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1. 发明专利

TW201840958A 用於基於熱的質量流量控制器(MFCS)之增進流量偵測可重複性的方法及設備审中-公开
简体标题：用于基于热的质量流量控制器(MFCS)之增进流量侦测可重复性的方法及设备
公开(公告)号：TW201840958A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW106140040
申请日：2017-11-20
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：徐明 , XU, MING , 柯西堤蘇珊特S , KOSHTI, SUSHANT S. , 萊斯麥可R , RICE, MICHAEL R. , 巴巴揚史蒂芬E , BABAYAN, STEVEN E. , 孫語南 , SUN, JENNIFER Y.
IPC分类号： G01F1/696 , C23C16/40 , C23C16/455 , G05D7/06
摘要：電子裝置製造系統包括具有熱流量感測器的質量流量控制器(MFC)。熱流量感測器可量測質量流率並且可包括感測器管，該感測器管具有塗覆有材料的內表面以形成內阻擋層。內阻擋層可防止或實質上減少在內表面上發生腐蝕性反應的可能性，此可防止或減少MFC漂移超出MFC的質量流率準確性規格的可能性。此可改善由MFC進行的流量偵測的可重複性。亦提供了在電子裝置製造系統中量測和控制質量流率的方法，其他態樣也是如此。
简体摘要：电子设备制造系统包括具有热流量传感器的质量流量控制器(MFC)。热流量传感器可量测质量流率并且可包括传感器管，该传感器管具有涂覆有材料的内表面以形成内阻挡层。内阻挡层可防止或实质上减少在内表面上发生腐蚀性反应的可能性，此可防止或减少MFC漂移超出MFC的质量流率准确性规格的可能性。此可改善由MFC进行的流量侦测的可重复性。亦提供了在电子设备制造系统中量测和控制质量流率的方法，其他态样也是如此。

2. 发明专利

TWI693653B 用於在射頻環境中之裝置的控制架構有权
简体标题：用于在射频环境中之设备的控制架构
公开(公告)号：TWI693653B
公开(公告)日：2020-05-11
申请号：TW104139236
申请日：2015-11-25
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：克里米奈爾菲利浦 , CRIMINALE, PHILLIP , 巴巴揚史蒂芬E , BABAYAN, STEVEN E. , 馬洛爾丹恩A , MAROHL, DAN A.
IPC分类号： H01L21/67

3. 发明专利

TW201642384A 方位可調整的多區域靜電夾具审中-公开
简体标题：方位可调整的多区域静电夹具
公开(公告)号：TW201642384A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW105101249
申请日：2016-01-15
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：張純磊 , ZHANG, CHUNLEI , 克里米奈爾菲利浦 , CRIMINALE, PHILLIP , 巴巴揚史蒂芬E , BABAYAN, STEVEN E. , 烏爾斯特倫大衛 , ULLSTROM, DAVID
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/20
CPC分类号： H01L21/6831 , H01L21/67103 , H01L21/67109 , H01L21/67248
摘要：本文所述的實施提供一種用於處理基板支撐組件上的基板之方法，該方法促成靜電夾具與基板之間的熱轉移的橫向與方位角兩者上的調整。該方法包括下述步驟：使用ESC上的第一溫度分布來處理第一基板，ESC具有主要加熱器與空間上可調整的加熱器。從處理第一基板的結果來決定偏離目標結果分布之偏移分布。基於偏移分布，來調整第一溫度分布至ESC上的第二溫度分布。調整至第二溫度分布包括下述步驟：遞增提供給對應於偏移分布的一或更多個離散位置中的一或更多個空間上可調整的加熱器之功率。然後使用第二溫度分布來處理ESC上的第二基板。
简体摘要：本文所述的实施提供一种用于处理基板支撑组件上的基板之方法，该方法促成静电夹具与基板之间的热转移的横向与方位角两者上的调整。该方法包括下述步骤：使用ESC上的第一温度分布来处理第一基板，ESC具有主要加热器与空间上可调整的加热器。从处理第一基板的结果来决定偏离目标结果分布之偏移分布。基于偏移分布，来调整第一温度分布至ESC上的第二温度分布。调整至第二温度分布包括下述步骤：递增提供给对应于偏移分布的一或更多个离散位置中的一或更多个空间上可调整的加热器之功率。然后使用第二温度分布来处理ESC上的第二基板。

4. 发明专利

TW201626490A 用於在射頻環境中之裝置的控制架構审中-公开
简体标题：用于在射频环境中之设备的控制架构
公开(公告)号：TW201626490A
公开(公告)日：2016-07-16
申请号：TW104139236
申请日：2015-11-25
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：克里米奈爾菲利浦 , CRIMINALE, PHILLIP , 巴巴揚史蒂芬E , BABAYAN, STEVEN E. , 馬洛爾丹恩A , MAROHL, DAN A.
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H04L25/4902 , H04L21/00
摘要：一種系統包括用以產生指令的一處理工具，該指令具有可於一傳導通訊鏈路上傳輸的一第一格式。該系統進一步包括耦接至該處理裝置的一第一轉換器，以接收該指令並將該指令轉換為可於一非傳導通訊鏈路上傳輸的一第二格式。該系統進一步包括一第二轉換器，配置以於一破壞性射頻(RF)環境中運作，以接收該指令並將該指令轉換回可於一傳導通訊鏈路上傳輸的格式，然後將該指令傳送至一脈衝寬度調變(PWM)電路。PWM電路耦接至該第二轉換器，並且是配置以在該破壞性RF環境中運作，以根據該指令調整用以控制要在該破壞性RF環境中運作的一個或多個元件之設定。
简体摘要：一种系统包括用以产生指令的一处理工具，该指令具有可于一传导通信链路上载输的一第一格式。该系统进一步包括耦接至该处理设备的一第一转换器，以接收该指令并将该指令转换为可于一非传导通信链路上载输的一第二格式。该系统进一步包括一第二转换器，配置以于一破坏性射频(RF)环境中运作，以接收该指令并将该指令转换回可于一传导通信链路上载输的格式，然后将该指令发送至一脉冲宽度调制(PWM)电路。PWM电路耦接至该第二转换器，并且是配置以在该破坏性RF环境中运作，以根据该指令调整用以控制要在该破坏性RF环境中运作的一个或多个组件之设置。

5. 发明专利

TW202015171A 方位可調整的多區域靜電夾具审中-公开
简体标题：方位可调整的多区域静电夹具
公开(公告)号：TW202015171A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108135905
申请日：2016-01-15
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：張純磊 , ZHANG, CHUNLEI , 克里米奈爾菲利浦 , CRIMINALE, PHILLIP , 巴巴揚史蒂芬E , BABAYAN, STEVEN E. , 烏爾斯特倫大衛 , ULLSTROM, DAVID
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/20
摘要：本文所述的實施提供一種用於處理基板支撐組件上的基板之方法，該方法促成靜電夾具與基板之間的熱轉移的橫向與方位角兩者上的調整。該方法包括下述步驟：使用在具有主要加熱器和空間上可調整的加熱器的一基板支撐組件上的一第一溫度分布來處理一第一基板。從處理第一基板的結果來決定偏移分布。回應於該偏移分布來控制該空間上可調整的加熱器以在形成一第二溫度分布時促進該基板支撐組件的局部熱點和冷點的橫向與方位角上的離散調整。然後使用第二溫度分布來處理第二基板。
简体摘要：本文所述的实施提供一种用于处理基板支撑组件上的基板之方法，该方法促成静电夹具与基板之间的热转移的横向与方位角两者上的调整。该方法包括下述步骤：使用在具有主要加热器和空间上可调整的加热器的一基板支撑组件上的一第一温度分布来处理一第一基板。从处理第一基板的结果来决定偏移分布。回应于该偏移分布来控制该空间上可调整的加热器以在形成一第二温度分布时促进该基板支撑组件的局部热点和冷点的横向与方位角上的离散调整。然后使用第二温度分布来处理第二基板。

6. 发明专利

TW202004832A 泵送系統與包括此泵送系統的電漿處理設備、以及處理基板的方法审中-公开
简体标题：泵送系统与包括此泵送系统的等离子处理设备、以及处理基板的方法
公开(公告)号：TW202004832A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108124040
申请日：2017-08-28
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：尼柯爾斯麥克湯瑪斯 , NICHOLS, MICHAEL THOMAS , 尤瑟夫以馬德 , YOUSIF, IMAD , 歐麥力三世約翰安東尼 , O ' MALLEY, III, JOHN ANTHONY , 巴巴揚史蒂芬E , BABAYAN, STEVEN E.
IPC分类号： H01J37/32
摘要：本案揭露的實施例大體係關於用於電漿處理設備的泵送系統。泵送系統包括：第一泵路徑、第二泵路徑、第一閥和第二閥。第一泵路徑將處理腔室的基板支撐組件的開口耦接至處理腔室的排氣口。第二泵路徑將基板支撐組件的開口耦接至處理腔室的抽氣區域。第一閥定位在第一泵路徑中。第一閥可配置在第一狀態和第二狀態之間。第二閥定位於第二泵路徑中。第二閥可配置在第一狀態和第二狀態之間。
简体摘要：本案揭露的实施例大体系关于用于等离子处理设备的泵送系统。泵送系统包括：第一泵路径、第二泵路径、第一阀和第二阀。第一泵路径将处理腔室的基板支撑组件的开口耦接至处理腔室的排气口。第二泵路径将基板支撑组件的开口耦接至处理腔室的抽气区域。第一阀定位在第一泵路径中。第一阀可配置在第一状态和第二状态之间。第二阀定位于第二泵路径中。第二阀可配置在第一状态和第二状态之间。

7. 实用新型

TWM549955U 具有抗電漿密封件的基材處理腔室部件組合有权
简体标题：具有抗等离子密封件的基材处理腔室部件组合
公开(公告)号：TWM549955U
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW106200875
申请日：2017-01-18
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：菲路茲朵爾維希德 , FIROUZDOR, VAHID , 尤瑟夫以馬德 , YOUSIF, IMAD , 巴巴揚史蒂芬E , BABAYAN, STEVEN E. , 汀德沙拉吉德 , DHINDSA, RAJINDER , 李昌憲 , LEE, CHANGHUN , 達恩何義 , DOAN, KHOI , 歐麥力安東尼 , O'MALLEY, ANTHONY
IPC分类号： H01L21/56
CPC分类号： H01J37/32495 , H01J37/3211 , H01J37/32513 , H01J37/32697 , H01J37/32724 , H01J2237/166 , H01J2237/334 , H01L21/67069 , H01L21/67126 , H01L21/6831 , H01L21/6833 , H01L21/68735

8. 发明专利

TWI594362B 可調式溫度控制基板支撐組件有权
简体标题：可调式温度控制基板支撑组件
公开(公告)号：TWI594362B
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW104116305
申请日：2015-05-21
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：帕克維傑D , PARKHE, VIJAY D. , 巴巴揚史蒂芬E , BABAYAN, STEVEN E. , 馬可拉契夫康斯坦汀 , MAKHRATCHEV, KONSTANTIN , 郭智強 , GUO, ZHIQIANG , 索莫菲利普R , SOMMER, PHILLIP R. , 馬洛爾丹恩A , MAROHL, DAN A.
IPC分类号： H01L21/687 , H01L23/34
CPC分类号： H01L21/6833 , H01L21/67103 , H01L21/67248 , H01L21/6831 , H05B1/023 , H05B1/0233 , H05B3/02

9. 发明专利

TWI677049B 方位可調整的多區域靜電夾具有权
简体标题：方位可调整的多区域静电夹具
公开(公告)号：TWI677049B
公开(公告)日：2019-11-11
申请号：TW105101249
申请日：2016-01-15
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：張純磊 , ZHANG, CHUNLEI , 克里米奈爾菲利浦 , CRIMINALE, PHILLIP , 巴巴揚史蒂芬E , BABAYAN, STEVEN E. , 烏爾斯特倫大衛 , ULLSTROM, DAVID
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/20

10. 发明专利

TWI668727B 泵送系統與包括此泵送系統的電漿處理設備、以及處理基板的方法有权
简体标题：泵送系统与包括此泵送系统的等离子处理设备、以及处理基板的方法
公开(公告)号：TWI668727B
公开(公告)日：2019-08-11
申请号：TW106129128
申请日：2017-08-28
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：尼柯爾斯麥克湯瑪斯 , NICHOLS, MICHAEL THOMAS , 尤瑟夫以馬德 , YOUSIF, IMAD , 歐麥力三世約翰安東尼 , O ' MALLEY, III, JOHN ANTHONY , 巴巴揚史蒂芬E , BABAYAN, STEVEN E.
IPC分类号： H01J37/32

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