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    • 9. 发明专利
    • 黏著劑層、附黏著劑層之光學薄膜、光學積層體及影像顯示裝置
    • 黏着剂层、附黏着剂层之光学薄膜、光学积层体及影像显示设备
    • TW201910470A
    • 2019-03-16
    • TW107127413
    • 2018-08-07
    • 日商日東電工股份有限公司NITTO DENKO CORPORATION
    • 木村智之KIMURA, TOMOYUKI小野寬大ONO, HIROTOMO外山雄祐TOYAMA, YUSUKE
    • C09J133/08C09J175/04C09J11/06C09J183/08C09J7/20G02B5/30B32B7/12G02F1/1335
    • 一種黏著劑層,其係由黏著劑組成物所形成者,該黏著劑組成物至少含有含(甲基)丙烯酸烷基酯之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)與矽化合物(B)作為單體單元;前述矽化合物(B)係有機聚矽氧烷化合物;並且,將下述積層體在50℃、5大氣壓之條件下進行15分鐘高壓釜處理後,於剝離黏著劑層後,對銦-錫複合氧化物層之面利用X射線光電子光譜分析測得矽元素相對於碳、氮、氧、矽、銦、錫之元素量合計的比率為0.5atomic%以上且5atomic%以下,該積層體係於具有透明基材與銦-錫複合氧化物層之透明導電性基材上的前述銦-錫複合氧化物層,貼合有具有前述黏著劑層與偏光薄膜的附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層者。本發明之黏著劑層具有對透明導電層之重工性及高耐久性。
    • 一种黏着剂层,其系由黏着剂组成物所形成者,该黏着剂组成物至少含有含(甲基)丙烯酸烷基酯之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)与硅化合物(B)作为单体单元;前述硅化合物(B)系有机聚硅氧烷化合物;并且,将下述积层体在50℃、5大气压之条件下进行15分钟高压釜处理后,于剥离黏着剂层后,对铟-锡复合氧化物层之面利用X射线光电子光谱分析测得硅元素相对于碳、氮、氧、硅、铟、锡之元素量合计的比率为0.5atomic%以上且5atomic%以下,该积层体系于具有透明基材与铟-锡复合氧化物层之透明导电性基材上的前述铟-锡复合氧化物层,贴合有具有前述黏着剂层与偏光薄膜的附黏着剂层之偏光薄膜的黏着剂层者。本发明之黏着剂层具有对透明导电层之重工性及高耐久性。