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1. 发明专利

TWI401330B 反應性濺鍍氧化鋅透明導電氧化物至大面積基材上有权
简体标题：反应性溅镀氧化锌透明导电氧化物至大面积基材上
公开(公告)号：TWI401330B
公开(公告)日：2013-07-11
申请号：TW096112371
申请日：2007-04-09
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：劉家凌 , LAU, ALLEN KA-LING , 稻川真 , INAGAWA, MAKOTO , 史汀森貝德利O , STIMSON, BRADLEY O. , 細川昭弘 , HOSOKAWA, AKIHIRO , 懷特約翰M , WHITE, JOHN M. , 葉洋 , YE, YAN , 卡丹安庫 , KADAM, ANKUR , 李洋平 , LI, YANPING
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/54
CPC分类号： C23C14/564 , C23C14/0063 , C23C14/35 , H01J37/3244 , H01J37/34 , H01J37/3438

2. 发明专利

TWI350317B 可控型靶材冷卻裝置及方法 CONTROLLABLE TARGET COOLING 有权
简体标题：可控型靶材冷却设备及方法 CONTROLLABLE TARGET COOLING
公开(公告)号：TWI350317B
公开(公告)日：2011-10-11
申请号：TW095123657
申请日：2006-06-29
申请人：應用材料股份有限公司
发明人：田名瀨義明 , 稻川誠 , 細川昭弘
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C14/3407 , H01J37/3408 , H01J37/3497 , Y10T29/49826
摘要：一濺鍍靶材構件(18、20)特別適用於大面板電漿濺鍍反應器，具有一同時密接於主製程室(14)與放置可移動式磁電管(30)之真空抽吸室(32)的靶材構件。與靶材貼片結合之靶材構件包括一整合板(62)及平行主面之冷卻鑽孔(64)。孔洞末端予以密封(74)，而垂直延伸之狹縫(66、68、70、72)分為兩組並交錯排列在各側、且往下製作到背板相對側邊上的各對冷卻孔。四個歧管(104、106)密接於四組狹縫，並且提供冷卻劑反向流動的路徑。
简体摘要：一溅镀靶材构件(18、20)特别适用于大皮肤等离子溅镀反应器，具有一同时密接于主制程室(14)与放置可移动式磁电管(30)之真空抽吸室(32)的靶材构件。与靶材贴片结合之靶材构件包括一集成板(62)及平行主面之冷却钻孔(64)。孔洞末端予以密封(74)，而垂直延伸之狭缝(66、68、70、72)分为两组并交错排列在各侧、且往下制作到背板相对侧边上的各对冷却孔。四个歧管(104、106)密接于四组狭缝，并且提供冷却剂反向流动的路径。

3. 发明专利

TWI315568B 可進行加熱及冷卻之基板支撐件 HEATING AND COOLING OF SUBSTRATE SUPPORT 有权
简体标题：可进行加热及冷却之基板支撑件 HEATING AND COOLING OF SUBSTRATE SUPPORT
公开(公告)号：TWI315568B
公开(公告)日：2009-10-01
申请号：TW095128194
申请日：2006-08-01
申请人：應用材料股份有限公司
发明人：細川昭弘 , 稻川誠
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67109
摘要：本發明揭示一種基板支撐件及用以控制位於處理室內之基板溫度的方法。一基板支撐件包括：一導熱體，其至少包含一不鏽鋼材料；一基板支撐表面，其位於在導熱體之表面上且調適成在其上支撐一大面積基板；一或多個加熱元件，其埋置在導熱體內；一冷卻板，其設置在導熱體下方；一基底支撐結構，其至少包含一不鏽鋼材料，設置在冷卻板下方，並且調適成在結構上支撐導熱體；及一或多個冷卻通道，其調適成受基底支撐結構支撐且設置在冷卻板與基底支撐結構之間。本發明亦揭示一種至少包含本發明之基板支撐件的處理室。
简体摘要：本发明揭示一种基板支撑件及用以控制位于处理室内之基板温度的方法。一基板支撑件包括：一导热体，其至少包含一不锈钢材料；一基板支撑表面，其位于在导热体之表面上且调适成在其上支撑一大面积基板；一或多个加热组件，其埋置在导热体内；一冷却板，其设置在导热体下方；一基底支撑结构，其至少包含一不锈钢材料，设置在冷却板下方，并且调适成在结构上支撑导热体；及一或多个冷却信道，其调适成受基底支撑结构支撑且设置在冷却板与基底支撑结构之间。本发明亦揭示一种至少包含本发明之基板支撑件的处理室。

4. 发明专利

TWI363807B 冷卻陽極及使用其之物理氣相沈積設備及方法 COOLED ANODE ASSEMBLY AND PHYSICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND METHOD USING THE SAME 有权
简体标题：冷却阳极及使用其之物理气相沉积设备及方法 COOLED ANODE ASSEMBLY AND PHYSICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND METHOD USING THE SAME
公开(公告)号：TWI363807B
公开(公告)日：2012-05-11
申请号：TW096124807
申请日：2007-07-06
申请人：應用材料股份有限公司
发明人：劉家凌 , 稻川真 , 史汀門森布瑞德利O , 細川昭弘
IPC分类号： C23C , H01L
CPC分类号： C23C14/35 , H01J37/32724 , H01J37/34 , H01J37/3438 , H01J37/3455
摘要：在此公開了一種物理氣相沈積(PVD)設備和PVD方法。延伸陽極通過在靶材和基板之間的處理空間可增加在基板上的沈積均勻性。陽極為在電漿中激發的電子提供接地的路徑，並可使在整個處理空間的電漿內的電子均勻分佈，而不是聚積在腔室壁。電漿內電子的均勻分佈可產生在基板上材料的均勻沈積。陽極可由冷卻流體冷卻以控制陽極的溫度並減少剝落。陽極可越過垂直於磁電管長側的處理空間設置，磁電管可在整個濺射靶材的後面在二維上掃描。掃描磁電管可減少陽極的局部加熱。
简体摘要：在此公开了一种物理气相沉积(PVD)设备和PVD方法。延伸阳极通过在靶材和基板之间的处理空间可增加在基板上的沉积均匀性。阳极为在等离子中激发的电子提供接地的路径，并可使在整个处理空间的等离子内的电子均匀分布，而不是聚积在腔室壁。等离子内电子的均匀分布可产生在基板上材料的均匀沉积。阳极可由冷却流体冷却以控制阳极的温度并减少剥落。阳极可越过垂直于磁电管长侧的处理空间设置，磁电管可在整个溅射靶材的后面在二维上扫描。扫描磁电管可减少阳极的局部加热。

5. 发明专利

TWI363806B 改良的ＰＶＤ標靶 IMPROVED PVD TARGET 有权
简体标题：改良的ＰＶＤ标靶 IMPROVED PVD TARGET
公开(公告)号：TWI363806B
公开(公告)日：2012-05-11
申请号：TW096121559
申请日：2007-06-14
申请人：應用材料股份有限公司
发明人：稻川真 , 史汀門森布瑞德利O , 細川昭弘 , 李憲銘胡 , 陳哉彥
IPC分类号： C23C , H01L
CPC分类号： C23C14/3407 , C23C14/352 , C23C14/564 , H01J37/3435
摘要：本發明揭示了一種物理氣相沈積靶組件，其用以使靶黏接層與處理區域隔離。在一實施方式中，所述靶組件包括一背板，具有第一表面和第二表面的一靶，以及設置在所述背板和所述第二表面之間的一黏接層。所述靶的第一表面與處理區域流體接觸，以及所述靶的第二表面朝所述背板定向。所述靶組件可包括多個靶。
简体摘要：本发明揭示了一种物理气相沉积靶组件，其用以使靶黏接层与处理区域隔离。在一实施方式中，所述靶组件包括一背板，具有第一表面和第二表面的一靶，以及设置在所述背板和所述第二表面之间的一黏接层。所述靶的第一表面与处理区域流体接触，以及所述靶的第二表面朝所述背板定向。所述靶组件可包括多个靶。

6. 发明专利

TWI347371B 包括部分旋轉支撐件及定心銷之彈性磁控管 FLEXIBLE MAGNETRON INCLUDING PARTIAL ROLLING SUPPORT AND CENTERING PINS 有权
简体标题：包括部分旋转支撑件及定心销之弹性磁控管 FLEXIBLE MAGNETRON INCLUDING PARTIAL ROLLING SUPPORT AND CENTERING PINS
公开(公告)号：TWI347371B
公开(公告)日：2011-08-21
申请号：TW095145056
申请日：2006-12-04
申请人：應用材料股份有限公司
发明人：稻川誠 , 細川昭弘 , 雷函旻胡 , 拉維斯基伊利亞 , 懷特約翰M , 馬丁達德W , 史汀森貝德利O
IPC分类号： C23C
摘要：一種磁控管掃描與支撐機構，其中磁控管(326)利用將多個彈簧(330)耦接至磁控管上不同水平位置的方式而部分撐托在懸掛之掃描機構的支撐板(268)上，且其下部分撐托在標靶上的滑座或滾珠(282)。在一實施例中，軛板為連續且均勻的。在另一實施例中，磁控管的磁性軛板分成二彈性軛板220、224，其例如具有互補的蜿蜒模型以支撐相應磁性的磁鐵。在又一實施例中，標靶及磁控管為由其他結構隔開的條片標靶(262)及條片磁控管(264)。各條片磁控管部分撐托在共用掃描板和對應的條片標靶上。中心機構(350、358、362、368)可對準不同的條片磁控管。
简体摘要：一种磁控管扫描与支撑机构，其中磁控管(326)利用将多个弹簧(330)耦接至磁控管上不同水平位置的方式而部分撑托在悬挂之扫描机构的支撑板(268)上，且其下部分撑托在标靶上的滑座或滚珠(282)。在一实施例中，轭板为连续且均匀的。在另一实施例中，磁控管的磁性轭板分成二弹性轭板220、224，其例如具有互补的蜿蜒模型以支撑相应磁性的磁铁。在又一实施例中，标靶及磁控管为由其他结构隔开的条片标靶(262)及条片磁控管(264)。各条片磁控管部分撑托在共享扫描板和对应的条片标靶上。中心机构(350、358、362、368)可对准不同的条片磁控管。

7. 发明专利

TWI342341B 具有互補斜邊以於其間形成傾斜間隙之多靶材牌 MULTIPLE TARGET TILES WITH COMPLEMENTARY BEVELED EDGES FORMING A SLANTED GAP THEREBETWEEN 有权
简体标题：具有互补斜边以于其间形成倾斜间隙之多靶材牌 MULTIPLE TARGET TILES WITH COMPLEMENTARY BEVELED EDGES FORMING A SLANTED GAP THEREBETWEEN
公开(公告)号：TWI342341B
公开(公告)日：2011-05-21
申请号：TW094131671
申请日：2005-09-14
申请人：應用材料股份有限公司
发明人：細川昭弘 , 胡雷憲銘
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C14/3407
摘要：一種可使用在一由複數個靶材牌(30)組成之靶材牌組，該等多靶材牌以一陣列的形式結合至一另一材質的背撐板(24)上。在該陣列中之該等靶材牌的邊緣(32、34)具有互補斜邊，以在該等靶材牌之間形成傾斜間隙(36)。該等間隙相對於該靶材法線傾斜一介於10度至55度之間的角度，較佳為15度至45度之間。對於垂直及傾斜間隙兩者而言，該等靶材牌的面對側可藉由噴砂而被粗糙化。對於垂直及傾斜間隙兩者而言，在間隙底下之該背撐板區域(48)可被粗糙化或可被塗覆或覆蓋一靶材物質的區域。
简体摘要：一种可使用在一由复数个靶材牌(30)组成之靶材牌组，该等多靶材牌以一数组的形式结合至一另一材质的背撑板(24)上。在该数组中之该等靶材牌的边缘(32、34)具有互补斜边，以在该等靶材牌之间形成倾斜间隙(36)。该等间隙相对于该靶材法线倾斜一介于10度至55度之间的角度，较佳为15度至45度之间。对于垂直及倾斜间隙两者而言，该等靶材牌的面对侧可借由喷砂而被粗糙化。对于垂直及倾斜间隙两者而言，在间隙底下之该背撑板区域(48)可被粗糙化或可被涂覆或覆盖一靶材物质的区域。

8. 发明专利

TW561575B 基板支撐座失效
简体标题：基板支撑座
公开(公告)号：TW561575B
公开(公告)日：2003-11-11
申请号：TW091122571
申请日：2002-09-30
申请人：應用材料股份有限公司
发明人：約翰M 懷特 , 細川昭弘
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/6875 , H01L21/67309
摘要：本案提供一用以支撐一基板的設備。於一實施例中，提供有一基板支撐件，其係具有一主體及一具有插槽及一球的上部份，以最小化於基板支撐座與被支撐於其上之基板間之磨擦力及/或化學反應。基板支撐座可以被利用於各種製程室中，例如真空隔絕室及具有多數熱製程的製程室。
简体摘要：本案提供一用以支撑一基板的设备。于一实施例中，提供有一基板支撑件，其系具有一主体及一具有插槽及一球的上部份，以最小化于基板支撑座与被支撑于其上之基板间之磨擦力及/或化学反应。基板支撑座可以被利用于各种制程室中，例如真空隔绝室及具有多数热制程的制程室。

9. 发明专利

TW559585B 終端作用器組件失效
简体标题：终端作用器组件
公开(公告)号：TW559585B
公开(公告)日：2003-11-01
申请号：TW091122232
申请日：2002-09-26
申请人：應用材料股份有限公司
发明人：細川昭弘
IPC分类号： B25J
CPC分类号： H01L21/68707 , Y10S294/902 , Y10S414/141
摘要：本案大致提供一用於基材傳送機械手臂之終端作用器組件。於一實施例中，一用於基材傳送機械手臂的終端作用器組件包含一終端作用器，具有多數金屬墊安排於其上。一聚合物墊係安排於每一金屬墊上，其中該金屬墊的上表面之曝露部份對該聚合物墊之頂面之比例係至少約3.5：1。於另一實施例中，用於一基材傳送機械手臂的終端作用器組件包含一終端作用器，具有多數聚合物墊安排於其上。每一聚合物墊包含一含氟聚合物塗層安排於該聚合物墊的至少一頂面上。該金屬墊及/或塗層允許該聚合物墊予以至少被暫時用於超出正常操作溫度的應用中。
简体摘要：本案大致提供一用于基材发送机械手臂之终端作用器组件。于一实施例中，一用于基材发送机械手臂的终端作用器组件包含一终端作用器，具有多数金属垫安排于其上。一聚合物垫系安排于每一金属垫上，其中该金属垫的上表面之曝露部份对该聚合物垫之顶面之比例系至少约3.5：1。于另一实施例中，用于一基材发送机械手臂的终端作用器组件包含一终端作用器，具有多数聚合物垫安排于其上。每一聚合物垫包含一含氟聚合物涂层安排于该聚合物垫的至少一顶面上。该金属垫及/或涂层允许该聚合物垫予以至少被暂时用于超出正常操作温度的应用中。

10. 发明专利

TWI363103B 在大型平板面板上進行濺鍍的方法及設備 METHOD AND APPARATUS FOR SPUTTERING ONTO LARGE FLAT PANELS 有权
简体标题：在大型平板皮肤上进行溅镀的方法及设备 METHOD AND APPARATUS FOR SPUTTERING ONTO LARGE FLAT PANELS
公开(公告)号：TWI363103B
公开(公告)日：2012-05-01
申请号：TW095126272
申请日：2006-07-18
申请人：應用材料股份有限公司
发明人：李係明忽 , 細川昭弘 , 湯普曼艾薇
IPC分类号： C23C
摘要：一種設置在一長方形標靶背面之長方形磁控管，用以強化一濺鍍反應器中之電漿，該濺鍍反應器係設置以濺鍍標靶材料至一長方形面板上。該磁控管的大小僅稍微小於該標靶且可在該標靶兩互相垂直方向上掃描一段距離，例如，對2公尺標靶來說，該距離約100毫米。該掃描也可依循一雙-z形模式，沿著與一標靶側邊平行的兩連接及兩對角線掃描。該磁控管包括形成一迴繞形狀，如一摺疊狀或一矩形螺旋之一密閉的電漿迴路，具有沿著一單一路徑延伸一定寬度的一內部極，其具有一磁性，且該磁性完全被一極性相反之外部極所圍繞。外部致動器可自一懸掛的起重台(其可在與該腔室側壁垂直方向上滑動)滑動地移動該磁電管。
简体摘要：一种设置在一长方形标靶背面之长方形磁控管，用以强化一溅镀反应器中之等离子，该溅镀反应器系设置以溅镀标靶材料至一长方形皮肤上。该磁控管的大小仅稍微小于该标靶且可在该标靶两互相垂直方向上扫描一段距离，例如，对2公尺标靶来说，该距离约100毫米。该扫描也可依循一双-z形模式，沿着与一标靶侧边平行的两连接及两对角线扫描。该磁控管包括形成一回绕形状，如一折叠状或一矩形螺旋之一密闭的等离子回路，具有沿着一单一路径延伸一定宽度的一内部极，其具有一磁性，且该磁性完全被一极性相反之外部极所围绕。外部致动器可自一悬挂的起重台(其可在与该腔室侧壁垂直方向上滑动)滑动地移动该磁电管。

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