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    • 3. 发明专利
    • 連接構造體之製造方法、導電性粒子、導電膜及連接構造體
    • 连接构造体之制造方法、导电性粒子、导电膜及连接构造体
    • TW201717217A
    • 2017-05-16
    • TW105130926
    • 2016-09-23
    • 積水化學工業股份有限公司SEKISUI CHEMICAL CO., LTD.
    • 真原茂雄MAHARA, SHIGEO王暁舸WANG, XIAOGE土橋悠人DOBASHI, YUTO笹平昌男SASADAIRA, MASAO
    • H01B1/22H01B5/16C09J9/02
    • H01B5/16H01R11/01H05K3/32
    • 本發明提供一種可使電極間之連接電阻降低之連接構造體之製造方法。 本發明之連接構造體之製造方法包括:使用包含130℃下之黏度為50 Pa・s以上且1000 Pa・s以下之黏合劑樹脂、與導電性粒子之導電膜,且使用於表面具有第1電極之第1連接對象構件,使用於表面具有第2電極之第2連接對象構件,以上述第1電極與上述第2電極相對向之方式將上述導電膜配置於上述第1連接對象構件與上述第2連接對象構件之間,而獲得積層體之步驟;及對上述積層體進行加熱及加壓以進行熱壓接,藉此獲得連接構造體之步驟,而獲得如下連接構造體,即於所獲得之連接構造體中,上述導電性粒子被壓入至上述第1電極中之深度5 nm以上的壓痕數量係上述第1電極之表面積每500 μm2為5個以上。
    • 本发明提供一种可使电极间之连接电阻降低之连接构造体之制造方法。 本发明之连接构造体之制造方法包括:使用包含130℃下之黏度为50 Pa・s以上且1000 Pa・s以下之黏合剂树脂、与导电性粒子之导电膜,且使用于表面具有第1电极之第1连接对象构件,使用于表面具有第2电极之第2连接对象构件,以上述第1电极与上述第2电极相对向之方式将上述导电膜配置于上述第1连接对象构件与上述第2连接对象构件之间,而获得积层体之步骤;及对上述积层体进行加热及加压以进行热压接,借此获得连接构造体之步骤,而获得如下连接构造体,即于所获得之连接构造体中,上述导电性粒子被压入至上述第1电极中之深度5 nm以上的压痕数量系上述第1电极之表面积每500 μm2为5个以上。