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1. 发明专利

TWI691717B 用以檢查一樣本之方法及設備有权
简体标题：用以检查一样本之方法及设备
公开(公告)号：TWI691717B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：TW107115178
申请日：2018-05-04
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：維迪庫普利特賽恩 , VIRDI, KULPREET SINGH , 穆勒博海德 , MUELLER, BERNHARD G.
IPC分类号： G01N23/2251 , G01N1/28

2. 发明专利

TW201919086A 具有高解析度之電子束設備审中-公开
简体标题：具有高分辨率之电子束设备
公开(公告)号：TW201919086A
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：TW107126417
申请日：2018-07-31
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：姜辛容 , JIANG, XINRONG , 希爾斯克里斯多福 , SEARS, CHRISTOPHER
IPC分类号： H01J37/073 , H01J37/075 , H01J37/145 , H01J37/244 , H01J37/28 , G01N23/2251
CPC分类号： H01J37/145 , G01N23/2251 , G01N2223/418 , G01N2223/6116 , H01J37/067 , H01J37/073 , H01J37/075 , H01J2237/06316 , H01J2237/06341 , H01J2237/065 , H01J2237/1415 , H01J2237/28
摘要：一種磁槍透鏡及一種靜電槍透鏡可用於一電子束設備且可有助於在掃描電子顯微鏡、檢查及/或檢驗使用中為所有可用電子束電流提供高解析度。一提取射束可使用該磁槍透鏡經由一射束限制孔徑而導引在一晶圓處。該電子束亦可在該電子束通過該射束限制孔徑之後通過一靜電槍透鏡。
简体摘要：一种磁枪透镜及一种静电枪透镜可用于一电子束设备且可有助于在扫描电子显微镜、检查及/或检验使用中为所有可用电子束电流提供高分辨率。一提取射束可使用该磁枪透镜经由一射束限制孔径而导引在一晶圆处。该电子束亦可在该电子束通过该射束限制孔径之后通过一静电枪透镜。

3. 发明专利

TWI668433B 用於分子檢測的分子載體有权
简体标题：用于分子检测的分子载体
公开(公告)号：TWI668433B
公开(公告)日：2019-08-11
申请号：TW106133870
申请日：2017-09-30
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：王營城 , WANG, YING-CHENG , 金元浩 , JIN, YUAN-HAO , 李群慶 , LI, QUN-QING , 范守善 , FAN, SHOU-SHAN
IPC分类号： G01N21/65 , G01N21/01 , G01J3/44 , G01N23/2251 , C01B32/158 , C08K3/08 , C08J5/00

4. 发明专利

TWI668431B 分子載體的製備方法有权
简体标题：分子载体的制备方法
公开(公告)号：TWI668431B
公开(公告)日：2019-08-11
申请号：TW106133865
申请日：2017-09-30
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：王營城 , WANG, YING-CHENG , 金元浩 , JIN, YUAN-HAO , 李群慶 , LI, QUN-QING , 范守善 , FAN, SHOU-SHAN
IPC分类号： G01N21/65 , G01N1/28 , G01J3/44 , G01N23/2251 , G01N21/01 , C08J5/00 , C08K3/08 , C01B32/158

5. 发明专利

TW201907157A 用以檢查一樣本之方法及設備审中-公开
简体标题：用以检查一样本之方法及设备
公开(公告)号：TW201907157A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW107115178
申请日：2018-05-04
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：維迪庫普利特賽恩 , VIRDI, KULPREET SINGH , 穆勒博海德 , MUELLER, BERNHARD G.
IPC分类号： G01N23/2251 , G01N1/28
摘要：一種檢查樣本(10)之方法。樣本具有多層結構(15)，具有配置於第二層(12)之上方的第一層(11)。方法包括：配置樣本於真空腔室中；導引主電子束(20)於樣本(10)上，使得主電子束之數個第一主電子由第一層(11)背向散射，以形成數個第一背向散射電子(21)，及主電子束之數個第二主電子由第二層(12)背向散射，以形成數個第二背向散射電子(22)；以及導引數個訊號電子來用以取得第一層(11)及第二層(12)兩者之空間資訊，此些訊號電子包括此些第一背向散射電子(21)及此些第二背向散射電子(22)。再者，一種包括一或多個電子顯微鏡來檢查樣本之設備係說明。樣本包括多層結構(15)。
简体摘要：一种检查样本(10)之方法。样本具有多层结构(15)，具有配置于第二层(12)之上方的第一层(11)。方法包括：配置样本于真空腔室中；导引主电子束(20)于样本(10)上，使得主电子束之数个第一主电子由第一层(11)背向散射，以形成数个第一背向散射电子(21)，及主电子束之数个第二主电子由第二层(12)背向散射，以形成数个第二背向散射电子(22)；以及导参数个信号电子来用以取得第一层(11)及第二层(12)两者之空间信息，此些信号电子包括此些第一背向散射电子(21)及此些第二背向散射电子(22)。再者，一种包括一或多个电子显微镜来检查样本之设备系说明。样本包括多层结构(15)。

6. 发明专利

TW201903399A 多行掃描式電子顯微鏡系統审中-公开
简体标题：多行扫描式电子显微镜系统
公开(公告)号：TW201903399A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107119406
申请日：2018-06-06
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：奈瑟-葛德西梅瑞 , NASSER-GHODSI, MEHRAN , 普雷特納湯瑪士 , PLETTNER, TOMAS , 希爾斯克里斯多福 , SEARS, CHRISTOPHER , 海尼斯羅伯特 , HAYNES, ROBERT , 葛林約翰 , GERLING, JOHN , 威克雅倫 , WELK, ARON , 福克斯菲利普 , FUKS, FELIPE
IPC分类号： G01N23/2251 , H01J37/28
摘要：本發明揭示一種多行掃描式電子顯微鏡(SEM)系統。該SEM系統包含一源總成。該源總成包含經組態以產生複數個電子束之兩個或兩個以上電子束源。該源總成亦包含經組態以致動該兩個或兩個以上電子束源之兩組或兩組以上定位器。該SEM系統亦包含一柱總成。該柱總成包含複數個基板陣列。該柱總成亦包含藉由接合至該複數個基板陣列之一組柱電子光學元件形成之兩個或兩個以上電子光學柱。該SEM系統亦包含經組態以固定一樣本之一載物台，該樣本回應於藉由該兩個或兩個以上電子光學柱引導至該樣本之該複數個電子束而進行發射電子或散射電子之至少一者。
简体摘要：本发明揭示一种多行扫描式电子显微镜(SEM)系统。该SEM系统包含一源总成。该源总成包含经组态以产生复数个电子束之两个或两个以上电子束源。该源总成亦包含经组态以致动该两个或两个以上电子束源之两组或两组以上定位器。该SEM系统亦包含一柱总成。该柱总成包含复数个基板数组。该柱总成亦包含借由接合至该复数个基板数组之一组柱电子光学组件形成之两个或两个以上电子光学柱。该SEM系统亦包含经组态以固定一样本之一载物台，该样本回应于借由该两个或两个以上电子光学柱引导至该样本之该复数个电子束而进行发射电子或散射电子之至少一者。

7. 发明专利

TW202022366A 時間相依缺陷檢測設備审中-公开
简体标题：时间相依缺陷检测设备
公开(公告)号：TW202022366A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW108130570
申请日：2019-08-27
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：任志榆 , JEN, CHIH-YU , 禡龍 , MA, LONG , 王勇軍 , WANG, YONGJUN , 蔣軍 , JIANG, JUN
IPC分类号： G01N23/2251 , H01L21/66
摘要：本發明揭示一種改良帶電粒子束檢測設備，且更特定言之，揭示一種用於偵測一精簡型裝置結構缺陷的粒子束檢測設備。一改良帶電粒子束檢測設備可包括：一帶電粒子束源，其用以在一時間序列內將帶電粒子導向至受檢測之一晶圓之一位置。該改良帶電粒子束設備可進一步包括：一控制器，其經組態以在該時間序列內在不同時間處對該晶圓的區域之多個影像進行取樣。可比較該等多個影像以偵測一電壓對比度差或改變，以識別一精簡型裝置結構缺陷。
简体摘要：本发明揭示一种改良带电粒子束检测设备，且更特定言之，揭示一种用于侦测一精简型设备结构缺陷的粒子束检测设备。一改良带电粒子束检测设备可包括：一带电粒子束源，其用以在一时间串行内将带电粒子导向至受检测之一晶圆之一位置。该改良带电粒子束设备可进一步包括：一控制器，其经组态以在该时间串行内在不同时间处对该晶圆的区域之多个影像进行采样。可比较该等多个影像以侦测一电压对比度差或改变，以识别一精简型设备结构缺陷。

8. 发明专利

TW202011019A 多帶電粒子束檢查裝置以及多帶電粒子束檢查方法审中-公开
简体标题：多带电粒子束检查设备以及多带电粒子束检查方法
公开(公告)号：TW202011019A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108116976
申请日：2019-05-16
申请人：日商紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：小川力 , OGAWA, RIKI
IPC分类号： G01N23/2251 , H01L21/66 , G03F1/86
摘要：本發明是有關於一種多帶電粒子束檢查裝置以及多帶電粒子束檢查方法。本發明的一形態的多帶電粒子束檢查裝置包括：可移動的平台，載置形成有相同圖案的多個晶粒排列於規定的方向上的檢查對象基板；晶粒間距取得處理電路，取得多個晶粒的排列間距；倍率控制電路，以如下方式控制多帶電粒子束的倍率，於一面使平台連續移動一面使用多帶電粒子束拍攝檢查對象基板的情況下，多個晶粒的排列間距變成多帶電粒子束的各排列位置的光束分別負責拍攝的多個拍攝區域的規定的方向的拍攝區域週期的2以上的自然數倍；以及被檢查影像取得機構，使用已被控制成所述倍率的多帶電粒子束，取得已排列於檢查對象基板的多個晶粒的被檢查影像。
简体摘要：本发明是有关于一种多带电粒子束检查设备以及多带电粒子束检查方法。本发明的一形态的多带电粒子束检查设备包括：可移动的平台，载置形成有相同图案的多个晶粒排列于规定的方向上的检查对象基板；晶粒间距取得处理电路，取得多个晶粒的排列间距；倍率控制电路，以如下方式控制多带电粒子束的倍率，于一面使平台连续移动一面使用多带电粒子束拍摄检查对象基板的情况下，多个晶粒的排列间距变成多带电粒子束的各排列位置的光束分别负责拍摄的多个拍摄区域的规定的方向的拍摄区域周期的2以上的自然数倍；以及被检查影像取得机构，使用已被控制成所述倍率的多带电粒子束，取得已排列于检查对象基板的多个晶粒的被检查影像。

9. 发明专利

TWI670484B 分子檢測裝置有权
简体标题：分子检测设备
公开(公告)号：TWI670484B
公开(公告)日：2019-09-01
申请号：TW106133867
申请日：2017-09-30
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：王營城 , WANG, YING-CHENG , 金元浩 , JIN, YUAN-HAO , 李群慶 , LI, QUN-QING , 范守善 , FAN, SHOU-SHAN
IPC分类号： G01N21/65 , G01N21/01 , G06F17/00 , G01J3/44 , G01N23/2251 , C08K3/08 , C08J5/00

10. 发明专利

TWI668434B 用於分子檢測的分子載體有权
简体标题：用于分子检测的分子载体
公开(公告)号：TWI668434B
公开(公告)日：2019-08-11
申请号：TW106133871
申请日：2017-09-30
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：王營城 , WANG, YING-CHENG , 金元浩 , JIN, YUAN-HAO , 李群慶 , LI, QUN-QING , 范守善 , FAN, SHOU-SHAN
IPC分类号： G01N21/65 , G01N1/28 , G01J3/44 , G01N23/2251 , C08K3/08 , C08J5/00 , C01B32/158

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