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1. 发明专利

TW201626421A 用於檢查基板的設備、用於檢查基板的方法、大面積之基板檢查設備审中-公开
简体标题：用于检查基板的设备、用于检查基板的方法、大面积之基板检查设备
公开(公告)号：TW201626421A
公开(公告)日：2016-07-16
申请号：TW104139058
申请日：2015-11-25
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：穆勒博海德 , MUELLER, BERNHARD , 雷德路維格 , LEDL, LUDWIG , 溫雷安賽爾 , WENZEL, AXEL , 帕里索利利底亞 , PARISOLI, LIDIA , 布魯納馬堤爾斯 , BRUNNER, MATTHIAS
IPC分类号： H01J37/26 , H01J37/04
CPC分类号： H01J37/28 , G01N23/203 , G01N23/2251 , G01N23/2252 , G01N2223/61 , H01J37/145 , H01J37/16 , H01J2237/0216
摘要：敘述一種用於檢查用於顯示器製造之大面積之一基板的設備。該設備包含：一真空室；一基板支撑件，配置在真空室中，其中基板支撑件係配置成用於支撐用於顯示器製造之大面積之基板；以及一第一成像式帶電粒子束顯微鏡，配置成用於產生用於檢查由基板支撑件所支撐之一基板的一帶電粒子束，其中第一成像式帶電粒子束顯微鏡包含一物鏡之一減速電場透鏡元件。
简体摘要：叙述一种用于检查用于显示器制造之大面积之一基板的设备。该设备包含：一真空室；一基板支撑件，配置在真空室中，其中基板支撑件系配置成用于支撑用于显示器制造之大面积之基板；以及一第一成像式带电粒子束显微镜，配置成用于产生用于检查由基板支撑件所支撑之一基板的一带电粒子束，其中第一成像式带电粒子束显微镜包含一物镜之一减速电场透镜组件。

2. 发明专利

TW201841182A 用以在真空腔室中控制基板上之電荷的電荷控制設備、帶電粒子束裝置及控制基板上之電荷的方法审中-公开
简体标题：用以在真空腔室中控制基板上之电荷的电荷控制设备、带电粒子束设备及控制基板上之电荷的方法
公开(公告)号：TW201841182A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107104594
申请日：2018-02-09
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：喬斯喬治 , JOST, GEORG , 雷德路維格 , LEDL, LUDWIG , 穆勒博海德 , MUELLER, BERNHARD G. , 曾喬治 , TZENG, GEORGE
IPC分类号： H01J37/02 , H01J37/18 , H01J37/26
摘要：提供一種電荷控制設備，用於控制真空腔室中之一基板上的電荷。設備包括一光源、一鏡及一鏡支撐件。光源發射一輻射束，輻射束具有發散度。鏡係配置以反射輻射束，其中鏡之一鏡表面的曲率係配置以減小輻射束的發散度。鏡支撐件係配置以可旋轉地支撐彎曲的鏡，其中鏡的旋轉改變輻射束的方向。
简体摘要：提供一种电荷控制设备，用于控制真空腔室中之一基板上的电荷。设备包括一光源、一镜及一镜支撑件。光源发射一辐射束，辐射束具有发散度。镜系配置以反射辐射束，其中镜之一镜表面的曲率系配置以减小辐射束的发散度。镜支撑件系配置以可旋转地支撑弯曲的镜，其中镜的旋转改变辐射束的方向。

3. 发明专利

TW201907157A 用以檢查一樣本之方法及設備审中-公开
简体标题：用以检查一样本之方法及设备
公开(公告)号：TW201907157A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW107115178
申请日：2018-05-04
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：維迪庫普利特賽恩 , VIRDI, KULPREET SINGH , 穆勒博海德 , MUELLER, BERNHARD G.
IPC分类号： G01N23/2251 , G01N1/28
摘要：一種檢查樣本(10)之方法。樣本具有多層結構(15)，具有配置於第二層(12)之上方的第一層(11)。方法包括：配置樣本於真空腔室中；導引主電子束(20)於樣本(10)上，使得主電子束之數個第一主電子由第一層(11)背向散射，以形成數個第一背向散射電子(21)，及主電子束之數個第二主電子由第二層(12)背向散射，以形成數個第二背向散射電子(22)；以及導引數個訊號電子來用以取得第一層(11)及第二層(12)兩者之空間資訊，此些訊號電子包括此些第一背向散射電子(21)及此些第二背向散射電子(22)。再者，一種包括一或多個電子顯微鏡來檢查樣本之設備係說明。樣本包括多層結構(15)。
简体摘要：一种检查样本(10)之方法。样本具有多层结构(15)，具有配置于第二层(12)之上方的第一层(11)。方法包括：配置样本于真空腔室中；导引主电子束(20)于样本(10)上，使得主电子束之数个第一主电子由第一层(11)背向散射，以形成数个第一背向散射电子(21)，及主电子束之数个第二主电子由第二层(12)背向散射，以形成数个第二背向散射电子(22)；以及导参数个信号电子来用以取得第一层(11)及第二层(12)两者之空间信息，此些信号电子包括此些第一背向散射电子(21)及此些第二背向散射电子(22)。再者，一种包括一或多个电子显微镜来检查样本之设备系说明。样本包括多层结构(15)。

4. 发明专利

TWI687648B 用於顯示器製造之一基板的自動臨界尺寸測量的方法、檢查用於顯示器製造之一大面積基板的方法、用以檢查用於顯示器製造之一大面積基板之設備及操作其之方法有权
简体标题：用于显示器制造之一基板的自动临界尺寸测量的方法、检查用于显示器制造之一大面积基板的方法、用以检查用于显示器制造之一大面积基板之设备及操作其之方法
公开(公告)号：TWI687648B
公开(公告)日：2020-03-11
申请号：TW107145041
申请日：2018-12-13
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：穆勒博海德 , MUELLER, BERNHARD G. , 陶納爾羅伯特 , TRAUNER, ROBERT , 史庫勒伯恩哈德 , SCHULER, BERNHARD , 斯塔凡松彼得 , STAFFANSSON, PETER C. , 維迪庫普利特賽恩 , VIRDI, KULPREET SINGH , 戴克沃爾克 , DAIKER, VOLKER
IPC分类号： G01B15/04 , H01J37/28 , G02F1/1333

5. 发明专利

TWI673748B 用於檢查基板的設備、用於檢查基板的方法有权
简体标题：用于检查基板的设备、用于检查基板的方法
公开(公告)号：TWI673748B
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：TW104139058
申请日：2015-11-25
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：穆勒博海德 , MUELLER, BERNHARD , 雷德路維格 , LEDL, LUDWIG , 溫雷安賽爾 , WENZEL, AXEL , 帕里索利利底亞 , PARISOLI, LIDIA , 布魯納馬堤爾斯 , BRUNNER, MATTHIAS
IPC分类号： H01J37/26 , H01J37/04

6. 发明专利

TW201837865A 檢查基板的方法和具有複數個指令儲存於其上的電腦可讀取媒體审中-公开
简体标题：检查基板的方法和具有复数个指令存储于其上的电脑可读取媒体
公开(公告)号：TW201837865A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW106143405
申请日：2017-12-11
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：穆勒博海德 , MUELLER, BERNHARD G. , 張雪娜 , ZHANG, XUENA , 努南彼得 , NUNAN, PETER , 維迪庫普利特賽恩 , VIRDI, KULPREET SINGH
IPC分类号： G06T7/55 , H01J37/22 , H01J37/28
摘要：提供一種檢查基板的方法。此方法包括：提供基板至一真空腔室中，此基板係為一大面積基板，其中此基板具有一薄膜，薄膜具有沈積在基板上的一晶粒結構；利用一成像帶電粒子束顯微鏡產生一主要帶電粒子束，其中此主要帶電粒子束撞擊在真空腔室中的基板上；以及從基板在主要帶電粒子束撞擊時所釋放的信號粒子產生一個或多個影像，其中此一個或多個影像係為地形影像。
简体摘要：提供一种检查基板的方法。此方法包括：提供基板至一真空腔室中，此基板系为一大面积基板，其中此基板具有一薄膜，薄膜具有沉积在基板上的一晶粒结构；利用一成像带电粒子束显微镜产生一主要带电粒子束，其中此主要带电粒子束撞击在真空腔室中的基板上；以及从基板在主要带电粒子束撞击时所释放的信号粒子产生一个或多个影像，其中此一个或多个影像系为地形影像。

7. 发明专利

TW202030478A 用於切割基板上的電子裝置的設備及方法审中-公开
简体标题：用于切割基板上的电子设备的设备及方法
公开(公告)号：TW202030478A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW108136635
申请日：2019-10-09
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：穆勒博海德 , MUELLER, BERNHARD G.
IPC分类号： G01N23/18 , G01N1/04 , H01J37/26 , H01J37/28
摘要：揭露了一種用於切割一電子裝置的方法及設備。在一實施例中，描述了一種用於在一基板上切割一電子裝置的設備，此設備包括用於支撐此基板的一平臺，此基板上具有此電子裝置；固定在此平臺上方的一位置上的一聚焦離子束柱，此聚焦離子束柱係適於在相對於此基板的一主要表面的一平面的一銳角角度處發射一光束路徑，以及與此聚焦離子束柱相鄰放置的一顯微鏡，其中此平臺在此電子裝置的切割期間僅限於在一X-Y平面中移動。
简体摘要：揭露了一种用于切割一电子设备的方法及设备。在一实施例中，描述了一种用于在一基板上切割一电子设备的设备，此设备包括用于支撑此基板的一平台，此基板上具有此电子设备；固定在此平台上方的一位置上的一聚焦离子束柱，此聚焦离子束柱系适于在相对于此基板的一主要表面的一平面的一锐角角度处发射一光束路径，以及与此聚焦离子束柱相邻放置的一显微镜，其中此平台在此电子设备的切割期间仅限于在一X-Y平面中移动。

8. 发明专利

TWI691717B 用以檢查一樣本之方法及設備有权
简体标题：用以检查一样本之方法及设备
公开(公告)号：TWI691717B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：TW107115178
申请日：2018-05-04
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：維迪庫普利特賽恩 , VIRDI, KULPREET SINGH , 穆勒博海德 , MUELLER, BERNHARD G.
IPC分类号： G01N23/2251 , G01N1/28

9. 发明专利

TW201837988A 用以處理一基板之方法及設備及對應之顯示元件审中-公开
简体标题：用以处理一基板之方法及设备及对应之显示组件
公开(公告)号：TW201837988A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW106144468
申请日：2017-12-18
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：穆勒博海德 , MUELLER, BERNHARD G.
IPC分类号： H01L21/20 , C03C17/00 , C23C16/50
摘要：根據本揭露之一方面，說明用以處理一基板(10)之一種方法及一種設備。基板舉例為一顯示元件。基板具有一電性絕緣背側(12)及一前側(14)，前側相反於電性絕緣背側。方法包括：塗佈電性絕緣背側(12)而具有一導電層(20)，以提供一導電背側(22)；連接導電背側於地(25)或一參考電位；以及處理基板，特別是處理前側及/或形成於前側上之一或多個電子裝置(32)。再者，說明一種用以處理一基板之設備。根據其他方面，說明一種顯示元件。顯示元件包括一基板(10)。基板具有一電性絕緣背側，電性絕緣背側塗佈有一導電層(20)。
简体摘要：根据本揭露之一方面，说明用以处理一基板(10)之一种方法及一种设备。基板举例为一显示组件。基板具有一电性绝缘背侧(12)及一前侧(14)，前侧相反于电性绝缘背侧。方法包括：涂布电性绝缘背侧(12)而具有一导电层(20)，以提供一导电背侧(22)；连接导电背侧于地(25)或一参考电位；以及处理基板，特别是处理前侧及/或形成于前侧上之一或多个电子设备(32)。再者，说明一种用以处理一基板之设备。根据其他方面，说明一种显示组件。显示组件包括一基板(10)。基板具有一电性绝缘背侧，电性绝缘背侧涂布有一导电层(20)。

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