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1. 发明专利

TWI613010B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI613010B
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW104107817
申请日：2015-03-11
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：佐野洋 , SANO, HIROSHI , 角間央章 , KAKUMA, HIROAKI
IPC分类号： B05C11/00 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/6708 , H01L21/67051 , H01L21/6715 , H01L21/67259 , H01L21/681

2. 发明专利

TW201538231A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201538231A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW104107817
申请日：2015-03-11
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：佐野洋 , SANO, HIROSHI , 角間央章 , KAKUMA, HIROAKI
IPC分类号： B05C11/00 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/6708 , H01L21/67051 , H01L21/6715 , H01L21/67259 , H01L21/681
摘要：本發明之目的係提供一種無論成為處理對象之基板之種類如何，均可確實地檢測出來自噴嘴之處理液之噴出的基板處理裝置及基板處理方法。上表面處理液噴嘴30於保持於旋轉夾盤20之基板W上方之處理位置與較處理護罩40更靠外側之待機位置之間往返移動。於移動至處理位置之上表面處理液噴嘴30噴出處理液之前，由相機70拍攝包含上表面處理液噴嘴30之前端之攝影區域而獲取噴出基準圖像。其後，依序對複數個監視對象圖像與噴出基準圖像進行比較，從而對來自上表面處理液噴嘴30之處理液之噴出進行判定，上述複數個監視對象圖像係相機70連續地對攝影區域進行拍攝所獲取之圖像。每當對成為新的處理對象之基板W進行處理時，獲取噴出基準圖像，因此，可排除作為監視對象圖像及噴出基準圖像雙方之背景而顯現之基板表面之影響，從而可確實地對處理液之噴出進行檢測。
简体摘要：本发明之目的系提供一种无论成为处理对象之基板之种类如何，均可确实地检测出来自喷嘴之处理液之喷出的基板处理设备及基板处理方法。上表面处理液喷嘴30于保持于旋转夹盘20之基板W上方之处理位置与较处理护罩40更靠外侧之待机位置之间往返移动。于移动至处理位置之上表面处理液喷嘴30喷出处理液之前，由相机70拍摄包含上表面处理液喷嘴30之前端之摄影区域而获取喷出基准图像。其后，依序对复数个监视对象图像与喷出基准图像进行比较，从而对来自上表面处理液喷嘴30之处理液之喷出进行判定，上述复数个监视对象图像系相机70连续地对摄影区域进行拍摄所获取之图像。每当对成为新的处理对象之基板W进行处理时，获取喷出基准图像，因此，可排除作为监视对象图像及喷出基准图像双方之背景而显现之基板表面之影响，从而可确实地对处理液之喷出进行检测。

3. 发明专利

TW201613024A 位置檢測裝置、基板處理裝置、位置檢測方法及基板處理方法审中-公开
简体标题：位置检测设备、基板处理设备、位置检测方法及基板处理方法
公开(公告)号：TW201613024A
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW104115097
申请日：2015-05-12
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：沖田有史 , OKITA, YUJI , 角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 佐野洋 , SANO, HIROSHI
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： B25J9/1674 , G05B2219/40611 , G05B2219/45031 , G06T7/74 , G06T2207/30164
摘要：本發明係檢測可於腔室90內之處理空間SP移動之可動部33、53的位置之位置檢測裝置，其包含：攝像機構72，其分別拍攝設置於腔室90內且已知腔室內位置之基準部位63、64與可動部33、53而取得原圖像；圖像處理機構86，其係根據原圖像而執行檢測可動部及基準部位之圖像處理；及位置檢測機構，其係基於表示檢測出之可動部及基準部各者之原圖像內的位置之位置資訊，檢測可動部於處理空間中之位置。本發明可抑制攝像機構之位置偏差之影響而精度良好地檢測可動部之位置。
简体摘要：本发明系检测可于腔室90内之处理空间SP移动之可动部33、53的位置之位置检测设备，其包含：摄像机构72，其分别拍摄设置于腔室90内且已知腔室内位置之基准部位63、64与可动部33、53而取得原图像；图像处理机构86，其系根据原图像而运行检测可动部及基准部位之图像处理；及位置检测机构，其系基于表示检测出之可动部及基准部各者之原图像内的位置之位置信息，检测可动部于处理空间中之位置。本发明可抑制摄像机构之位置偏差之影响而精度良好地检测可动部之位置。

4. 发明专利

TW201533821A 位移檢測裝置、基板處理裝置、位移檢測方法及基板處理方法审中-公开
简体标题：位移检测设备、基板处理设备、位移检测方法及基板处理方法
公开(公告)号：TW201533821A
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW103132128
申请日：2014-09-17
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：角間央章 , KAKUMA, HIROAKI
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/68
CPC分类号： G06T7/0042 , G06T7/254 , G06T7/73 , G06T2207/30108
摘要：本發明提供拍攝定位對象物而檢測其自基準位置之位移之技術，該技術可藉由自單一之攝像方向進行拍攝而檢測定位對象物之位移，且攝像機構之配置自由度高。為了檢測於接近、遠離相機72之方向上移動之噴嘴53之位移，將相機之攝像方向Di設為以與噴嘴53之移動平面相交之方式而傾斜之方向。在所拍攝之圖像IM中，將噴嘴53之位移反映為上下方向之移動，藉由圖案匹配處理而檢測噴嘴53在圖像內之位置，藉此可檢測具有圖像縱深方向之成分之噴嘴53之位移。
简体摘要：本发明提供拍摄定位对象物而检测其自基准位置之位移之技术，该技术可借由自单一之摄像方向进行拍摄而检测定位对象物之位移，且摄像机构之配置自由度高。为了检测于接近、远离相机72之方向上移动之喷嘴53之位移，将相机之摄像方向Di设为以与喷嘴53之移动平面相交之方式而倾斜之方向。在所拍摄之图像IM中，将喷嘴53之位移反映为上下方向之移动，借由图案匹配处理而检测喷嘴53在图像内之位置，借此可检测具有图像纵深方向之成分之喷嘴53之位移。

5. 发明专利

TW201517160A 基板處理裝置及吐出檢查裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备及吐出检查设备
公开(公告)号：TW201517160A
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW103132747
申请日：2014-09-23
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 古川至 , FURUKAWA, ITARU , 佐野洋 , SANO, HIROSHI , 秩父孝夫 , CHICHIBU, TAKAO , 茂野幸英 , SHIGENO, YUKIHIDE
IPC分类号： H01L21/306 , H01L21/68
摘要：本發明之基板處理裝置之吐出檢查裝置中，光射出部係藉由沿著預先決定之光存在面將光加以射出，將光照射至自位在檢查區域之吐出噴頭之複數個吐出口而被吐出之處理液。攝影部係拍攝通過來自光射出部之面狀光的處理液，而取得含有複數個輝點的檢查圖像。然後，根據檢查圖像與參照圖像，該參照圖像係為自位在設計檢查位置之吐出噴頭而進行正常吐出時之圖像，而修正圖像偏差之後，進行吐出動作之良否判定，該圖像偏差係根據取得檢查圖像時之吐出噴頭之位置與設計檢查位置的差異。藉此，可修正自在檢查區域中之吐出噴頭之設計檢查位置的位置偏差，並提升複數個吐出口之吐出動作的檢查精確度。
简体摘要：本发明之基板处理设备之吐出检查设备中，光射出部系借由沿着预先决定之光存在面将光加以射出，将光照射至自位在检查区域之吐出喷头之复数个吐出口而被吐出之处理液。摄影部系拍摄通过来自光射出部之面状光的处理液，而取得含有复数个辉点的检查图像。然后，根据检查图像与参照图像，该参照图像系为自位在设计检查位置之吐出喷头而进行正常吐出时之图像，而修正图像偏差之后，进行吐出动作之良否判定，该图像偏差系根据取得检查图像时之吐出喷头之位置与设计检查位置的差异。借此，可修正自在检查区域中之吐出喷头之设计检查位置的位置偏差，并提升复数个吐出口之吐出动作的检查精确度。

6. 发明专利

TWI550748B 位移檢測裝置、基板處理裝置、位移檢測方法及基板處理方法有权
简体标题：位移检测设备、基板处理设备、位移检测方法及基板处理方法
公开(公告)号：TWI550748B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：TW103132128
申请日：2014-09-17
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：角間央章 , KAKUMA, HIROAKI
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/68
CPC分类号： G06T7/0042 , G06T7/254 , G06T7/73 , G06T2207/30108

7. 发明专利

TWI546885B 位置檢測裝置、基板處理裝置、位置檢測方法及基板處理方法有权
简体标题：位置检测设备、基板处理设备、位置检测方法及基板处理方法
公开(公告)号：TWI546885B
公开(公告)日：2016-08-21
申请号：TW104115097
申请日：2015-05-12
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：沖田有史 , OKITA, YUJI , 角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 佐野洋 , SANO, HIROSHI
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： B25J9/1674 , G05B2219/40611 , G05B2219/45031 , G06T7/74 , G06T2207/30164

8. 发明专利

TWI622093B 基板處理裝置及吐出檢查裝置有权
简体标题：基板处理设备及吐出检查设备
公开(公告)号：TWI622093B
公开(公告)日：2018-04-21
申请号：TW103132747
申请日：2014-09-23
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 古川至 , FURUKAWA, ITARU , 佐野洋 , SANO, HIROSHI , 秩父孝夫 , CHICHIBU, TAKAO , 茂野幸英 , SHIGENO, YUKIHIDE
IPC分类号： H01L21/306 , H01L21/68

9. 发明专利

TW201727538A 位移檢測裝置、位移檢測方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：位移检测设备、位移检测方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW201727538A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105132351
申请日：2016-10-06
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：北村一博 , KITAMURA, KAZUHIRO , 角間央章 , KAKUMA, HIROAKI
IPC分类号： G06K9/62 , G06T7/00
CPC分类号： G06T7/001 , G06K9/6202 , G06T7/73 , G06T2207/30148 , G06T2207/30204
摘要：本發明係提供可較習知技術更高精準度地檢測出相對於基準位置之定位對象物在實空間內之位移之位移檢測裝置、位移檢測方法及基板處理裝置。根據顯示圖像內攝影對象物之位置與定位對象物自基準位置之位移之相關關係之換算資訊，將圖像中所檢測出之攝影對象物之位置換算為定位對象物相對於基準位置之位移。換算資訊係根據複數個圖像中所檢測出攝影對象物之位置而決定，該複數個圖像係於定位對象物被分別定位於自基準位置之位移為既知的複數個攝影位置之狀態下分別拍攝而得者。
简体摘要：本发明系提供可较习知技术更高精准度地检测出相对于基准位置之定位对象物在实空间内之位移之位移检测设备、位移检测方法及基板处理设备。根据显示图像内摄影对象物之位置与定位对象物自基准位置之位移之相关关系之换算信息，将图像中所检测出之摄影对象物之位置换算为定位对象物相对于基准位置之位移。换算信息系根据复数个图像中所检测出摄影对象物之位置而决定，该复数个图像系于定位对象物被分别定位于自基准位置之位移为既知的复数个摄影位置之状态下分别拍摄而得者。

10. 发明专利

TW202021675A 基板處理方法以及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法以及基板处理设备
公开(公告)号：TW202021675A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW108135169
申请日：2019-09-27
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：猶原英司 , NAOHARA, HIDEJI , 沖田有史 , OKITA, YUJI , 角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 増井達哉 , MASUI, TATSUYA
IPC分类号： B05C11/00 , B05C5/00 , B05D3/12 , G06T1/00
摘要：本發明提供一種能監視已噴出至基板的端部之液柱狀的處理液的著液位置之基板處理方法。基板處理方法係具備有保持工序、旋轉工序、上升工序、斜面處理工序、拍攝工序以及監視工序。在保持工序中，使基板保持部保持基板。在旋轉工序中，使基板保持部旋轉並使基板旋轉。在上升工序中，使用以圍繞基板保持部的外周之罩構件上升，並使罩構件的上端位於比基板的上表面還高的上端位置。在斜面處理工序中，從位於比該上端位置還低的位置之噴嘴的噴出口朝基板的上表面的端部噴出處理液。在拍攝工序中，使照相機拍攝從基板的上方的拍攝位置觀看的拍攝區域並取得拍攝影像，該拍攝區域係包含有已從噴嘴噴出的處理液以及映照至基板的上表面之噴出液的鏡像。在監視工序中，依據拍攝影像中的處理液與該鏡像監視處理液的著液位置。
简体摘要：本发明提供一种能监视已喷出至基板的端部之液柱状的处理液的着液位置之基板处理方法。基板处理方法系具备有保持工序、旋转工序、上升工序、斜面处理工序、拍摄工序以及监视工序。在保持工序中，使基板保持部保持基板。在旋转工序中，使基板保持部旋转并使基板旋转。在上升工序中，使用以围绕基板保持部的外周之罩构件上升，并使罩构件的上端位于比基板的上表面还高的上端位置。在斜面处理工序中，从位于比该上端位置还低的位置之喷嘴的喷出口朝基板的上表面的端部喷出处理液。在拍摄工序中，使照相机拍摄从基板的上方的拍摄位置观看的拍摄区域并取得拍摄影像，该拍摄区域系包含有已从喷嘴喷出的处理液以及映照至基板的上表面之喷出液的镜像。在监视工序中，依据拍摄影像中的处理液与该镜像监视处理液的着液位置。

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