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1. 发明专利

TWI665336B 對鋁製構件進行防腐處理的方法有权
简体标题：对铝制构件进行防腐处理的方法
公开(公告)号：TWI665336B
公开(公告)日：2019-07-11
申请号：TW104110866
申请日：2015-04-02
申请人：日商日本派克乃成股份有限公司 , NIHON PARKERIZING CO., LTD.
发明人：馬蒂厄範德卡佩勒 , MATHIEU, VAN DE CAPPELLE , 艾娜克魯格爾曼 , INA, KRUGERMANN , 托馬斯約翰希林斯 , THOMAS, JOHN-SCHILLINGS , 安德烈亞索爾達蒂 , ANDREA, SOLDATI , 安德烈亞斯理查德本德 , ANDREAS, RICHARD BENDER
IPC分类号： C23G1/12 , C23C22/34 , B05D3/10 , B05D7/14 , B05D5/00

2. 发明专利

TWI642831B 一種具有奈米銀材料之水五金裝置及其製作方法有权
简体标题：一种具有奈米银材料之水五金设备及其制作方法
公开(公告)号：TWI642831B
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW106121097
申请日：2017-06-23
申请人：保佳利實業有限公司
发明人：黃家宏 , 賴永成
IPC分类号： E03C1/02 , B05B1/18 , B05D1/18 , B05D1/40 , B05D3/10 , B05D7/24 , B05D5/00 , C02F1/50 , A61L2/23 , B82Y30/00

3. 发明专利

TWI624357B 熔合金屬奈米結構網絡、具有還原劑之熔合溶液及形成金屬網絡的方法有权
简体标题：熔合金属奈米结构网络、具有还原剂之熔合溶液及形成金属网络的方法
公开(公告)号：TWI624357B
公开(公告)日：2018-05-21
申请号：TW103106126
申请日：2014-02-24
申请人： C3奈米有限公司 , C3NANO INC.
发明人：維卡艾杰 , VIRKAR, AJAY , 楊希強 , YANG, XIQIANG , 李英熙 , LI, YING-SYI , 麥進丹尼斯 , MCKEAN, DENNIS , 雷謬斯梅奧本C , LEMIEUX, MELBURNE C.
IPC分类号： B32B15/02 , B32B5/02 , H05K1/02 , B05D1/36 , B05D3/06 , B05D3/10 , H05K1/09 , H05K3/02 , H03K17/96

4. 发明专利

TW201729910A 基板處理方法、程式及電腦記憶媒體审中-公开
简体标题：基板处理方法、进程及电脑记忆媒体
公开(公告)号：TW201729910A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW105133582
申请日：2016-10-18
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：村松誠 , MURAMATSU, MAKOTO , 冨田忠利 , TOMITA, TADATOSHI , 源島久志 , GENJIMA, HISASHI , 楊元 , YOU, GEN , 北野高広 , KITANO, TAKAHIRO
IPC分类号： B05D3/10 , H01L21/027
CPC分类号： B05D3/10 , H01L21/027
摘要：在使用了包含親水性聚合物與疏水性聚合物之嵌段共聚合體的基板處理中，在基板上適切地形成預定圖案。一種使用包含親水性聚合物與疏水性聚合物之嵌段共聚合體來加以處理晶圓的方法，係具有：有機膜形成工程(工程S3)，在形成有預定圖案的晶圓上，形成具有極性的有機膜；氮化處理工程(工程S4)，對有機膜進行氮化處理；嵌段共聚合體塗佈工程(工程S5)，對氮化處理工程後的晶圓上塗佈嵌段共聚合體；聚合物分離工程(工程S6)；使嵌段共聚合體相分離成親水性聚合物與疏水性聚合物；及聚合物去除工程(工程S8)，從相分離的嵌段共聚合體，選擇性地去除親水性聚合物。
简体摘要：在使用了包含亲水性聚合物与疏水性聚合物之嵌段共聚合体的基板处理中，在基板上适切地形成预定图案。一种使用包含亲水性聚合物与疏水性聚合物之嵌段共聚合体来加以处理晶圆的方法，系具有：有机膜形成工程(工程S3)，在形成有预定图案的晶圆上，形成具有极性的有机膜；氮化处理工程(工程S4)，对有机膜进行氮化处理；嵌段共聚合体涂布工程(工程S5)，对氮化处理工程后的晶圆上涂布嵌段共聚合体；聚合物分离工程(工程S6)；使嵌段共聚合体相分离成亲水性聚合物与疏水性聚合物；及聚合物去除工程(工程S8)，从相分离的嵌段共聚合体，选择性地去除亲水性聚合物。

5. 发明专利

TWI592468B 選擇性移除灰化旋塗玻璃之方法有权
简体标题：选择性移除灰化旋涂玻璃之方法
公开(公告)号：TWI592468B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW102108606
申请日：2013-03-12
申请人：恩特葛瑞斯股份有限公司 , ENTEGRIS, INC. , 恩特葛瑞斯臺灣有限責任公司 , ENTEGRIS TAIWAN, LLC
发明人：吳幸臻 , WU, HSING CHEN , 涂勝宏 , TU, SHENG HUNG
IPC分类号： C09K13/00 , H01L21/311 , B05D3/10
CPC分类号： C11D11/0047 , C09K13/08 , C11D3/0073 , C11D3/046 , C11D3/43 , C11D7/08 , C11D7/10 , C11D7/28 , H01L21/02071 , H01L21/31111

6. 发明专利

TWI573597B 緩釋型奈米銀改質表面及其製備方法有权
简体标题：缓释型奈米银改质表面及其制备方法
公开(公告)号：TWI573597B
公开(公告)日：2017-03-11
申请号：TW105115149
申请日：2016-05-17
申请人：國立高雄大學 , NATIONAL UNIVERSITY OF KAOHSIUNG , 仿生生醫有限公司 , BIOMIMEDTECH CO., LTD.
发明人：鍾宜璋 , CHUNG, YI CHANG , 邱逸閎 , CHIU, YI HONG , 李旻宸 , LI, MIN CHEN
IPC分类号： A61L2/232 , B05D1/28 , B05D3/10 , C01G5/00

7. 发明专利

TW201702326A 防污處理組成物、處理裝置、處理方法及處理物品审中-公开
简体标题：防污处理组成物、处理设备、处理方法及处理物品
公开(公告)号：TW201702326A
公开(公告)日：2017-01-16
申请号：TW105111026
申请日：2016-04-08
申请人：大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD. , 東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：伊丹康雄 , ITAMI, YASUO , 布瀬暁志 , FUSE, TAKASHI , 乙骨円華 , OKKOTSU, MADOKA , 木下秀俊 , KINOSHITA, HIDETOSHI , 深澤辰哉 , FUKASAWA, TATSUYA
IPC分类号： C09D127/18 , C09D5/16 , B05D3/10 , B05D3/14 , B05D5/00
CPC分类号： C09D4/00 , C03C17/42 , C03C2217/281 , C03C2217/76 , C03C2218/151 , C03C2218/153 , C09K3/18
摘要：本發明之課題在於提供一種可形成具有更高的耐鹼性之層之嶄新的表面處理劑、表面處理方法及表面處理裝置。本發明之氮化表面用表面處理劑，其係含有：於分子末端具有碳-碳不飽和鍵作為-Y-A所示之基之含氟化合物，於式中，Y表示單鍵、氧原子或2價的有機基，A表示-CH=CH2或-C≡CH。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种可形成具有更高的耐碱性之层之崭新的表面处理剂、表面处理方法及表面处理设备。本发明之氮化表面用表面处理剂，其系含有：于分子末端具有碳-碳不饱和键作为-Y-A所示之基之含氟化合物，于式中，Y表示单键、氧原子或2价的有机基，A表示-CH=CH2或-C≡CH。

8. 发明专利

TW201639801A 加壓式燈退火裝置、強介電體膜及其製造方法审中-公开
简体标题：加压式灯退火设备、强介电体膜及其制造方法
公开(公告)号：TW201639801A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：TW104141732
申请日：2015-12-11
申请人：友技科股份有限公司 , YOUTEC CO., LTD.
发明人：木島健 , KIJIMA, TAKESHI , 濱田泰彰 , HAMADA, YASUAKI , 後山朋之 , USHIROYAMA, TOMOYUKI
IPC分类号： C04B35/01 , C04B35/491 , H01B3/12 , H01B17/62 , B05D1/40 , B05D3/10 , B05C9/14
CPC分类号： C01G25/00 , H01L21/26 , H01L41/187 , H01L41/318 , H01L41/319 , H01L41/43
摘要：本發明之課題在於提供一種以鈣鈦礦構造製作強介電體膜用之方法，其係非鉛的材料，於以往的方法中無法製作具有鈣鈦礦構造之膜者。本發明之一態樣係一種強介電體膜，其係由鈣鈦礦構造所成之ABO3膜，A係由鹼金屬、鹼土類金屬、Sc以外的3族元素、Ag及Bi之群所選出的至少1個元素，B係由Mg、Sc、4族~6族元素、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、B、Al、Ga、Si、Ge、Sn、P、As、Sb及S之群所選出的至少1個元素，前述強介電體膜係藉由溶膠凝膠法形成，藉由1MPa以上20MPa以下之壓力下的燒成而結晶化。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种以钙钛矿构造制作强介电体膜用之方法，其系非铅的材料，于以往的方法中无法制作具有钙钛矿构造之膜者。本发明之一态样系一种强介电体膜，其系由钙钛矿构造所成之ABO3膜，A系由碱金属、碱土类金属、Sc以外的3族元素、Ag及Bi之群所选出的至少1个元素，B系由Mg、Sc、4族~6族元素、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、B、Al、Ga、Si、Ge、Sn、P、As、Sb及S之群所选出的至少1个元素，前述强介电体膜系借由溶胶凝胶法形成，借由1MPa以上20MPa以下之压力下的烧成而结晶化。

9. 发明专利

TWI547221B 印刷電路板及其製備方法有权
简体标题：印刷电路板及其制备方法
公开(公告)号：TWI547221B
公开(公告)日：2016-08-21
申请号：TW100106073
申请日：2011-02-23
申请人：辛柏朗有限公司 , SEMBLANT LIMITED
发明人：馮韋爾納提姆帝 , VON WERNE, TIMOTHY , 史密斯羅尼艾德華 , SMITH, RODNEY EDWARD , 亨佛瑞馬克羅伯森 , HUMPHRIES, MARK ROBSON
IPC分类号： H05K3/28 , C08F2/52 , B05D3/10
CPC分类号： C08J7/18 , H05K3/282 , H05K3/284 , H05K2201/09872

10. 发明专利

TW201536536A 鞋部件塗膠工序預處理方法及其系統审中-公开
简体标题：鞋部件涂胶工序预处理方法及其系统
公开(公告)号：TW201536536A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW103110622
申请日：2014-03-21
申请人：歐利速亞洲有限公司 , ORISOL ASIA LTD.
发明人：陳均遠 , CHEN, CHUN YUAN , 林怡伶 , LIN, I LIN
IPC分类号： B29D35/00 , B05D3/06 , B05D3/10
摘要：本發明提供一種鞋部件塗膠工序預處理方法及其系統，其主要是利用UV照射程序取代習知在鞋部件基材塗佈底漆之塗膠工序預處理，通過提供一種先UV-C照射後清潔之塗膠工序預處理，達到在未大幅增加設備成本之前提下，確實且有效提升黏固膠與鞋部件基材結合強度；另，通過一輸送裝置輸送鞋部件基材依序通過進行UV-C照射、臭氧激活以及進行清潔的反應室，並藉重複設置前述反應室達到提高鞋部件基材表面的激活程度，提升後續塗膠工序中黏固膠與鞋部件基材的膠結品質。
简体摘要：本发明提供一种鞋部件涂胶工序预处理方法及其系统，其主要是利用UV照射进程取代习知在鞋部件基材涂布底漆之涂胶工序预处理，通过提供一种先UV-C照射后清洁之涂胶工序预处理，达到在未大幅增加设备成本之前提下，确实且有效提升黏固胶与鞋部件基材结合强度；另，通过一输送设备输送鞋部件基材依序通过进行UV-C照射、臭氧激活以及进行清洁的反应室，并藉重复设置前述反应室达到提高鞋部件基材表面的激活程度，提升后续涂胶工序中黏固胶与鞋部件基材的胶结品质。

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