发明专利
TW201616232A 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、感光化射線性或感放射線性膜、具備感光化射線性或感放射線性膜之空白遮罩、光罩、圖案形成方法、電子元件的製造方法及電子元件
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、感光化射線性或感放射線性膜、具備感光化射線性或感放射線性膜之空白遮罩、光罩、圖案形成方法、電子元件的製造方法及電子元件
- 专利标题（英）：Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, active light sensitive or radiation sensitive film or mask blank, photomask, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device
- 专利标题（中）：感光化射线性或感放射线性树脂组成物、感光化射线性或感放射线性膜、具备感光化射线性或感放射线性膜之空白遮罩、光罩、图案形成方法、电子组件的制造方法及电子组件
- 申请号：TW104133933 申请日：2015-10-16
- 公开(公告)号：TW201616232A 公开(公告)日：2016-05-01
- 发明人： 望月英宏 , MOCHIZUKI, HIDEHIRO , 高橋孝太郎 , TAKAHASHI, KOUTAROU , 川端健志 , KAWABATA, TAKESHI , 京田浩和 , KYOTA, HIROKAZU
- 申请人： 富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
- 专利权人： 富士軟片股份有限公司,FUJIFILM CORPORATION
- 当前专利权人： 富士軟片股份有限公司,FUJIFILM CORPORATION
- 代理人： 葉璟宗; 鄭婷文; 詹富閔
- 优先权： 2014-216692 20141023
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F1/20 ; G03F1/22 ; G03F7/038 ; G03F7/30 ; H01L21/027
摘要：
本發明提供一種感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、感光化射線性或感放射線性膜、具備感光化射線性或感放射線性膜之空白遮罩、光罩、圖案形成方法、電子元件的製造方法及電子元件。本發明的感光化射線性或感放射線性樹脂組成物係含有：在陽離子部包含鹼性基團之鎓鹽化合物（A）；藉由光化射線或放射線的照射而產生酸之鎓鹽化合物（B）；及鹼可溶性樹脂（C），其中，化合物（B）的陽離子部具有至少1個包含氧原子或氮原子之基團。
摘要（中）：
本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物、感光化射线性或感放射线性膜、具备感光化射线性或感放射线性膜之空白遮罩、光罩、图案形成方法、电子组件的制造方法及电子组件。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组成物系含有：在阳离子部包含碱性基团之鎓盐化合物（A）；借由光化射线或放射线的照射而产生酸之鎓盐化合物（B）；及碱可溶性树脂（C），其中，化合物（B）的阳离子部具有至少1个包含氧原子或氮原子之基团。
摘要（英）：
This active light sensitive or radiation sensitive resin composition contains (A) an onium salt compound that contains a basic group in the cationic component, (B) an onium salt compound that generates an acid when irradiated with active light or radiation and (C) an alkali-soluble resin. The cationic component of the compound (B) has at least one group that contains an oxygen atom or a nitrogen atom.