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1. 发明专利

TW202021675A 基板處理方法以及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法以及基板处理设备
公开(公告)号：TW202021675A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW108135169
申请日：2019-09-27
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：猶原英司 , NAOHARA, HIDEJI , 沖田有史 , OKITA, YUJI , 角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 増井達哉 , MASUI, TATSUYA
IPC分类号： B05C11/00 , B05C5/00 , B05D3/12 , G06T1/00
摘要：本發明提供一種能監視已噴出至基板的端部之液柱狀的處理液的著液位置之基板處理方法。基板處理方法係具備有保持工序、旋轉工序、上升工序、斜面處理工序、拍攝工序以及監視工序。在保持工序中，使基板保持部保持基板。在旋轉工序中，使基板保持部旋轉並使基板旋轉。在上升工序中，使用以圍繞基板保持部的外周之罩構件上升，並使罩構件的上端位於比基板的上表面還高的上端位置。在斜面處理工序中，從位於比該上端位置還低的位置之噴嘴的噴出口朝基板的上表面的端部噴出處理液。在拍攝工序中，使照相機拍攝從基板的上方的拍攝位置觀看的拍攝區域並取得拍攝影像，該拍攝區域係包含有已從噴嘴噴出的處理液以及映照至基板的上表面之噴出液的鏡像。在監視工序中，依據拍攝影像中的處理液與該鏡像監視處理液的著液位置。
简体摘要：本发明提供一种能监视已喷出至基板的端部之液柱状的处理液的着液位置之基板处理方法。基板处理方法系具备有保持工序、旋转工序、上升工序、斜面处理工序、拍摄工序以及监视工序。在保持工序中，使基板保持部保持基板。在旋转工序中，使基板保持部旋转并使基板旋转。在上升工序中，使用以围绕基板保持部的外周之罩构件上升，并使罩构件的上端位于比基板的上表面还高的上端位置。在斜面处理工序中，从位于比该上端位置还低的位置之喷嘴的喷出口朝基板的上表面的端部喷出处理液。在拍摄工序中，使照相机拍摄从基板的上方的拍摄位置观看的拍摄区域并取得拍摄影像，该拍摄区域系包含有已从喷嘴喷出的处理液以及映照至基板的上表面之喷出液的镜像。在监视工序中，依据拍摄影像中的处理液与该镜像监视处理液的着液位置。

2. 发明专利

TW201823689A 檢測方法及檢測裝置审中-公开
简体标题：检测方法及检测设备
公开(公告)号：TW201823689A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106119267
申请日：2017-06-09
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 坂田健典 , SAKATA, KENSUKE
IPC分类号： G01F15/00 , B05C11/08
摘要：一種檢測方法及檢測裝置，係提供檢測非供給期間中的液體有無落下的技術。該檢測方法係進行拍攝步驟及檢測步驟，該拍攝步驟係在停止朝向一個以上之噴嘴中的對象噴嘴供給液體的非供給期間，將液體從該對象噴嘴之開口落下時的落下路徑包含於拍攝視野中而進行拍攝，該檢測步驟係使用拍攝步驟中的拍攝結果來檢測液體有無落下。藉此，可以在停止朝向對象噴嘴供給液體的非供給期間檢測液體有無從該對象噴嘴落下。
简体摘要：一种检测方法及检测设备，系提供检测非供给期间中的液体有无落下的技术。该检测方法系进行拍摄步骤及检测步骤，该拍摄步骤系在停止朝向一个以上之喷嘴中的对象喷嘴供给液体的非供给期间，将液体从该对象喷嘴之开口落下时的落下路径包含于拍摄视野中而进行拍摄，该检测步骤系使用拍摄步骤中的拍摄结果来检测液体有无落下。借此，可以在停止朝向对象喷嘴供给液体的非供给期间检测液体有无从该对象喷嘴落下。

3. 发明专利

TW201727538A 位移檢測裝置、位移檢測方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：位移检测设备、位移检测方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW201727538A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105132351
申请日：2016-10-06
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：北村一博 , KITAMURA, KAZUHIRO , 角間央章 , KAKUMA, HIROAKI
IPC分类号： G06K9/62 , G06T7/00
CPC分类号： G06T7/001 , G06K9/6202 , G06T7/73 , G06T2207/30148 , G06T2207/30204
摘要：本發明係提供可較習知技術更高精準度地檢測出相對於基準位置之定位對象物在實空間內之位移之位移檢測裝置、位移檢測方法及基板處理裝置。根據顯示圖像內攝影對象物之位置與定位對象物自基準位置之位移之相關關係之換算資訊，將圖像中所檢測出之攝影對象物之位置換算為定位對象物相對於基準位置之位移。換算資訊係根據複數個圖像中所檢測出攝影對象物之位置而決定，該複數個圖像係於定位對象物被分別定位於自基準位置之位移為既知的複數個攝影位置之狀態下分別拍攝而得者。
简体摘要：本发明系提供可较习知技术更高精准度地检测出相对于基准位置之定位对象物在实空间内之位移之位移检测设备、位移检测方法及基板处理设备。根据显示图像内摄影对象物之位置与定位对象物自基准位置之位移之相关关系之换算信息，将图像中所检测出之摄影对象物之位置换算为定位对象物相对于基准位置之位移。换算信息系根据复数个图像中所检测出摄影对象物之位置而决定，该复数个图像系于定位对象物被分别定位于自基准位置之位移为既知的复数个摄影位置之状态下分别拍摄而得者。

4. 发明专利

TWI651512B 基板處理裝置以及變位檢測方法有权
简体标题：基板处理设备以及变位检测方法
公开(公告)号：TWI651512B
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：TW106119265
申请日：2017-06-09
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 北村一博 , KITAMURA, KAZUHIRO
IPC分类号： G01B11/00 , B05C11/00 , B05C11/08

5. 发明专利

TW202015122A 基板處理方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW202015122A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108135931
申请日：2019-10-03
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：猶原英司 , NAOHARA, HIDEJI , 沖田有史 , OKITA, YUJI , 角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 増井達哉 , MASUI, TATSUYA
IPC分类号： H01L21/304 , B05C11/08 , B05C5/00
摘要：本發明提供一種可對噴出至基板的端部的液柱狀的處理液進行拍攝的基板處理方法及基板處理裝置。基板處理方法包括：保持步驟、旋轉步驟、上升步驟、斜面處理步驟、攝像步驟以及監視步驟。在上升步驟中，使包圍基板保持部的外周的杯狀構件上升，並使杯狀構件的上端位於較保持於基板保持部的基板的上表面而言更高的上端位置。在斜面處理步驟中，自位於較上端位置而言更低的位置的噴嘴的噴出口向保持於基板保持部的基板的上表面的端部噴出處理液。在攝像步驟中，使照相機對作為包含自噴嘴的噴出口噴出的處理液的攝像區域且自基板的上方的攝像位置看到的攝像區域進行拍攝，來取得攝像圖像。在監視步驟中，基於攝像圖像判定處理液的噴出狀態。
简体摘要：本发明提供一种可对喷出至基板的端部的液柱状的处理液进行拍摄的基板处理方法及基板处理设备。基板处理方法包括：保持步骤、旋转步骤、上升步骤、斜面处理步骤、摄像步骤以及监视步骤。在上升步骤中，使包围基板保持部的外周的杯状构件上升，并使杯状构件的上端位于较保持于基板保持部的基板的上表面而言更高的上端位置。在斜面处理步骤中，自位于较上端位置而言更低的位置的喷嘴的喷出口向保持于基板保持部的基板的上表面的端部喷出处理液。在摄像步骤中，使照相机对作为包含自喷嘴的喷出口喷出的处理液的摄像区域且自基板的上方的摄像位置看到的摄像区域进行拍摄，来取得摄像图像。在监视步骤中，基于摄像图像判定处理液的喷出状态。

6. 发明专利

TWI649542B 檢測方法及檢測裝置有权
简体标题：检测方法及检测设备
公开(公告)号：TWI649542B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW106119267
申请日：2017-06-09
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 坂田健典 , SAKATA, KENSUKE
IPC分类号： G01F15/00 , B05C11/08

7. 发明专利

TW201823667A 變位檢測裝置、變位檢測方法以及基板處理裝置审中-公开
简体标题：变位检测设备、变位检测方法以及基板处理设备
公开(公告)号：TW201823667A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106119265
申请日：2017-06-09
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 北村一博 , KITAMURA, KAZUHIRO
IPC分类号： G01B11/00 , B05C11/00 , B05C11/08
摘要：一種變位檢測裝置、變位檢測方法以及基板處理裝置，係提供可以以優異之精度來檢測相對於基準位置的定位對象物之實際空間內的變位的技術。變位檢測裝置係具備：拍攝手段，係將定位對象物或與定位對象物一體地變位的物體作為拍攝對象物，並拍攝包含該拍攝對象物的影像；以及變位檢測手段，係從藉由拍攝手段所拍攝到的影像中檢測拍攝對象物，且基於所檢測出的拍攝對象物之影像內的位置，來檢測定位對象物之變位；變位檢測手段係根據距離乘以係數所得的值來求出定位對象物的變位量，該距離係拍攝對象物在影像內被檢測出的位置與預定的基準位置之間的距離，該係數係按照影像內的拍攝對象物之大小而決定。
简体摘要：一种变位检测设备、变位检测方法以及基板处理设备，系提供可以以优异之精度来检测相对于基准位置的定位对象物之实际空间内的变位的技术。变位检测设备系具备：拍摄手段，系将定位对象物或与定位对象物一体地变位的物体作为拍摄对象物，并拍摄包含该拍摄对象物的影像；以及变位检测手段，系从借由拍摄手段所拍摄到的影像中检测拍摄对象物，且基于所检测出的拍摄对象物之影像内的位置，来检测定位对象物之变位；变位检测手段系根据距离乘以系数所得的值来求出定位对象物的变位量，该距离系拍摄对象物在影像内被检测出的位置与预定的基准位置之间的距离，该系数系按照影像内的拍摄对象物之大小而决定。

8. 发明专利

TWI688024B 基板處理裝置以及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备以及基板处理方法
公开(公告)号：TWI688024B
公开(公告)日：2020-03-11
申请号：TW107129297
申请日：2018-08-22
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：猶原英司 , NAOHARA, HIDEJI , 角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 沖田有史 , OKITA, YUJI , 増井達哉 , MASUI, TATSUYA
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/306 , H01L21/302 , H01L21/02

9. 发明专利

TW201538231A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201538231A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW104107817
申请日：2015-03-11
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：佐野洋 , SANO, HIROSHI , 角間央章 , KAKUMA, HIROAKI
IPC分类号： B05C11/00 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/6708 , H01L21/67051 , H01L21/6715 , H01L21/67259 , H01L21/681
摘要：本發明之目的係提供一種無論成為處理對象之基板之種類如何，均可確實地檢測出來自噴嘴之處理液之噴出的基板處理裝置及基板處理方法。上表面處理液噴嘴30於保持於旋轉夾盤20之基板W上方之處理位置與較處理護罩40更靠外側之待機位置之間往返移動。於移動至處理位置之上表面處理液噴嘴30噴出處理液之前，由相機70拍攝包含上表面處理液噴嘴30之前端之攝影區域而獲取噴出基準圖像。其後，依序對複數個監視對象圖像與噴出基準圖像進行比較，從而對來自上表面處理液噴嘴30之處理液之噴出進行判定，上述複數個監視對象圖像係相機70連續地對攝影區域進行拍攝所獲取之圖像。每當對成為新的處理對象之基板W進行處理時，獲取噴出基準圖像，因此，可排除作為監視對象圖像及噴出基準圖像雙方之背景而顯現之基板表面之影響，從而可確實地對處理液之噴出進行檢測。
简体摘要：本发明之目的系提供一种无论成为处理对象之基板之种类如何，均可确实地检测出来自喷嘴之处理液之喷出的基板处理设备及基板处理方法。上表面处理液喷嘴30于保持于旋转夹盘20之基板W上方之处理位置与较处理护罩40更靠外侧之待机位置之间往返移动。于移动至处理位置之上表面处理液喷嘴30喷出处理液之前，由相机70拍摄包含上表面处理液喷嘴30之前端之摄影区域而获取喷出基准图像。其后，依序对复数个监视对象图像与喷出基准图像进行比较，从而对来自上表面处理液喷嘴30之处理液之喷出进行判定，上述复数个监视对象图像系相机70连续地对摄影区域进行拍摄所获取之图像。每当对成为新的处理对象之基板W进行处理时，获取喷出基准图像，因此，可排除作为监视对象图像及喷出基准图像双方之背景而显现之基板表面之影响，从而可确实地对处理液之喷出进行检测。

10. 发明专利

TWI649130B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI649130B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW106141247
申请日：2015-03-11
申请人：日商斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：佐野洋 , SANO,HIROSHI , 角間央章 , KAKUMA,HIROAKI
IPC分类号： B05C11/00 , H01L21/027

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