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1. 发明专利

TW201638674A 圖案形成方法、感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、感光化射線性或感放射線性膜及電子元件的製造方法审中-公开
简体标题：图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组成物、感光化射线性或感放射线性膜及电子组件的制造方法
公开(公告)号：TW201638674A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW105105347
申请日：2016-02-24
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：髙田暁 , TAKADA, AKIRA , 平野修史 , HIRANO, SHUJI , 望月英宏 , MOCHIZUKI, HIDEHIRO , 高橋年哉 , TAKAHASHI, TOSHIYA , 福原敏明 , FUKUHARA, TOSHIAKI
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/033 , C08L25/18 , C08L33/14 , C08F212/14 , C08F220/28 , C08F220/30 , C08F220/32 , H01L21/027
CPC分类号： C08F12/14 , C08F20/02 , G03F7/039 , G03F7/20
摘要：本發明提供一種圖案形成方法，其包括：使用感光化射線性或感放射線性樹脂組成物來形成膜的步驟；對所述膜進行曝光的步驟；以及使用顯影液對曝光後的所述膜進行顯影，而形成正型的圖案的步驟。所述感光化射線性或感放射線性樹脂組成物含有樹脂（P1），所述樹脂（P1）至少含有下述通式（1）所表示的重複單元（a）作為具有藉由酸的作用而分解並產生極性基的基團的重複單元。 [化1]
简体摘要：本发明提供一种图案形成方法，其包括：使用感光化射线性或感放射线性树脂组成物来形成膜的步骤；对所述膜进行曝光的步骤；以及使用显影液对曝光后的所述膜进行显影，而形成正型的图案的步骤。所述感光化射线性或感放射线性树脂组成物含有树脂（P1），所述树脂（P1）至少含有下述通式（1）所表示的重复单元（a）作为具有借由酸的作用而分解并产生极性基的基团的重复单元。 [化1]

2. 发明专利

TW201531803A 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、感光化射線性或感放射線性膜、具有感光化射線性或感放射線性膜的空白罩幕、光罩、圖案形成方法、電子元件的製造方法、電子元件、化合物及化合物的製造方法审中-公开
简体标题：感光化射线性或感放射线性树脂组成物、感光化射线性或感放射线性膜、具有感光化射线性或感放射线性膜的空白罩幕、光罩、图案形成方法、电子组件的制造方法、电子组件、化合物及化合物的制造方法
公开(公告)号：TW201531803A
公开(公告)日：2015-08-16
申请号：TW103144195
申请日：2014-12-18
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：横川夏海 , YOKOKAWA, NATSUMI , 望月英宏 , MOCHIZUKI, HIDEHIRO , 高橋孝太郎 , TAKAHASHI, KOUTAROU , 山口修平 , YAMAGUCHI, SHUHEI
IPC分类号： G03F7/004 , C07C43/178 , G03F1/20 , G03F1/22 , H01L21/027
CPC分类号： C07C43/1788 , C07C41/09 , C07C41/14 , C07C41/22 , C07D239/10 , G03F1/50 , G03F1/76 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/2059 , G03F7/322 , G03F7/325 , C07C43/23
摘要：本發明提供一種於形成超微細圖案(例如，線寬為50nm以下)時，可抑制依存於PEB溫度的圖案的線寬變動、且保存穩定性亦優異的感光化射線性或感放射線性樹脂組成物等。該組成物含有鹼可溶性樹脂、及交聯劑，所述交聯劑由下述通式(I)表示。(式中，R1及R6分別獨立地表示氫原子、或碳數為5以下的烴基。 R2及R5分別獨立地表示烷基、環烷基、芳基、或醯基。R3及R4分別獨立地表示氫原子、或碳數為2以上的有機基。R3及R4可相互鍵結而形成環)
简体摘要：本发明提供一种于形成超微细图案(例如，线宽为50nm以下)时，可抑制依存于PEB温度的图案的线宽变动、且保存稳定性亦优异的感光化射线性或感放射线性树脂组成物等。该组成物含有碱可溶性树脂、及交联剂，所述交联剂由下述通式(I)表示。(式中，R1及R6分别独立地表示氢原子、或碳数为5以下的烃基。 R2及R5分别独立地表示烷基、环烷基、芳基、或酰基。R3及R4分别独立地表示氢原子、或碳数为2以上的有机基。R3及R4可相互键结而形成环)

3. 发明专利

TW201642029A 圖案形成方法、光罩的製造方法及電子元件的製造方法审中-公开
简体标题：图案形成方法、光罩的制造方法及电子组件的制造方法
公开(公告)号：TW201642029A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW105109967
申请日：2016-03-30
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：望月英宏 , MOCHIZUKI, HIDEHIRO , 平野修史 , HIRANO, SHUJI , 髙田暁 , TAKADA, AKIRA
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F1/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F1/76 , G03F7/004 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0758 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/2037 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
摘要：本發明提供一種圖案形成方法，其包括以下步驟：將感光化射線性或感放射線性樹脂組成物塗佈於基板上，形成感光化射線性或感放射線性膜；對所述感光化射線性或感放射線性膜同時照射多條電子束；以及對電子束照射後的所述感光化射線性或感放射線性膜進行顯影。所述組成物含有樹脂（A）、光酸產生劑（B）及酸擴散控制劑（C），且下述式（1）所表示的光酸產生劑（B）與酸擴散控制劑（C）之莫耳比（Qp）為0.3以上。 Qp（莫耳比）=酸擴散控制劑（C）/光酸產生劑（B）　（1）
简体摘要：本发明提供一种图案形成方法，其包括以下步骤：将感光化射线性或感放射线性树脂组成物涂布于基板上，形成感光化射线性或感放射线性膜；对所述感光化射线性或感放射线性膜同时照射多条电子束；以及对电子束照射后的所述感光化射线性或感放射线性膜进行显影。所述组成物含有树脂（A）、光酸产生剂（B）及酸扩散控制剂（C），且下述式（1）所表示的光酸产生剂（B）与酸扩散控制剂（C）之莫耳比（Qp）为0.3以上。 Qp（莫耳比）=酸扩散控制剂（C）/光酸产生剂（B）　（1）

4. 发明专利

TW201616232A 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、感光化射線性或感放射線性膜、具備感光化射線性或感放射線性膜之空白遮罩、光罩、圖案形成方法、電子元件的製造方法及電子元件审中-公开
简体标题：感光化射线性或感放射线性树脂组成物、感光化射线性或感放射线性膜、具备感光化射线性或感放射线性膜之空白遮罩、光罩、图案形成方法、电子组件的制造方法及电子组件
公开(公告)号：TW201616232A
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW104133933
申请日：2015-10-16
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：望月英宏 , MOCHIZUKI, HIDEHIRO , 高橋孝太郎 , TAKAHASHI, KOUTAROU , 川端健志 , KAWABATA, TAKESHI , 京田浩和 , KYOTA, HIROKAZU
IPC分类号： G03F7/004 , G03F1/20 , G03F1/22 , G03F7/038 , G03F7/30 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038
摘要：本發明提供一種感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、感光化射線性或感放射線性膜、具備感光化射線性或感放射線性膜之空白遮罩、光罩、圖案形成方法、電子元件的製造方法及電子元件。本發明的感光化射線性或感放射線性樹脂組成物係含有：在陽離子部包含鹼性基團之鎓鹽化合物（A）；藉由光化射線或放射線的照射而產生酸之鎓鹽化合物（B）；及鹼可溶性樹脂（C），其中，化合物（B）的陽離子部具有至少1個包含氧原子或氮原子之基團。
简体摘要：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物、感光化射线性或感放射线性膜、具备感光化射线性或感放射线性膜之空白遮罩、光罩、图案形成方法、电子组件的制造方法及电子组件。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组成物系含有：在阳离子部包含碱性基团之鎓盐化合物（A）；借由光化射线或放射线的照射而产生酸之鎓盐化合物（B）；及碱可溶性树脂（C），其中，化合物（B）的阳离子部具有至少1个包含氧原子或氮原子之基团。

5. 发明专利

TW201533141A 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、感光化射線性或感放射線性膜、具有感光化射線性或感放射線性膜的空白罩幕、圖案形成方法、電子元件的製造方法、電子元件以及化合物审中-公开
简体标题：感光化射线性或感放射线性树脂组成物、感光化射线性或感放射线性膜、具有感光化射线性或感放射线性膜的空白罩幕、图案形成方法、电子组件的制造方法、电子组件以及化合物
公开(公告)号：TW201533141A
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW104102173
申请日：2015-01-23
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：山口修平 , YAMAGUCHI, SHUHEI , 高橋孝太郎 , TAKAHASHI, KOUTAROU , 土村智孝 , TSUCHIMURA, TOMOTAKA , 横川夏海 , YOKOKAWA, NATSUMI , 望月英宏 , MOCHIZUKI, HIDEHIRO
IPC分类号： C08L57/10 , C08K5/00 , G03F1/20 , G03F1/22 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/30 , H01L21/027
CPC分类号： C07D307/33 , C08F12/22 , C08F12/24 , C08F112/14 , C08F212/14 , C09D125/18 , G03F1/50 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/2004 , G03F7/2059 , G03F7/322 , C08F212/32 , C08F212/08
摘要：一種感光化射線性或感放射線性樹脂組成物，其包括具有極性轉換基的交聯劑、及鹼可溶性樹脂，所述極性轉換基為因鹼性水溶液的作用而分解，並於具有交聯基之側產生羧酸或磺酸的基。
简体摘要：一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其包括具有极性转换基的交联剂、及碱可溶性树脂，所述极性转换基为因碱性水溶液的作用而分解，并于具有交联基之侧产生羧酸或磺酸的基。

6. 发明专利

TWI701510B 抗蝕劑組成物以及使用其的抗蝕劑膜、圖案形成方法及電子裝置的製造方法有权
简体标题：抗蚀剂组成物以及使用其的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子设备的制造方法
公开(公告)号：TWI701510B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW105130936
申请日：2016-09-26
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：高田暁 , TAKADA, AKIRA , 平野修史 , HIRANO, SHUJI , 下重直也 , SHIMOJU, NAOYA , 高橋年哉 , TAKAHASHI, TOSHIYA , 望月英宏 , MOCHIZUKI, HIDEHIRO
IPC分类号： G03F7/075 , G03F7/038 , G03F7/039

7. 发明专利

TWI652546B 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物的製造方法、感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、感光化射線性或感放射線性膜、具備感光化射線性或感放射線性膜的空白罩幕、光罩、圖案形成方法及電子元件的製造方法有权
简体标题：感光化射线性或感放射线性树脂组成物的制造方法、感光化射线性或感放射线性树脂组成物、感光化射线性或感放射线性膜、具备感光化射线性或感放射线性膜的空白罩幕、光罩、图案形成方法及电子组件的制造方法
公开(公告)号：TWI652546B
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：TW104109269
申请日：2015-03-24
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：望月英宏 , MOCHIZUKI, HIDEHIRO , 高橋孝太郎 , TAKAHASHI, KOUTAROU , 土村智孝 , TSUCHIMURA, TOMOTAKA
IPC分类号： G03F7/004 , H01L21/027 , G03F1/20

8. 发明专利

TW201732423A 組成物以及使用其的抗蝕劑膜、圖案形成方法及電子元件的製造方法审中-公开
简体标题：组成物以及使用其的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子组件的制造方法
公开(公告)号：TW201732423A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105129897
申请日：2016-09-14
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：下重直也 , SHIMOJU, NAOYA , 望月英宏 , MOCHIZUKI, HIDEHIRO , 平野修史 , HIRANO, SHUJI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , C07C271/06 , C07C275/26 , C07C275/28 , C07C233/00 , C07D233/56 , C07D235/18 , C07D295/088
CPC分类号： C07C233/62 , C07C233/78 , C07C237/42 , C07C271/20 , C07C271/22 , C07C271/28 , C07C275/26 , C07C327/48 , C07C333/04 , C07C333/08 , C07D233/56 , C07D235/18 , C07D295/088 , C07D295/26 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
摘要：本發明提供一種感光化射線或感放射線性組成物以及使用其的抗蝕劑膜、圖案形成方法及電子元件的製造方法，所述感光化射線或感放射線性組成物含有（A）具有兩個以上的下述通式（1）所表示的結構且不具有酸交聯性基的化合物、以及（B）樹脂，藉由該感光化射線或感放射線性組成物，尤其可於形成超微細（例如線寬50 nm以下）的圖案時，形成感度、解析性、粗糙度性能及圖案剖面形狀全部優異的圖案。 [化1]式中，X表示氧原子或硫原子，R表示氫原子或一價有機基。*表示結合鍵。
简体摘要：本发明提供一种感光化射线或感放射线性组成物以及使用其的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子组件的制造方法，所述感光化射线或感放射线性组成物含有（A）具有两个以上的下述通式（1）所表示的结构且不具有酸交联性基的化合物、以及（B）树脂，借由该感光化射线或感放射线性组成物，尤其可于形成超微细（例如线宽50 nm以下）的图案时，形成感度、解析性、粗糙度性能及图案剖面形状全部优异的图案。 [化1]式中，X表示氧原子或硫原子，R表示氢原子或一价有机基。*表示结合键。

9. 发明专利

TWI693469B 圖案形成方法、光罩的製造方法及電子元件的製造方法有权
简体标题：图案形成方法、光罩的制造方法及电子组件的制造方法
公开(公告)号：TWI693469B
公开(公告)日：2020-05-11
申请号：TW105109967
申请日：2016-03-30
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：望月英宏 , MOCHIZUKI, HIDEHIRO , 平野修史 , HIRANO, SHUJI , 髙田暁 , TAKADA, AKIRA
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F1/20 , H01L21/027

10. 发明专利

TW201640227A 預清洗液、預清洗處理方法及圖案形成方法审中-公开
简体标题：预清洗液、预清洗处理方法及图案形成方法
公开(公告)号：TW201640227A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：TW105114652
申请日：2016-05-12
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：高橋年哉 , TAKAHASHI, TOSHIYA , 豊島安志 , TOYOSHIMA, YASUSHI , 阿部純也 , ABE, JUNYA , 望月英宏 , MOCHIZUKI, HIDEHIRO
IPC分类号： G03F7/16 , B05D3/10 , C23G5/02 , G03F1/82 , H01L21/027
CPC分类号： C11D7/5022 , C11D7/265 , C11D7/34 , G03F1/50 , G03F1/78 , G03F1/82 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/2037 , G03F7/322 , H01L21/027
摘要：本發明提供一種預清洗液、以及使用其的預清洗處理方法及圖案形成方法，藉由該預清洗液，尤其於超微細（例如線寬為50 nm以下）的圖案的形成中，可形成感度、圖案的剖面形狀、解析性、及殘渣缺陷性能優異的圖案，該預清洗液用於將由感光化射線性或感放射線性組成物形成的抗蝕劑膜形成於基板上，並對所述抗蝕劑膜照射光化射線或放射線，藉此於基板上形成圖案的方法，且用以於將所述感光化射線性或感放射線性組成物塗佈在所述基板上前，對所述基板進行預清洗處理，其滿足下述（1）及下述（2）的條件。（1）相對於所述預清洗液的總質量，所述預清洗液含有80質量%以上的有機溶劑。（2）所述有機溶劑為選自由醇類、環狀醚類、二醇醚類、二醇醚乙酸酯類、烴類、酮類、內酯類、及酯類所組成的群組中的一種以上的有機溶劑。
简体摘要：本发明提供一种预清洗液、以及使用其的预清洗处理方法及图案形成方法，借由该预清洗液，尤其于超微细（例如线宽为50 nm以下）的图案的形成中，可形成感度、图案的剖面形状、解析性、及残渣缺陷性能优异的图案，该预清洗液用于将由感光化射线性或感放射线性组成物形成的抗蚀剂膜形成于基板上，并对所述抗蚀剂膜照射光化射线或放射线，借此于基板上形成图案的方法，且用以于将所述感光化射线性或感放射线性组成物涂布在所述基板上前，对所述基板进行预清洗处理，其满足下述（1）及下述（2）的条件。（1）相对于所述预清洗液的总质量，所述预清洗液含有80质量%以上的有机溶剂。（2）所述有机溶剂为选自由醇类、环状醚类、二醇醚类、二醇醚乙酸酯类、烃类、酮类、内酯类、及酯类所组成的群组中的一种以上的有机溶剂。

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