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1. 发明专利

TWI691047B 資料處理方法、資料處理裝置以及資料處理程式有权
简体标题：数据处理方法、数据处理设备以及数据处理进程
公开(公告)号：TWI691047B
公开(公告)日：2020-04-11
申请号：TW108103095
申请日：2019-01-28
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：猶原英司 , NAOHARA, HIDEJI , 秋田正史 , AKITA, MASASHI
IPC分类号： H01L27/02

2. 发明专利

TW202021675A 基板處理方法以及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法以及基板处理设备
公开(公告)号：TW202021675A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW108135169
申请日：2019-09-27
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：猶原英司 , NAOHARA, HIDEJI , 沖田有史 , OKITA, YUJI , 角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 増井達哉 , MASUI, TATSUYA
IPC分类号： B05C11/00 , B05C5/00 , B05D3/12 , G06T1/00
摘要：本發明提供一種能監視已噴出至基板的端部之液柱狀的處理液的著液位置之基板處理方法。基板處理方法係具備有保持工序、旋轉工序、上升工序、斜面處理工序、拍攝工序以及監視工序。在保持工序中，使基板保持部保持基板。在旋轉工序中，使基板保持部旋轉並使基板旋轉。在上升工序中，使用以圍繞基板保持部的外周之罩構件上升，並使罩構件的上端位於比基板的上表面還高的上端位置。在斜面處理工序中，從位於比該上端位置還低的位置之噴嘴的噴出口朝基板的上表面的端部噴出處理液。在拍攝工序中，使照相機拍攝從基板的上方的拍攝位置觀看的拍攝區域並取得拍攝影像，該拍攝區域係包含有已從噴嘴噴出的處理液以及映照至基板的上表面之噴出液的鏡像。在監視工序中，依據拍攝影像中的處理液與該鏡像監視處理液的著液位置。
简体摘要：本发明提供一种能监视已喷出至基板的端部之液柱状的处理液的着液位置之基板处理方法。基板处理方法系具备有保持工序、旋转工序、上升工序、斜面处理工序、拍摄工序以及监视工序。在保持工序中，使基板保持部保持基板。在旋转工序中，使基板保持部旋转并使基板旋转。在上升工序中，使用以围绕基板保持部的外周之罩构件上升，并使罩构件的上端位于比基板的上表面还高的上端位置。在斜面处理工序中，从位于比该上端位置还低的位置之喷嘴的喷出口朝基板的上表面的端部喷出处理液。在拍摄工序中，使照相机拍摄从基板的上方的拍摄位置观看的拍摄区域并取得拍摄影像，该拍摄区域系包含有已从喷嘴喷出的处理液以及映照至基板的上表面之喷出液的镜像。在监视工序中，依据拍摄影像中的处理液与该镜像监视处理液的着液位置。

3. 发明专利

TWI688024B 基板處理裝置以及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备以及基板处理方法
公开(公告)号：TWI688024B
公开(公告)日：2020-03-11
申请号：TW107129297
申请日：2018-08-22
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：猶原英司 , NAOHARA, HIDEJI , 角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 沖田有史 , OKITA, YUJI , 増井達哉 , MASUI, TATSUYA
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/306 , H01L21/302 , H01L21/02

4. 发明专利

TWI699819B 資料處理方法、資料處理裝置以及資料處理程式有权
简体标题：数据处理方法、数据处理设备以及数据处理进程
公开(公告)号：TWI699819B
公开(公告)日：2020-07-21
申请号：TW108103094
申请日：2019-01-28
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：猶原英司 , NAOHARA, HIDEJI , 平藤祐美子 , HIRATO, YUMIKO
IPC分类号： H01L21/02 , G05B19/00

5. 发明专利

TW202015122A 基板處理方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW202015122A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108135931
申请日：2019-10-03
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：猶原英司 , NAOHARA, HIDEJI , 沖田有史 , OKITA, YUJI , 角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 増井達哉 , MASUI, TATSUYA
IPC分类号： H01L21/304 , B05C11/08 , B05C5/00
摘要：本發明提供一種可對噴出至基板的端部的液柱狀的處理液進行拍攝的基板處理方法及基板處理裝置。基板處理方法包括：保持步驟、旋轉步驟、上升步驟、斜面處理步驟、攝像步驟以及監視步驟。在上升步驟中，使包圍基板保持部的外周的杯狀構件上升，並使杯狀構件的上端位於較保持於基板保持部的基板的上表面而言更高的上端位置。在斜面處理步驟中，自位於較上端位置而言更低的位置的噴嘴的噴出口向保持於基板保持部的基板的上表面的端部噴出處理液。在攝像步驟中，使照相機對作為包含自噴嘴的噴出口噴出的處理液的攝像區域且自基板的上方的攝像位置看到的攝像區域進行拍攝，來取得攝像圖像。在監視步驟中，基於攝像圖像判定處理液的噴出狀態。
简体摘要：本发明提供一种可对喷出至基板的端部的液柱状的处理液进行拍摄的基板处理方法及基板处理设备。基板处理方法包括：保持步骤、旋转步骤、上升步骤、斜面处理步骤、摄像步骤以及监视步骤。在上升步骤中，使包围基板保持部的外周的杯状构件上升，并使杯状构件的上端位于较保持于基板保持部的基板的上表面而言更高的上端位置。在斜面处理步骤中，自位于较上端位置而言更低的位置的喷嘴的喷出口向保持于基板保持部的基板的上表面的端部喷出处理液。在摄像步骤中，使照相机对作为包含自喷嘴的喷出口喷出的处理液的摄像区域且自基板的上方的摄像位置看到的摄像区域进行拍摄，来取得摄像图像。在监视步骤中，基于摄像图像判定处理液的喷出状态。

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