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1. 发明专利

TW201024221A 含有鍺之高折射率薄膜及其製造方法 HIGH REFRACTIVE INDEX THIN FILM CONTAINING GERMANIUM AND PRODUCT METHOD THEREOF 审中-公开
简体标题：含有锗之高折射率薄膜及其制造方法 HIGH REFRACTIVE INDEX THIN FILM CONTAINING GERMANIUM AND PRODUCT METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW201024221A
公开(公告)日：2010-07-01
申请号：TW098138356
申请日：2009-11-11
申请人：日產化學工業股份有限公司 , 國立大學法人東北大學
发明人：渡邊明 , 宮下德治 , 廣岡明 , 長澤偉大
IPC分类号： C01G , G11B
CPC分类号： G02B1/10 , C07F7/30 , C08G79/00 , C09D185/00 , G02B1/00 , G02B1/118 , Y10T428/24942
摘要：本發明之課題為提供一種高折射率薄膜以及此種高折射率薄膜之製造方法，該膜係可溶於溶劑而且成形性及成膜性高，並具有1.8以上甚至2.3以上的高折射率，且化學性安定。解決課題的方法為一種高折射率被膜之製造方法及高折射率被膜，該製造方法係包含：製作由以Ge-Ge鍵結作為主鏈的鍺化合物所構成之被膜之步驟、以及在真空下或惰性氣體環境氣氛下將該被膜燒成之步驟。
简体摘要：本发明之课题为提供一种高折射率薄膜以及此种高折射率薄膜之制造方法，该膜系可溶于溶剂而且成形性及成膜性高，并具有1.8以上甚至2.3以上的高折射率，且化学性安定。解决课题的方法为一种高折射率被膜之制造方法及高折射率被膜，该制造方法系包含：制作由以Ge-Ge键结作为主链的锗化合物所构成之被膜之步骤、以及在真空下或惰性气体环境气氛下将该被膜烧成之步骤。

2. 发明专利

TW201211115A 有機取代聚鍺化合物之製造方法 METHOD FOR PRODUCING ORGANIC SUBSTITUTED POLYGERMANE COMPOUND 审中-公开
简体标题：有机取代聚锗化合物之制造方法 METHOD FOR PRODUCING ORGANIC SUBSTITUTED POLYGERMANE COMPOUND
公开(公告)号：TW201211115A
公开(公告)日：2012-03-16
申请号：TW100105200
申请日：2011-02-16
申请人：日產化學工業股份有限公司 , 國立大學法人東北大學
发明人：長澤偉大 , 廣岡明 , 渡邊明 , 宮下德治
IPC分类号： C08G , C07F , C09D , C08J , G02B
CPC分类号： C07F7/30 , C08G79/00 , C08G79/14 , C08L85/00
摘要：本發明係關於以有機基取代之聚鍺化合物(以下稱為有機取代聚鍺化合物)之製造方法，更詳言之，本發明係提供一種顯著改善收率而製造可製備具有高折射率之薄膜之有機取代聚鍺化合物之製造方法。本發明提供一種經有機基R取代之聚鍺化合物之製造方法，其特徵為使以下述式[1]表示之有機鹵化物、鍺四鹵化物、鹼金屬或鹼土類金屬在共存下反應，【化1】R-X [1] (式[1]中，R表示可經取代之碳原子數1至20之脂肪族烴基、可經取代之碳原子數1至20之脂環式烴基、或可經取代之碳原子數4至20之芳香族烴基，X表示鹵素原子)。
简体摘要：本发明系关于以有机基取代之聚锗化合物(以下称为有机取代聚锗化合物)之制造方法，更详言之，本发明系提供一种显着改善收率而制造可制备具有高折射率之薄膜之有机取代聚锗化合物之制造方法。本发明提供一种经有机基R取代之聚锗化合物之制造方法，其特征为使以下述式[1]表示之有机卤化物、锗四卤化物、碱金属或碱土类金属在共存下反应，【化1】R-X [1] (式[1]中，R表示可经取代之碳原子数1至20之脂肪族烃基、可经取代之碳原子数1至20之脂环式烃基、或可经取代之碳原子数4至20之芳香族烃基，X表示卤素原子)。

3. 发明专利

TW201815831A 反應性聚矽氧烷及包含此之聚合性組成物审中-公开
简体标题：反应性聚硅氧烷及包含此之聚合性组成物
公开(公告)号：TW201815831A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106118015
申请日：2017-05-26
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：長澤偉大 , NAGASAWA, TAKEHIRO , 加藤拓 , KATO, TAKU , 首藤圭介 , SHUTO, KEISUKE
IPC分类号： C08F2/48 , C08F230/08 , C08F290/06 , C08G77/20 , G02B1/04
摘要：本發明之課題在於提供一種聚合性組成物，其之硬化物展現低阿貝數，並且係適合於製作具有高透明性之成形體。其解決手段為一種包含(a)反應性聚矽氧烷100質量份，該反應性聚矽氧烷係為至少包含式[1]所表示之烷氧基矽化合物A之烷氧基矽化合物之縮聚物，及(b)至少具有1個聚合性雙鍵之聚合性化合物10~500質量份之聚合性組成物、該聚合性組成物之硬化物、及使用該聚合性組成物之成形體之製造方法。 (式中，X表示至少具有1個具有聚合性雙鍵之取代基之苯基、萘基、聯苯基或菲基，Ar1表示具有複數苯環構造之縮合環烴基(可經碳原子數1至6之烷基取代)、或複數芳香環以單鍵直接結合之烴環集合基(可經碳原子數1至6之烷基取代)，R1表示甲基、乙基、或異丙基。)
简体摘要：本发明之课题在于提供一种聚合性组成物，其之硬化物展现低阿贝数，并且系适合于制作具有高透明性之成形体。其解决手段为一种包含(a)反应性聚硅氧烷100质量份，该反应性聚硅氧烷系为至少包含式[1]所表示之烷氧基硅化合物A之烷氧基硅化合物之缩聚物，及(b)至少具有1个聚合性双键之聚合性化合物10~500质量份之聚合性组成物、该聚合性组成物之硬化物、及使用该聚合性组成物之成形体之制造方法。 (式中，X表示至少具有1个具有聚合性双键之取代基之苯基、萘基、联苯基或菲基，Ar1表示具有复数苯环构造之缩合环烃基(可经碳原子数1至6之烷基取代)、或复数芳香环以单键直接结合之烃环集合基(可经碳原子数1至6之烷基取代)，R1表示甲基、乙基、或异丙基。)

4. 发明专利

TW201522391A 含反應性聚矽氧化合物之聚合性組成物审中-公开
简体标题：含反应性聚硅氧化合物之聚合性组成物
公开(公告)号：TW201522391A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103128100
申请日：2014-08-15
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：長澤偉大 , NAGASAWA, TAKEHIRO , 大森健太郎 , OHMORI, KENTARO , 澤田和宏 , SAWADA, KAZUHIRO
IPC分类号： C08F230/08 , C08G77/20
CPC分类号： C08F230/08 , C08F290/068 , C08G77/20 , C08G77/80 , G02B1/041 , C08F220/18 , C08F2220/1875 , C08F220/28 , C08F220/30
摘要：提供一種即使曝露於高溫下亦無著色(黃變)、且硬化物的Tg為140℃以上的液狀硬化樹脂。解決課題之手段的聚合性組成物，其係包含：(a)在酸或鹼之存在下，將式[1]所表示的二芳基矽酸化合物與式[2]所表示的烷氧基矽烷化合物進行聚縮合所得的反應性聚矽氧化合物100質量份、及(b)選自由(b1)在分子內具有碳原子數3至30的脂環基及1個自由基聚合性雙鍵的化合物、以及(b2)馬來醯亞胺衍生物所構成之群中至少1種的聚合性單體20~100質量份， (式中，Ar1及Ar2係分別獨立表示可被碳原子數1至6的烷基所取代的苯基；Ar3係表示具有至少1個具有聚合性雙鍵之基的苯基，或具有至少1個具有聚合性雙鍵之基的萘基；R1係表示甲基或乙基；R2係表示甲基、乙基或乙烯基苯基；a係表示2或3)。
简体摘要：提供一种即使曝露于高温下亦无着色(黄变)、且硬化物的Tg为140℃以上的液状硬化树脂。解决课题之手段的聚合性组成物，其系包含：(a)在酸或碱之存在下，将式[1]所表示的二芳基硅酸化合物与式[2]所表示的烷氧基硅烷化合物进行聚缩合所得的反应性聚硅氧化合物100质量份、及(b)选自由(b1)在分子内具有碳原子数3至30的脂环基及1个自由基聚合性双键的化合物、以及(b2)马来酰亚胺衍生物所构成之群中至少1种的聚合性单体20~100质量份， (式中，Ar1及Ar2系分别独立表示可被碳原子数1至6的烷基所取代的苯基；Ar3系表示具有至少1个具有聚合性双键之基的苯基，或具有至少1个具有聚合性双键之基的萘基；R1系表示甲基或乙基；R2系表示甲基、乙基或乙烯基苯基；a系表示2或3)。

5. 发明专利

TW201831934A ＧＩ型光波導之製造方法审中-公开
简体标题：ＧＩ型光波导之制造方法
公开(公告)号：TW201831934A
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW107103117
申请日：2018-01-29
申请人：學校法人慶應義塾 , KEIO UNIVERSITY , 日商日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：石榑崇明 , ISHIGURE, TAKAAKI , 齊藤侑季 , SAITO, YUKI , 丸島千波 , MARUSHIMA, CHINAMI , 長澤偉大 , NAGASAWA, TAKEHIRO
IPC分类号： G02B6/122 , G02B6/13
摘要：本發明係一種GI型光波導之製造方法，其課題為提供核心的剖面形狀為略圓形之GI型光波導者。　　解決手段係具有：刺入吐出部前端的針狀部於未硬化之覆蓋部的第1工程，和自前述針狀部吐出未硬化之材料的同時，使前述針狀部移動在前述未硬化之覆蓋部內，於前述未硬化之覆蓋部形成被覆周圍之未硬化的核心部之第2工程，和自前述未硬化之覆蓋部拔去前述針狀部之第3工程，和使前述未硬化之覆蓋部及前述未硬化之核心部硬化的第4工程之光波導之製造方法，其特徵為在前述第2工程的溫度中，對於前述未硬化之覆蓋部的黏度而言，形成前述未硬化的核心部之材料的黏度比則為1.20~6者。
简体摘要：本发明系一种GI型光波导之制造方法，其课题为提供内核的剖面形状为略圆形之GI型光波导者。　　解决手段系具有：刺入吐出部前端的针状部于未硬化之覆盖部的第1工程，和自前述针状部吐出未硬化之材料的同时，使前述针状部移动在前述未硬化之覆盖部内，于前述未硬化之覆盖部形成被覆周围之未硬化的内核部之第2工程，和自前述未硬化之覆盖部拔去前述针状部之第3工程，和使前述未硬化之覆盖部及前述未硬化之内核部硬化的第4工程之光波导之制造方法，其特征为在前述第2工程的温度中，对于前述未硬化之覆盖部的黏度而言，形成前述未硬化的内核部之材料的黏度比则为1.20~6者。

6. 发明专利

TW201825534A 壓印材料审中-公开
简体标题：压印材料
公开(公告)号：TW201825534A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106127064
申请日：2017-08-10
申请人：日商日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：小林淳平 , KOBAYASHI, JUNPEI , 櫻葉汀丹尼爾 , SAHADE, DANIEL ANTONIO , 長澤偉大 , NAGASAWA, TAKEHIRO , 首藤圭介 , SHUTO, KEISUKE , 加藤拓 , KATO, TAKU , 鈴木正睦 , SUZUKI, MASAYOSHI
IPC分类号： C08F220/18 , C08F220/32 , G03F7/028 , B29C59/02
摘要： [課題] 提供一種新穎之壓印材料。　　[解決手段] 一種壓印材料，其含有下述(A)成分、(B)成分及(C)成分，　　(A)：下述式(1)所示之化合物(式中，2個R各自獨立表示氫原子或甲基)；　　(B)：具有碳原子數為6至10之直鏈伸烷基及/或選自由環戊烷構造、環己烷構造、降莰烷構造、異莰基構造及金剛烷構造所成群組中之脂環構造，以及至少一個聚合性基之化合物；　　(C)：光聚合起始劑。
简体摘要： [课题] 提供一种新颖之压印材料。　　[解决手段] 一种压印材料，其含有下述(A)成分、(B)成分及(C)成分，　　(A)：下述式(1)所示之化合物(式中，2个R各自独立表示氢原子或甲基)；　　(B)：具有碳原子数为6至10之直链伸烷基及/或选自由环戊烷构造、环己烷构造、降莰烷构造、异莰基构造及金刚烷构造所成群组中之脂环构造，以及至少一个聚合性基之化合物；　　(C)：光聚合起始剂。

7. 发明专利

TW201706365A 含反應性倍半矽氧烷化合物之聚合性樹脂組成物审中-公开
简体标题：含反应性倍半硅氧烷化合物之聚合性树脂组成物
公开(公告)号：TW201706365A
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：TW105111222
申请日：2016-04-11
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：長澤偉大 , NAGASAWA, TAKEHIRO , 田所佐代子 , TADOKORO, SAYOKO
IPC分类号： C08L83/07 , C08K5/103 , C08L101/02 , G02B1/04 , G02B3/00
CPC分类号： C08F290/148 , B29D11/00442 , B29K2083/00 , C08F2/44 , C08F290/14 , C08F299/08 , C08G77/045 , C08G77/20 , C08G77/80 , G02B1/04 , G02B1/041
摘要：本發明之課題在於提供一種聚合性組成物，其係適合製作能維持高折射率，且可進一步抑制因高溫熱經歷所發生的裂痕、自支持體的剝離及尺寸變化之成形體。本發明的解決手段為聚合性組成物、將該聚合性組成物聚合而得之硬化物以及由該聚合性組成物所成之高折射率樹脂透鏡用材料，該聚合性組成物包含：(a)特定的反應性倍半矽氧烷化合物100質量份，(b)特定的茀化合物10~500質量份，及(c)具有5,000~100,000之重量平均分子量的聚合物0.1~50質量份。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种聚合性组成物，其系适合制作能维持高折射率，且可进一步抑制因高温热经历所发生的裂痕、自支持体的剥离及尺寸变化之成形体。本发明的解决手段为聚合性组成物、将该聚合性组成物聚合而得之硬化物以及由该聚合性组成物所成之高折射率树脂透镜用材料，该聚合性组成物包含：(a)特定的反应性倍半硅氧烷化合物100质量份，(b)特定的茀化合物10~500质量份，及(c)具有5,000~100,000之重量平均分子量的聚合物0.1~50质量份。

8. 发明专利

TW201535424A 含反應性矽酮化合物之聚合性組成物及絕緣膜审中-公开
简体标题：含反应性硅酮化合物之聚合性组成物及绝缘膜
公开(公告)号：TW201535424A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：TW103143775
申请日：2014-12-12
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：大森健太郎 , OHMORI, KENTARO , 長澤偉大 , NAGASAWA, TAKEHIRO , 江原和也 , EBARA, KAZUYA
IPC分类号： H01B3/46 , H01L21/312 , H01L29/786
CPC分类号： C09D183/04 , C08G77/20 , C08G77/80 , H01L21/02216 , H01L21/02282 , C09D183/00 , C08K5/0025
摘要：本發明之課題係提供一種能夠不進行超過250℃之熱處理而以塗佈製程形成絕緣性優異的膜之聚合性組成物。本發明之解決手段為一種絕緣膜形成用聚合性組成物，其係包含：(a)將以式〔1〕所表示的二芳基矽酸化合物與以式〔2〕所表示的烷氧基矽化合物，在酸或鹼的存在下，以該二芳基矽酸化合物的OH基/該烷氧基矽化合物的OR1基=0.70~1.4(莫耳比)進行聚縮合所得到的反應性矽酮化合物100質量份、(b)聚合起始劑0.1~10質量份、以及(c)有機溶劑30~3,000質量份， (式中，Ar1及Ar2係各自獨立表示可以烷基取代的苯基，R1係表示甲基或乙基，R2係表示甲基、乙基或乙烯基苯基，R3係表示乙烯基、或至少具有1個具有聚合性雙鍵之基的烷基、苯基或萘基，a係表示2或3)。
简体摘要：本发明之课题系提供一种能够不进行超过250℃之热处理而以涂布制程形成绝缘性优异的膜之聚合性组成物。本发明之解决手段为一种绝缘膜形成用聚合性组成物，其系包含：(a)将以式〔1〕所表示的二芳基硅酸化合物与以式〔2〕所表示的烷氧基硅化合物，在酸或碱的存在下，以该二芳基硅酸化合物的OH基/该烷氧基硅化合物的OR1基=0.70~1.4(莫耳比)进行聚缩合所得到的反应性硅酮化合物100质量份、(b)聚合起始剂0.1~10质量份、以及(c)有机溶剂30~3,000质量份， (式中，Ar1及Ar2系各自独立表示可以烷基取代的苯基，R1系表示甲基或乙基，R2系表示甲基、乙基或乙烯基苯基，R3系表示乙烯基、或至少具有1个具有聚合性双键之基的烷基、苯基或萘基，a系表示2或3)。

9. 发明专利

TW201120072A 透明含氟聚合物审中-公开
公开(公告)号：TW201120072A
公开(公告)日：2011-06-16
申请号：TW099127751
申请日：2010-08-19
申请人：國立大學法人茨城大學 , 日產化學工業股份有限公司
发明人：久保田俊夫 , 長澤偉大 , 廣岡明
IPC分类号： C08F , C07C , C08J , B32B , H01L
CPC分类号： C08F220/18 , C08F216/125 , Y10T428/24802 , C08F220/12
摘要：本發明為一種含氟聚合物,係使式[1]所表示之1,6-二烯型醚化合物,與例如式(2)所表示般的(甲基)丙烯酸化合物聚合而得,其係透明性高、具有高玻璃轉移點,可溶於溶劑而具備成形性,且在(甲基)丙烯酸單元具有反應性取代基的情況,可利用該交聯反應製作具有高溶劑耐性的薄膜,

(式中,R1及R2互相獨立,表示氫原子或可經取代的碳原子數1-12之烷基,R3表示氫原子、氟原子或甲基,R4表示氫原子、可經取代的碳原子數1-12之烷基或可經取代的5-10員環之芳香族基)。
简体摘要：本发明为一种含氟聚合物,系使式[1]所表示之1,6-二烯型醚化合物,与例如式(2)所表示般的(甲基)丙烯酸化合物聚合而得,其系透明性高、具有高玻璃转移点,可溶于溶剂而具备成形性,且在(甲基)丙烯酸单元具有反应性取代基的情况,可利用该交联反应制作具有高溶剂耐性的薄膜, (式中,R1及R2互相独立,表示氢原子或可经取代的碳原子数1-12之烷基,R3表示氢原子、氟原子或甲基,R4表示氢原子、可经取代的碳原子数1-12之烷基或可经取代的5-10员环之芳香族基)。

10. 发明专利

TW201843183A 壓印用光硬化性組成物审中-公开
简体标题：压印用光硬化性组成物
公开(公告)号：TW201843183A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107102843
申请日：2018-01-26
申请人：日商日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：長澤偉大 , NAGASAWA, TAKEHIRO , 小林淳平 , KOBAYASHI, JUNPEI , 首藤圭介 , SHUTO, KEISUKE , 加藤拓 , KATO, TAKU , 菅原由紀 , SUGAWARA, YUKI
IPC分类号： C08F2/44 , C08F2/50 , C08L33/14 , C08F220/28 , C08K5/00 , C08K5/37 , B29C59/02 , B29C59/16 , G02B1/04 , G02B3/00 , B29L11/00
摘要：本發明之課題在於提供一種光硬化性組成物，其係可形成光學特性為優異、且壓印後的支撐體的翹曲量遠小於以往的硬化物。　　本發明之解決課題之手段係一種壓印用光硬化性組成物，其係包含下述(a)成分、相對於該(a)成分100質量份為0質量份至70質量份的下述(b)成分、相對於該(a)成分及該(b)成分的總和100質量份為5質量份至30質量份的下述(c)成分、以及相對於該(a)成分、該(b)成分及該(c)成分的總和100質量份為0.2質量份至5質量份的下述(d)成分，　　(a)：下述式(1)表示的二(甲基)丙烯酸酯化合物， (式中，R1及R2係分別獨立表示氫原子或甲基，R3及R4係分別獨立表示碳原子數1至4的伸烷基，R5及R6係分別獨立表示氫原子或甲基，r1及r2係分別獨立表示1至5的整數)；　　(b)：不包含芳香族環的單官能或多官能(甲基)丙烯酸酯化合物(但，不包括前述式(1)表示的二(甲基)丙烯酸酯化合物)；　　(c)：分子內具有2個至6個巰基的多官能硫醇化合物；　　(d)：光自由基起始劑。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种光硬化性组成物，其系可形成光学特性为优异、且压印后的支撑体的翘曲量远小于以往的硬化物。　　本发明之解决课题之手段系一种压印用光硬化性组成物，其系包含下述(a)成分、相对于该(a)成分100质量份为0质量份至70质量份的下述(b)成分、相对于该(a)成分及该(b)成分的总和100质量份为5质量份至30质量份的下述(c)成分、以及相对于该(a)成分、该(b)成分及该(c)成分的总和100质量份为0.2质量份至5质量份的下述(d)成分，　　(a)：下述式(1)表示的二(甲基)丙烯酸酯化合物， (式中，R1及R2系分别独立表示氢原子或甲基，R3及R4系分别独立表示碳原子数1至4的伸烷基，R5及R6系分别独立表示氢原子或甲基，r1及r2系分别独立表示1至5的整数)；　　(b)：不包含芳香族环的单官能或多官能(甲基)丙烯酸酯化合物(但，不包括前述式(1)表示的二(甲基)丙烯酸酯化合物)；　　(c)：分子内具有2个至6个巯基的多官能硫醇化合物；　　(d)：光自由基起始剂。

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