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    • 7. 发明专利
    • 粗化硬化體
    • 粗化硬化体
    • TW202017995A
    • 2020-05-16
    • TW108146741
    • 2015-07-06
    • 日商味之素股份有限公司AJINOMOTO CO., INC.
    • 西村嘉生NISHIMURA, YOSHIO中村茂雄NAKAMURA, SHIGEO川合賢司KAWAI, KENJI
    • C08J7/00C23C18/22H05K1/03H05K3/18H05K3/38
    • 提供一種可讓電路進一步微細化之粗化硬化體。 一種粗化硬化體,係將樹脂組成物的硬化體做粗化處理而得到之粗化硬化體,該粗化硬化體的表面的算術平均粗糙度(Ra)為500nm以下,當對於該粗化硬化體的表面做無電解鍍覆而形成附鍍覆粗化硬化體時,在垂直於該附鍍覆粗化硬化體表面之方向的該附鍍覆粗化硬化體的截面當中,位於將鍍覆與粗化硬化體的交界面藉由最小平方法予以直線化而得之直線(L1)上的鍍覆區域的長度X,及位於和直線(L1)平行且和直線(L1)於粗化硬化體的深度方向相距0.2μm之直線(L2)上的鍍覆區域的長度Y,滿足Y/X≦1之條件。
    • 提供一种可让电路进一步微细化之粗化硬化体。 一种粗化硬化体,系将树脂组成物的硬化体做粗化处理而得到之粗化硬化体,该粗化硬化体的表面的算术平均粗糙度(Ra)为500nm以下,当对于该粗化硬化体的表面做无电解镀覆而形成附镀覆粗化硬化体时,在垂直于该附镀覆粗化硬化体表面之方向的该附镀覆粗化硬化体的截面当中,位于将镀覆与粗化硬化体的交界面借由最小平方法予以直线化而得之直线(L1)上的镀覆区域的长度X,及位于和直线(L1)平行且和直线(L1)于粗化硬化体的深度方向相距0.2μm之直线(L2)上的镀覆区域的长度Y,满足Y/X≦1之条件。
    • 9. 发明专利
    • 樹脂組成物
    • 树脂组成物
    • TW202003619A
    • 2020-01-16
    • TW108115189
    • 2019-05-02
    • 日商味之素股份有限公司AJINOMOTO CO., INC.
    • 西村嘉生NISHIMURA, YOSHIO
    • C08G59/00C08L63/00
    • 本發明的課題為提供:一種樹脂組成物,其能夠得到介電正切為低、可抑制暈滲現象的硬化物;含該樹脂組成物而成的樹脂薄片;具備使用該樹脂組成物形成的絕緣層而成的印刷配線板;及包含前述印刷配線板而成的半導體裝置。 解決課題的本發明的樹脂組成物,其包含:(A)環氧樹脂、(B)(甲基)丙烯酸酯、(C)含具有2個以上的羥基的作為單環或縮合環的芳香環而成的芳香族烴樹脂及(D)無機填充材。
    • 本发明的课题为提供:一种树脂组成物,其能够得到介电正切为低、可抑制晕渗现象的硬化物;含该树脂组成物而成的树脂薄片;具备使用该树脂组成物形成的绝缘层而成的印刷配线板;及包含前述印刷配线板而成的半导体设备。 解决课题的本发明的树脂组成物,其包含:(A)环氧树脂、(B)(甲基)丙烯酸酯、(C)含具有2个以上的羟基的作为单环或缩合环的芳香环而成的芳香族烃树脂及(D)无机填充材。