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1. 发明专利

TW201833665A 感放射線性組成物及圖案形成方法审中-公开
简体标题：感放射线性组成物及图案形成方法
公开(公告)号：TW201833665A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW107102723
申请日：2018-01-25
申请人：日商JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：峯岸信也 , MINEGISHI, SHIN-YA , 白谷宗大 , SHIRATANI, MOTOHIRO , 中川恭志 , NAKAGAWA, HISASHI
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/004 , C07F7/22 , C07F7/24 , C07F7/30 , H01L21/027
摘要：本發明為一種感放射線性組成物，其含有金屬氧化物及溶媒，所述金屬氧化物具有下述式（1）、下述式（2）或該些的組合所表示的第1結構單元、以及下述式（3）所表示的第2結構單元。下述式（1）～式（3）中，M分別獨立地為鍺、錫或鉛。R1、R2及R3分別獨立地為利用碳原子而與M鍵結的碳數1～40的一價有機基。作為所述第1結構單元相對於構成所述金屬氧化物的所有結構單元的含有比例，較佳為50莫耳%以上。
简体摘要：本发明为一种感放射线性组成物，其含有金属氧化物及溶媒，所述金属氧化物具有下述式（1）、下述式（2）或该些的组合所表示的第1结构单元、以及下述式（3）所表示的第2结构单元。下述式（1）～式（3）中，M分别独立地为锗、锡或铅。R1、R2及R3分别独立地为利用碳原子而与M键结的碳数1～40的一价有机基。作为所述第1结构单元相对于构成所述金属氧化物的所有结构单元的含有比例，较佳为50莫耳%以上。

2. 发明专利

TW201825505A 感放射線性組成物、圖案形成方法及金屬氧化物审中-公开
简体标题：感放射线性组成物、图案形成方法及金属氧化物
公开(公告)号：TW201825505A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106144480
申请日：2017-12-19
申请人：日商JSR 股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：峯岸信也 , MINEGISHI, SHIN-YA , 白谷宗大 , SHIRATANI, MOTOHIRO , 浅野裕介 , ASANO, YUSUKE , 中川恭志 , NAKAGAWA, HISASHI , 成岡岳彦 , NARUOKA, TAKEHIKO
IPC分类号： C07F7/30 , C07F7/22 , C07F7/24 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/20 , G03F7/32 , H01L21/027
摘要：本發明的目的在於提供感度優異的感放射線性組成物。本發明是含有具有下述式（1）所表示的結構單元的金屬氧化物與溶媒的感放射線性組成物。下述式（1）中，M為鍺、錫或鉛。R1是包含具有不飽和鍵的基及拉電子性基中的至少一種且利用碳原子而與M鍵結的碳數30以下的一價有機基。所述R1所表示的一價有機基包含具有不飽和鍵的基，所述具有不飽和鍵的基可為芳香族基及含有乙烯性雙鍵的基中的至少一種。所述R1所表示的一價有機基包含拉電子性基，所述拉電子性基可為氰基、硝基、鹵化烷基、-COO-及陽離子性基中的至少一種。所述金屬氧化物的以固體成分換算計的含量較佳為50質量%以上。
简体摘要：本发明的目的在于提供感度优异的感放射线性组成物。本发明是含有具有下述式（1）所表示的结构单元的金属氧化物与溶媒的感放射线性组成物。下述式（1）中，M为锗、锡或铅。R1是包含具有不饱和键的基及拉电子性基中的至少一种且利用碳原子而与M键结的碳数30以下的一价有机基。所述R1所表示的一价有机基包含具有不饱和键的基，所述具有不饱和键的基可为芳香族基及含有乙烯性双键的基中的至少一种。所述R1所表示的一价有机基包含拉电子性基，所述拉电子性基可为氰基、硝基、卤化烷基、-COO-及阳离子性基中的至少一种。所述金属氧化物的以固体成分换算计的含量较佳为50质量%以上。

3. 发明专利

TW201837981A 感放射線性組成物及圖案形成方法审中-公开
简体标题：感放射线性组成物及图案形成方法
公开(公告)号：TW201837981A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW107104161
申请日：2018-02-06
申请人：日商JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：中川恭志 , NAKAGAWA, HISASHI , 峯岸信也 , MINEGISHI, SHIN-YA , 白谷宗大 , SHIRATANI, MOTOHIRO
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/20
摘要：本發明的目的在於提供一種感放射線性組成物的塗佈性及保存穩定性優異的感放射線性組成物及使用其的圖案形成方法。本發明是一種感放射線性組成物，其含有具有金屬-氧共價鍵的化合物及溶媒，所述金屬為屬於週期表第3族～第15族的第4週期～第7週期中的任一週期的元素的金屬，所述溶媒包含：20℃下的黏度為10 mPa·s以下且20℃下的蒸氣壓為5 kPa以下的第1溶媒；以及凡得瓦體積為150 Å3以下且與所述第1溶媒不同的第2溶媒，所述第2溶媒為水、R1-OH所表示的一元醇類、R2-COOH或該些的組合，R1為碳數1以上且4以下的一價有機基，R2為碳數1以上且30以下的一價有機基。所述第1溶媒於所有溶媒中的含量較佳為50質量%以上且90質量%以下。
简体摘要：本发明的目的在于提供一种感放射线性组成物的涂布性及保存稳定性优异的感放射线性组成物及使用其的图案形成方法。本发明是一种感放射线性组成物，其含有具有金属-氧共价键的化合物及溶媒，所述金属为属于周期表第3族～第15族的第4周期～第7周期中的任一周期的元素的金属，所述溶媒包含：20℃下的黏度为10 mPa·s以下且20℃下的蒸气压为5 kPa以下的第1溶媒；以及凡得瓦体积为150 Å3以下且与所述第1溶媒不同的第2溶媒，所述第2溶媒为水、R1-OH所表示的一元醇类、R2-COOH或该些的组合，R1为碳数1以上且4以下的一价有机基，R2为碳数1以上且30以下的一价有机基。所述第1溶媒于所有溶媒中的含量较佳为50质量%以上且90质量%以下。

4. 发明专利

TW201831570A 感放射線性組成物、圖案形成方法以及含金屬樹脂及其製造方法审中-公开
简体标题：感放射线性组成物、图案形成方法以及含金属树脂及其制造方法
公开(公告)号：TW201831570A
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW106143714
申请日：2017-12-13
申请人：日商JSR 股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：浅野裕介 , ASANO, YUSUKE , 中川恭志 , NAKAGAWA, HISASHI , 峯岸信也 , MINEGISHI, SHIN-YA
IPC分类号： C08G79/12 , C08F30/04 , G03F7/004 , H01L21/027
摘要：本發明是一種感放射線性組成物，其用於極紫外線或電子束曝光，且含有聚合物與溶劑，所述感放射線性組成物的特徵在於：所述聚合物具有第1結構單元，所述第1結構單元包含一個或多個金屬原子、及藉由化學鍵而鍵結於該金屬原子且不構成不飽和鍵的碳原子，所述化學鍵中的至少一個為共價鍵。較佳為所述化學鍵全部為共價鍵。所述金屬原子較佳為錫、鍺、鉛或該些的組合。
简体摘要：本发明是一种感放射线性组成物，其用于极紫外线或电子束曝光，且含有聚合物与溶剂，所述感放射线性组成物的特征在于：所述聚合物具有第1结构单元，所述第1结构单元包含一个或多个金属原子、及借由化学键而键结于该金属原子且不构成不饱和键的碳原子，所述化学键中的至少一个为共价键。较佳为所述化学键全部为共价键。所述金属原子较佳为锡、锗、铅或该些的组合。

5. 发明专利

TW201308017A 光阻底層膜組成物及圖型形成方法审中-公开
简体标题：光阻底层膜组成物及图型形成方法
公开(公告)号：TW201308017A
公开(公告)日：2013-02-16
申请号：TW101109492
申请日：2012-03-20
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：峯岸信也 , MINEGISHI, SHIN-YA , 松村裕史 , MATSUMURA, YUUSHI , 中藤慎也 , NAKAFUJI, SHIN-YA , 香村和彥 , KOUMURA, KAZUHIKO , 中野孝德 , NAKANO, TAKANORI , 村上曉 , MURAKAMI, SATORU , 保田慶友 , YASUDA, KYOUYUU , 杉浦誠 , SUGIURA, MAKOTO
IPC分类号： G03F7/09 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/091 , C08G8/08 , C08L61/06 , G03F7/094
摘要：本發明之目的在於提供可形成具有優異的耐蝕刻性之光阻底層膜，對於具有階差的基板之埋入性能優異，而且光阻底層膜形成時出氣量少之光阻底層膜形成用組成物及圖型形成方法。本發明的手段為一種光阻底層膜形成用組成物，其含有(A)具有下述式(1)所示之構造單位，且聚苯乙烯換算重量平均分子量為3,000以上10,000以下之聚合物，及(B)溶劑。下述式(1)中，R3~R8各自獨立地為下述式(2)所示之基、氫原子、羥基、碳數1~6的烷基、碳數1~6的烷氧基、碳數2~10的烷氧羰基、碳數6~14的芳基或縮水甘油醚基。惟，R3~R8中之至少1個為下述式(2)所示之基。
简体摘要：本发明之目的在于提供可形成具有优异的耐蚀刻性之光阻底层膜，对于具有阶差的基板之埋入性能优异，而且光阻底层膜形成时出气量少之光阻底层膜形成用组成物及图型形成方法。本发明的手段为一种光阻底层膜形成用组成物，其含有(A)具有下述式(1)所示之构造单位，且聚苯乙烯换算重量平均分子量为3,000以上10,000以下之聚合物，及(B)溶剂。下述式(1)中，R3~R8各自独立地为下述式(2)所示之基、氢原子、羟基、碳数1~6的烷基、碳数1~6的烷氧基、碳数2~10的烷氧羰基、碳数6~14的芳基或缩水甘油醚基。惟，R3~R8中之至少1个为下述式(2)所示之基。

6. 发明专利

TWI554837B 光阻圖型之形成方法有权
简体标题：光阻图型之形成方法
公开(公告)号：TWI554837B
公开(公告)日：2016-10-21
申请号：TW104125930
申请日：2011-09-05
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：庵野祐亮 , ANNO, YUUSUKE , 森隆 , MORI, TAKASHI , 榊原宏和 , SAKAKIBARA, HIROKAZU , 古川泰一 , FURUKAWA, TAIICHI , 高梨和憲 , TAKANASHI, KAZUNORI , 田中博允 , TANAKA, HIROMITSU , 峯岸信也 , MINEGISHI, SHIN-YA
IPC分类号： G03F7/11 , C08L83/04 , C08L33/08 , C08L33/16 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/16 , G03F7/0397 , G03F7/0751 , G03F7/0752 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/20 , G03F7/30 , G03F7/325

7. 发明专利

TWI531863B 光阻底層膜形成用組成物及圖型形成方法有权
简体标题：光阻底层膜形成用组成物及图型形成方法
公开(公告)号：TWI531863B
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW101109492
申请日：2012-03-20
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：峯岸信也 , MINEGISHI, SHIN-YA , 松村裕史 , MATSUMURA, YUUSHI , 中藤慎也 , NAKAFUJI, SHIN-YA , 香村和彥 , KOUMURA, KAZUHIKO , 中野孝德 , NAKANO, TAKANORI , 村上曉 , MURAKAMI, SATORU , 保田慶友 , YASUDA, KYOUYUU , 杉浦誠 , SUGIURA, MAKOTO
IPC分类号： G03F7/09 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/091 , C08G8/08 , C08L61/06 , G03F7/094

8. 发明专利

TWI581063B 液浸曝光用感放射線性樹脂組成物及光阻圖型形成方法有权
简体标题：液浸曝光用感放射线性树脂组成物及光阻图型形成方法
公开(公告)号：TWI581063B
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW102110710
申请日：2013-03-26
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：峯岸信也 , MINEGISHI, SHIN-YA , 笠原一樹 , KASAHARA, KAZUKI , 堀雅史 , HORI, MASAFUMI , 吉田昌史 , YOSHIDA, MASAFUMI , 佐藤光央 , SATOU, MITSUO , 池田憲彥 , IKEDA, NORIHIKO
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0046 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/2041

9. 发明专利

TWI432906B 光阻下層膜形成用組成物及圖型之形成方法有权
简体标题：光阻下层膜形成用组成物及图型之形成方法
公开(公告)号：TWI432906B
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW100117050
申请日：2011-05-16
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：中藤慎也 , NAKAFUJI, SHIN-YA , 峯岸信也 , MINEGISHI, SHIN-YA , 中野孝德 , NAKANO, TAKANORI
IPC分类号： G03F7/11 , C08L65/00 , H01L21/027

10. 发明专利

TW201344367A 液浸曝光用感放射線性樹脂組成物及光阻圖型形成方法审中-公开
简体标题：液浸曝光用感放射线性树脂组成物及光阻图型形成方法
公开(公告)号：TW201344367A
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW102110710
申请日：2013-03-26
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：峯岸信也 , MINEGISHI, SHIN-YA , 笠原一樹 , KASAHARA, KAZUKI , 堀雅史 , HORI, MASAFUMI , 吉田昌史 , YOSHIDA, MASAFUMI , 佐藤光央 , SATOU, MITSUO , 池田憲彥 , IKEDA, NORIHIKO
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0046 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要：本發明為含有[A]具有以下述式(1)表示之構造單位之聚合物，及[B]感放射線性酸產生體之液浸曝光用感放射線性樹脂組成物。下述式(1)中，R1為氫原子或碳數1~20之一價有機基。R2為單鍵、碳數1~20之二價鏈狀烴基、碳數3~20之二價脂環式烴基、或該等中之一種或兩種以上與-O-組合之基。R3為氫原子或碳數1~20之一價有機基。RA為氫原子或碳數1~20之一價有機基。
简体摘要：本发明为含有[A]具有以下述式(1)表示之构造单位之聚合物，及[B]感放射线性酸产生体之液浸曝光用感放射线性树脂组成物。下述式(1)中，R1为氢原子或碳数1~20之一价有机基。R2为单键、碳数1~20之二价链状烃基、碳数3~20之二价脂环式烃基、或该等中之一种或两种以上与-O-组合之基。R3为氢原子或碳数1~20之一价有机基。RA为氢原子或碳数1~20之一价有机基。

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