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1. 发明专利

TW202015122A 基板處理方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW202015122A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108135931
申请日：2019-10-03
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：猶原英司 , NAOHARA, HIDEJI , 沖田有史 , OKITA, YUJI , 角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 増井達哉 , MASUI, TATSUYA
IPC分类号： H01L21/304 , B05C11/08 , B05C5/00
摘要：本發明提供一種可對噴出至基板的端部的液柱狀的處理液進行拍攝的基板處理方法及基板處理裝置。基板處理方法包括：保持步驟、旋轉步驟、上升步驟、斜面處理步驟、攝像步驟以及監視步驟。在上升步驟中，使包圍基板保持部的外周的杯狀構件上升，並使杯狀構件的上端位於較保持於基板保持部的基板的上表面而言更高的上端位置。在斜面處理步驟中，自位於較上端位置而言更低的位置的噴嘴的噴出口向保持於基板保持部的基板的上表面的端部噴出處理液。在攝像步驟中，使照相機對作為包含自噴嘴的噴出口噴出的處理液的攝像區域且自基板的上方的攝像位置看到的攝像區域進行拍攝，來取得攝像圖像。在監視步驟中，基於攝像圖像判定處理液的噴出狀態。
简体摘要：本发明提供一种可对喷出至基板的端部的液柱状的处理液进行拍摄的基板处理方法及基板处理设备。基板处理方法包括：保持步骤、旋转步骤、上升步骤、斜面处理步骤、摄像步骤以及监视步骤。在上升步骤中，使包围基板保持部的外周的杯状构件上升，并使杯状构件的上端位于较保持于基板保持部的基板的上表面而言更高的上端位置。在斜面处理步骤中，自位于较上端位置而言更低的位置的喷嘴的喷出口向保持于基板保持部的基板的上表面的端部喷出处理液。在摄像步骤中，使照相机对作为包含自喷嘴的喷出口喷出的处理液的摄像区域且自基板的上方的摄像位置看到的摄像区域进行拍摄，来取得摄像图像。在监视步骤中，基于摄像图像判定处理液的喷出状态。

2. 发明专利

TW202021675A 基板處理方法以及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法以及基板处理设备
公开(公告)号：TW202021675A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW108135169
申请日：2019-09-27
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：猶原英司 , NAOHARA, HIDEJI , 沖田有史 , OKITA, YUJI , 角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 増井達哉 , MASUI, TATSUYA
IPC分类号： B05C11/00 , B05C5/00 , B05D3/12 , G06T1/00
摘要：本發明提供一種能監視已噴出至基板的端部之液柱狀的處理液的著液位置之基板處理方法。基板處理方法係具備有保持工序、旋轉工序、上升工序、斜面處理工序、拍攝工序以及監視工序。在保持工序中，使基板保持部保持基板。在旋轉工序中，使基板保持部旋轉並使基板旋轉。在上升工序中，使用以圍繞基板保持部的外周之罩構件上升，並使罩構件的上端位於比基板的上表面還高的上端位置。在斜面處理工序中，從位於比該上端位置還低的位置之噴嘴的噴出口朝基板的上表面的端部噴出處理液。在拍攝工序中，使照相機拍攝從基板的上方的拍攝位置觀看的拍攝區域並取得拍攝影像，該拍攝區域係包含有已從噴嘴噴出的處理液以及映照至基板的上表面之噴出液的鏡像。在監視工序中，依據拍攝影像中的處理液與該鏡像監視處理液的著液位置。
简体摘要：本发明提供一种能监视已喷出至基板的端部之液柱状的处理液的着液位置之基板处理方法。基板处理方法系具备有保持工序、旋转工序、上升工序、斜面处理工序、拍摄工序以及监视工序。在保持工序中，使基板保持部保持基板。在旋转工序中，使基板保持部旋转并使基板旋转。在上升工序中，使用以围绕基板保持部的外周之罩构件上升，并使罩构件的上端位于比基板的上表面还高的上端位置。在斜面处理工序中，从位于比该上端位置还低的位置之喷嘴的喷出口朝基板的上表面的端部喷出处理液。在拍摄工序中，使照相机拍摄从基板的上方的拍摄位置观看的拍摄区域并取得拍摄影像，该拍摄区域系包含有已从喷嘴喷出的处理液以及映照至基板的上表面之喷出液的镜像。在监视工序中，依据拍摄影像中的处理液与该镜像监视处理液的着液位置。

3. 发明专利

TWI688024B 基板處理裝置以及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备以及基板处理方法
公开(公告)号：TWI688024B
公开(公告)日：2020-03-11
申请号：TW107129297
申请日：2018-08-22
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：猶原英司 , NAOHARA, HIDEJI , 角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 沖田有史 , OKITA, YUJI , 増井達哉 , MASUI, TATSUYA
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/306 , H01L21/302 , H01L21/02

4. 发明专利

TW201722565A 吐出判定方法及吐出裝置审中-公开
简体标题：吐出判定方法及吐出设备
公开(公告)号：TW201722565A
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW105135483
申请日：2016-11-02
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：沖田有史 , OKITA, YUJI
IPC分类号： B05C11/00 , G06K9/52
CPC分类号： B05D1/02 , B05C1/00 , G06T7/0006 , G06T2207/10024 , H01L21/67051 , H01L21/67253
摘要：本發明係根據圖像而於短時間內確實地判定是否有自噴嘴吐出液體。於吐出狀態下取得較非吐出狀態大的值之指標值，係自圖像中的包含液體之流通路徑之評價對象區域中算出，且根據與預先設定之判定基準值之大小關係，判定是吐出狀態還是非吐出狀態。判定基準值係根據自預先收集之複數個圖像中分別求出的指標值所示之直方圖之形狀而定。當於直方圖中顯示波峰位置或波峰之銳度之評價值較規定的臨限值小時，推定所收集之圖像為非吐出狀態者，當評價值較臨限值大時，推定所收集之圖像為吐出狀態者。因此，無論是吐出狀態還是非吐出狀態，皆可適宜地設定判定基準值。
简体摘要：本发明系根据图像而于短时间内确实地判定是否有自喷嘴吐出液体。于吐出状态下取得较非吐出状态大的值之指针值，系自图像中的包含液体之流通路径之评价对象区域中算出，且根据与预先设置之判定基准值之大小关系，判定是吐出状态还是非吐出状态。判定基准值系根据自预先收集之复数个图像中分别求出的指针值所示之直方图之形状而定。当于直方图中显示波峰位置或波峰之锐度之评价值较规定的临限值小时，推定所收集之图像为非吐出状态者，当评价值较临限值大时，推定所收集之图像为吐出状态者。因此，无论是吐出状态还是非吐出状态，皆可适宜地设置判定基准值。

5. 发明专利

TW201613024A 位置檢測裝置、基板處理裝置、位置檢測方法及基板處理方法审中-公开
简体标题：位置检测设备、基板处理设备、位置检测方法及基板处理方法
公开(公告)号：TW201613024A
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW104115097
申请日：2015-05-12
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：沖田有史 , OKITA, YUJI , 角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 佐野洋 , SANO, HIROSHI
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： B25J9/1674 , G05B2219/40611 , G05B2219/45031 , G06T7/74 , G06T2207/30164
摘要：本發明係檢測可於腔室90內之處理空間SP移動之可動部33、53的位置之位置檢測裝置，其包含：攝像機構72，其分別拍攝設置於腔室90內且已知腔室內位置之基準部位63、64與可動部33、53而取得原圖像；圖像處理機構86，其係根據原圖像而執行檢測可動部及基準部位之圖像處理；及位置檢測機構，其係基於表示檢測出之可動部及基準部各者之原圖像內的位置之位置資訊，檢測可動部於處理空間中之位置。本發明可抑制攝像機構之位置偏差之影響而精度良好地檢測可動部之位置。
简体摘要：本发明系检测可于腔室90内之处理空间SP移动之可动部33、53的位置之位置检测设备，其包含：摄像机构72，其分别拍摄设置于腔室90内且已知腔室内位置之基准部位63、64与可动部33、53而取得原图像；图像处理机构86，其系根据原图像而运行检测可动部及基准部位之图像处理；及位置检测机构，其系基于表示检测出之可动部及基准部各者之原图像内的位置之位置信息，检测可动部于处理空间中之位置。本发明可抑制摄像机构之位置偏差之影响而精度良好地检测可动部之位置。

6. 发明专利

TWI633938B 吐出判定方法及吐出裝置有权
简体标题：吐出判定方法及吐出设备
公开(公告)号：TWI633938B
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW105135483
申请日：2016-11-02
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：沖田有史 , OKITA, YUJI
IPC分类号： B05C11/00 , G06K9/52

7. 发明专利

TWI546885B 位置檢測裝置、基板處理裝置、位置檢測方法及基板處理方法有权
简体标题：位置检测设备、基板处理设备、位置检测方法及基板处理方法
公开(公告)号：TWI546885B
公开(公告)日：2016-08-21
申请号：TW104115097
申请日：2015-05-12
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：沖田有史 , OKITA, YUJI , 角間央章 , KAKUMA, HIROAKI , 佐野洋 , SANO, HIROSHI
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： B25J9/1674 , G05B2219/40611 , G05B2219/45031 , G06T7/74 , G06T2207/30164

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