路48b，借由使可动杯下降而将正型或负型光阻用其中另一方的飞散之显影液导入外周流路48a。使导入至内周流路之显影液自一方的排出口49b排出，使导入至外周流路之显影液自另一方的排出口49a排出。

2. 发明专利

TWI569111B 顯影處理裝置有权
简体标题：显影处理设备
公开(公告)号：TWI569111B
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW102132435
申请日：2013-09-09
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 池田義謙 , IKEDA, YOSHINORI , 吉村好貴 , YOSHIMURA, KOKI , 岡本芳樹 , OKAMOTO, YOSHIKI , 福田昌弘 , FUKUDA, MASAHIRO
IPC分类号： G03F7/30 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/16 , G03F7/3021 , G03F7/3092 , H01L21/67017

3. 发明专利

TW201517118A 液體處理裝置审中-公开
简体标题：液体处理设备
公开(公告)号：TW201517118A
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW103124955
申请日：2014-07-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 吉村好貴 , YOSHIMURA, KOKI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU , 牟田行志 , MUTA, KOSHI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/30
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/6715
摘要：本發明提供一種液體處理裝置，具備：複數個基板保持部，於左右方向並排配置，用以將基板分別水平地保持；噴嘴，與該複數個基板保持部分別對應而設置，用以對該基板保持部所保持的基板供給處理流體；以及噴嘴移動機構，使該噴嘴，在對包含該基板的中心部在內之區域供給處理流體的供給位置、及相對於該複數個基板保持部之列而與基板搬出入的前方側為相反側之後方側的待機位置之間，往與該基板保持部的並排方向交叉之前後方向進退。
简体摘要：本发明提供一种液体处理设备，具备：复数个基板保持部，于左右方向并排配置，用以将基板分别水平地保持；喷嘴，与该复数个基板保持部分别对应而设置，用以对该基板保持部所保持的基板供给处理流体；以及喷嘴移动机构，使该喷嘴，在对包含该基板的中心部在内之区域供给处理流体的供给位置、及相对于该复数个基板保持部之列而与基板搬出入的前方侧为相反侧之后方侧的待机位置之间，往与该基板保持部的并排方向交叉之前后方向进退。

4. 发明专利

TWI569309B 液體處理裝置有权
简体标题：液体处理设备
公开(公告)号：TWI569309B
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW103124955
申请日：2014-07-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 吉村好貴 , YOSHIMURA, KOKI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU , 牟田行志 , MUTA, KOSHI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/30
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/6715

5. 发明专利

TWI454318B 液體處理裝置，液體處理方法及記憶媒體有权
简体标题：液体处理设备，液体处理方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI454318B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW099104432
申请日：2010-02-11
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 吉村好貴 , YOSHIMURA, KOKI , 宮田雄一郎 , MIYATA, YUICHIRO , 山本裕介 , YAMAMOTO, YUSUKE
IPC分类号： B05C11/10 , G03F7/16 , G06F9/44

6. 发明专利

TW201100177A 液處理裝置，液處理方法及記憶媒體审中-公开
简体标题：液处理设备，液处理方法及记忆媒体
公开(公告)号：TW201100177A
公开(公告)日：2011-01-01
申请号：TW099104432
申请日：2010-02-11
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：瀧口靖史 , 吉村好貴 , 宮田雄一郎 , 山本裕介
IPC分类号： B05C , G03F , G06F
摘要：本發明之課題為:於具備有:具於橫方向被配置為一列之基板保持部的複數個液體處理部、及對於此等液體處理部被共用化之處理液體噴嘴的液體處理裝置中,抑制從前述處理液體噴嘴對基板之處理液體的落下,來防止良率的降低。本發明之解決手段為:於橫方向被排列為一列之複數個杯體的開口部間,於處理液體噴嘴的移動路徑的下方側設置有:與從藉由移動手段被移動的處理液體噴嘴垂下之前述處理液體的液滴接觸,將該液滴從處理液體噴嘴予以去除用之液體去除部。因此,處理液體噴嘴在為了對基板進行處理而移動於待機部和各液體處理部時,可以防止從處理液體噴嘴對基板上之前述液滴的落下。其結果,可以抑制良率的降低。
简体摘要：本发明之课题为:于具备有:具于横方向被配置为一列之基板保持部的复数个液体处理部、及对于此等液体处理部被共享化之处理液体喷嘴的液体处理设备中,抑制从前述处理液体喷嘴对基板之处理液体的落下,来防止良率的降低。本发明之解决手段为:于横方向被排列为一列之复数个杯体的开口部间,于处理液体喷嘴的移动路径的下方侧设置有:与从借由移动手段被移动的处理液体喷嘴垂下之前述处理液体的液滴接触,将该液滴从处理液体喷嘴予以去除用之液体去除部。因此,处理液体喷嘴在为了对基板进行处理而移动于待机部和各液体处理部时,可以防止从处理液体喷嘴对基板上之前述液滴的落下。其结果,可以抑制良率的降低。

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