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1. 发明专利

TW201843274A 附黏著劑層之單面保護偏光薄膜、影像顯示裝置及其連續製造方法审中-公开
简体标题：附黏着剂层之单面保护偏光薄膜、影像显示设备及其连续制造方法
公开(公告)号：TW201843274A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107110479
申请日：2018-03-27
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：森本有 , MORIMOTO, YU , 外山雄祐 , TOYAMA, YUSUKE , 藤田雅人 , FUJITA, MASATO
IPC分类号： C09J7/29 , C09J133/08 , C09J11/06 , G02B5/30 , G02F1/1335
摘要：本發明之目的在於提供一種即使不在偏光件與黏著劑層之間設置塗佈層仍可抑制奈米狹縫所造成之缺陷的附黏著劑層之單面保護偏光薄膜。本發明之附黏著劑層之單面保護偏光薄膜，特徵在於：其具有僅於偏光件之單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜，並於前述單面保護偏光薄膜之偏光件側直接具有黏著劑層或隔著塗佈層具有黏著劑層；並且，前述黏著劑層在-40℃下之儲存彈性模數為7.0×107Pa以上。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种即使不在偏光件与黏着剂层之间设置涂布层仍可抑制奈米狭缝所造成之缺陷的附黏着剂层之单面保护偏光薄膜。本发明之附黏着剂层之单面保护偏光薄膜，特征在于：其具有仅于偏光件之单面具有保护薄膜的单面保护偏光薄膜，并于前述单面保护偏光薄膜之偏光件侧直接具有黏着剂层或隔着涂布层具有黏着剂层；并且，前述黏着剂层在-40℃下之存储弹性模数为7.0×107Pa以上。

2. 发明专利

TW201833600A 光學積層體及圖像顯示裝置审中-公开
简体标题：光学积层体及图像显示设备
公开(公告)号：TW201833600A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106144983
申请日：2017-12-21
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：森本有 , MORIMOTO, YU , 外山雄祐 , TOYAMA, YUUSUKE , 池嶋健太郎 , IKESHIMA, KENTARO
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335 , B32B7/02
摘要：本發明之目的在於提供一種抑制固定於吸附台時於偏光板上殘留之痕跡之光學積層體。上述光學積層體依序具有表面保護膜、第1黏著劑層、偏光板、第2黏著劑層及剝離膜，於將表面保護膜之拉伸彈性模數與厚度之積設為A、將偏光板之拉伸彈性模數與厚度之積設為B、將剝離膜之拉伸彈性模數與厚度之積設為C時，滿足A＞B＋C。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种抑制固定于吸附台时于偏光板上残留之痕迹之光学积层体。上述光学积层体依序具有表面保护膜、第1黏着剂层、偏光板、第2黏着剂层及剥离膜，于将表面保护膜之拉伸弹性模数与厚度之积设为A、将偏光板之拉伸弹性模数与厚度之积设为B、将剥离膜之拉伸弹性模数与厚度之积设为C时，满足A＞B＋C。

3. 发明专利

TW201825626A 有機EL顯示裝置用黏著劑組合物、有機EL顯示裝置用黏著劑層、附有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜及有機EL顯示裝置审中-公开
简体标题：有机EL显示设备用黏着剂组合物、有机EL显示设备用黏着剂层、附有机EL显示设备用黏着剂层之偏光膜及有机EL显示设备
公开(公告)号：TW201825626A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106127431
申请日：2017-08-14
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：山崎潤枝 , YAMASAKI, MIZUE , 外山雄祐 , TOYAMA, YUSUKE , 森本有 , MORIMOTO, YU
IPC分类号： C09J11/06 , C09J133/08 , G02B5/30 , H01L27/32 , H01L51/50
摘要：本發明之目的在於提供一種彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物，藉由將其用於能夠彎折之有機EL顯示裝置，可抑制有機EL元件之劣化，且於彎折(彎曲)時不產生斷裂或剝離、折斷等而耐彎曲性優異，進而抑制黏著劑層中之紫外線吸收劑等之滲出得到抑制，而可形成耐污染性優異之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層。又，本發明之目的在於提供一種由上述黏著劑組合物形成之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層、具有偏光膜及彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之附彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑層之偏光膜、包含上述黏著劑層或上述附黏著劑層之偏光膜之彎折型有機EL顯示裝置。本發明之彎折型有機EL顯示裝置用黏著劑組合物之特徵在於：其係包含含有單官能性單體作為單體成分之基礎聚合物、紫外線吸收劑及吸收光譜之最大吸收波長存在於380～430 nm之波長區域之色素化合物者，並且相對於上述單官能性單體100重量份，含有合計量為0.1～15重量份之上述紫外線吸收劑與上述色素化合物。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种弯折型有机EL显示设备用黏着剂组合物，借由将其用于能够弯折之有机EL显示设备，可抑制有机EL组件之劣化，且于弯折(弯曲)时不产生断裂或剥离、折断等而耐弯曲性优异，进而抑制黏着剂层中之紫外线吸收剂等之渗出得到抑制，而可形成耐污染性优异之弯折型有机EL显示设备用黏着剂层。又，本发明之目的在于提供一种由上述黏着剂组合物形成之弯折型有机EL显示设备用黏着剂层、具有偏光膜及弯折型有机EL显示设备用黏着剂层之附弯折型有机EL显示设备用黏着剂层之偏光膜、包含上述黏着剂层或上述附黏着剂层之偏光膜之弯折型有机EL显示设备。本发明之弯折型有机EL显示设备用黏着剂组合物之特征在于：其系包含含有单官能性单体作为单体成分之基础聚合物、紫外线吸收剂及吸收光谱之最大吸收波长存在于380～430 nm之波长区域之色素化合物者，并且相对于上述单官能性单体100重量份，含有合计量为0.1～15重量份之上述紫外线吸收剂与上述色素化合物。

4. 发明专利

TWI701139B 附有塗敷層之偏光膜、附有黏著劑層之偏光膜、及圖像顯示裝置有权
简体标题：附有涂敷层之偏光膜、附有黏着剂层之偏光膜、及图像显示设备
公开(公告)号：TWI701139B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW104143229
申请日：2015-12-22
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：藤田昌邦 , FUJITA, MASAKUNI , 外山雄祐 , TOYAMA, YUUSUKE , 森本有 , MORIMOTO, YU
IPC分类号： B32B27/18 , G02B1/10 , G02B5/30 , C09J7/20 , G02F1/1335

5. 发明专利

TW201842127A 偏光薄膜用黏著劑組成物、偏光薄膜用黏著劑層、附黏著劑層之偏光薄膜、液晶面板及液晶顯示裝置审中-公开
简体标题：偏光薄膜用黏着剂组成物、偏光薄膜用黏着剂层、附黏着剂层之偏光薄膜、液晶皮肤及液晶显示设备
公开(公告)号：TW201842127A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107107432
申请日：2018-03-06
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：吉川貴博 , YOSHIKAWA, TAKAHIRO , 中村恒三 , NAKAMURA, KOUZOU , 森本有 , MORIMOTO, YU , 加藤惠 , KATOU, MEGUMI
IPC分类号： C09J133/08 , C09J11/06 , C09J7/30 , G02B5/30 , G02F1/1335
摘要：本發明係關於一種偏光薄膜用黏著劑組成物，其特徵在於含有：(甲基)丙烯酸系聚合物、色素、自由基產生劑及抗氧化劑。本發明之偏光薄膜用黏著劑組成物之歷時穩定性良好，可維持色素帶來之廣色域化。
简体摘要：本发明系关于一种偏光薄膜用黏着剂组成物，其特征在于含有：(甲基)丙烯酸系聚合物、色素、自由基产生剂及抗氧化剂。本发明之偏光薄膜用黏着剂组成物之历时稳定性良好，可维持色素带来之广色域化。

6. 发明专利

TWI682013B 黏著劑組合物、黏著劑層、黏著片材、附黏著劑層之光學構件、及圖像顯示裝置有权
简体标题：黏着剂组合物、黏着剂层、黏着片材、附黏着剂层之光学构件、及图像显示设备
公开(公告)号：TWI682013B
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW105105537
申请日：2016-02-24
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：竿本建次郎 , SAOMOTO, KENJIRO , 外山雄祐 , TOYAMA, YUUSUKE , 保井淳 , YASUI, ATSUSHI , 木村智之 , KIMURA, TOMOYUKI , 森本有 , MORIMOTO, YU , 藤原秀三 , FUJIWARA, SHUZO
IPC分类号： C09J133/08 , C09J171/02 , C09J105/16 , C09J7/20 , G02B5/30

7. 发明专利

TW201840774A 黏著劑層、附黏著劑層之單面保護偏光薄膜、影像顯示裝置及其連續製造方法审中-公开
简体标题：黏着剂层、附黏着剂层之单面保护偏光薄膜、影像显示设备及其连续制造方法
公开(公告)号：TW201840774A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107111034
申请日：2018-03-29
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：森本有 , MORIMOTO, YU , 外山雄祐 , TOYAMA, YUSUKE , 藤田雅人 , FUJITA, MASATO , 江原卓 , EHARA, SUGURU
IPC分类号： C09J7/30 , C09J133/12 , C08J5/18 , G02B5/30 , G02F1/1335 , B32B7/12
摘要：本發明之目的在於提供一種可抑制奈米狹縫所造成之缺陷並且具有優異抗靜電功能及重工性的黏著劑層、以及一種具有該黏著劑層的附黏著劑層之單面保護偏光薄膜。本發明之黏著劑層之特徵在於：含有(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物，並且前述(甲基)丙烯酸系聚合物含有烷基之碳數為2~12的(甲基)丙烯酸烷基酯及(甲基)丙烯酸甲酯作為單體單元，且前述黏著劑層滿足下述式(1)：Abs(a)：係前述黏著劑層在利用全反射測定法所行之IR測定中，源自(甲基)丙烯酸甲酯之C-O-C鍵之非對稱伸縮振動的峰值吸光度； Abs(b)：係前述黏著劑層在利用全反射測定法所行之IR測定中，源自前述(甲基)丙烯酸烷基酯之C-O-C鍵之非對稱伸縮振動的峰值吸光度； Abs(c)：係前述黏著劑層在利用全反射測定法所行之IR測定中，在800~900cm-1之範圍內的最低吸光度。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种可抑制奈米狭缝所造成之缺陷并且具有优异抗静电功能及重工性的黏着剂层、以及一种具有该黏着剂层的附黏着剂层之单面保护偏光薄膜。本发明之黏着剂层之特征在于：含有(甲基)丙烯酸系聚合物作为基底聚合物，并且前述(甲基)丙烯酸系聚合物含有烷基之碳数为2~12的(甲基)丙烯酸烷基酯及(甲基)丙烯酸甲酯作为单体单元，且前述黏着剂层满足下述式(1)：Abs(a)：系前述黏着剂层在利用全反射测定法所行之IR测定中，源自(甲基)丙烯酸甲酯之C-O-C键之非对称伸缩振动的峰值吸光度； Abs(b)：系前述黏着剂层在利用全反射测定法所行之IR测定中，源自前述(甲基)丙烯酸烷基酯之C-O-C键之非对称伸缩振动的峰值吸光度； Abs(c)：系前述黏着剂层在利用全反射测定法所行之IR测定中，在800~900cm-1之范围内的最低吸光度。

8. 发明专利

TWI635154B 再剝離用水分散型黏著劑組合物、黏著片材及光學構件有权
简体标题：再剥离用水分散型黏着剂组合物、黏着片材及光学构件
公开(公告)号：TWI635154B
公开(公告)日：2018-09-11
申请号：TW103124449
申请日：2014-07-16
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：森本有 , MORIMOTO, YU , 三井數馬 , MITSUI, KAZUMA , 天野立巳 , AMANO, TATSUMI
IPC分类号： C09J4/00 , C09J7/00 , G02B1/10

9. 发明专利

TW201825631A 可撓性圖像顯示裝置用黏著劑層、可撓性圖像顯示裝置用積層體及可撓性圖像顯示裝置审中-公开
简体标题：可挠性图像显示设备用黏着剂层、可挠性图像显示设备用积层体及可挠性图像显示设备
公开(公告)号：TW201825631A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106127432
申请日：2017-08-14
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：山崎潤枝 , YAMASAKI, MIZUE , 外山雄祐 , TOYAMA, YUSUKE , 森本有 , MORIMOTO, YU
IPC分类号： C09J133/08 , H01L51/50 , H01L27/32
摘要：本發明之目的在於提供一種即使反覆彎曲亦不剝離或斷裂而耐彎曲性或密接性優異之可撓性圖像顯示裝置用黏著劑層、包含上述可撓性圖像顯示裝置用黏著劑層之可撓性圖像顯示裝置用積層體、以及配置有上述可撓性圖像顯示裝置用積層體之可撓性圖像顯示裝置。本發明之可撓性圖像顯示裝置用黏著劑層之特徵在於：其係由含有(甲基)丙烯酸系聚合物之黏著劑組合物所形成者，並且上述(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)為100萬～250萬，上述黏著劑層之玻璃轉移溫度(Tg)為0℃以下。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种即使反复弯曲亦不剥离或断裂而耐弯曲性或密接性优异之可挠性图像显示设备用黏着剂层、包含上述可挠性图像显示设备用黏着剂层之可挠性图像显示设备用积层体、以及配置有上述可挠性图像显示设备用积层体之可挠性图像显示设备。本发明之可挠性图像显示设备用黏着剂层之特征在于：其系由含有(甲基)丙烯酸系聚合物之黏着剂组合物所形成者，并且上述(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)为100万～250万，上述黏着剂层之玻璃转移温度(Tg)为0℃以下。

10. 发明专利

TW201840439A 光學積層體之製造方法及圖像顯示裝置之製造方法审中-公开
简体标题：光学积层体之制造方法及图像显示设备之制造方法
公开(公告)号：TW201840439A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW106144982
申请日：2017-12-21
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：森本有 , MORIMOTO, YU , 外山雄祐 , TOYAMA, YUUSUKE
IPC分类号： B32B37/12 , B32B37/26 , B32B7/02 , G02B5/30
摘要：本發明提供一種光學積層體之製造方法，其抑制於將剝離膜剝離時，偏光板自表面保護膜剝離。本發明之光學積層體之製造方法，其係製造依序具有表面保護膜、第1黏著劑層、偏光板、第2黏著劑層及剝離膜之光學積層體之方法，且包含將剝離膜自第2黏著劑層剝離之剝離步驟，及將經剝離之剝離膜再次貼合於第2黏著劑層之再貼合步驟；於將表面保護膜之初始剝離力記為X、將剝離步驟前之剝離膜之初始剝離力記為Y1、將再貼合步驟後之剝離膜之初始剝離力記為Y2時，滿足Y2＜X≤Y1。
简体摘要：本发明提供一种光学积层体之制造方法，其抑制于将剥离膜剥离时，偏光板自表面保护膜剥离。本发明之光学积层体之制造方法，其系制造依序具有表面保护膜、第1黏着剂层、偏光板、第2黏着剂层及剥离膜之光学积层体之方法，且包含将剥离膜自第2黏着剂层剥离之剥离步骤，及将经剥离之剥离膜再次贴合于第2黏着剂层之再贴合步骤；于将表面保护膜之初始剥离力记为X、将剥离步骤前之剥离膜之初始剥离力记为Y1、将再贴合步骤后之剥离膜之初始剥离力记为Y2时，满足Y2＜X≤Y1。

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