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1. 发明专利

TWI438818B 電子束微影方法、電子束微影伺服控制方法及系統有权
简体标题：电子束微影方法、电子束微影伺服控制方法及系统
公开(公告)号：TWI438818B
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：TW100105717
申请日：2011-02-22
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：顏家鈺 , YEN, JIA YUSH , 蔡坤諭 , TSAI, KUEN YU , 陳聯聖 , CHEN, LIEN SHENG , 邱陳龑 , CHIU, PABLO , 蔡幸芳 , TSAI, HSIN FANG
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/304 , G03F7/20

2. 发明专利

TWI575392B 參數化模型的建立方法及系統有权
简体标题：参数化模型的创建方法及系统
公开(公告)号：TWI575392B
公开(公告)日：2017-03-21
申请号：TW100125578
申请日：2011-07-20
申请人：台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. , 國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：蔡坤諭 , TSAI, KUEN YU , 劉俊宏 , LIU, CHUN HUNG
IPC分类号： G06F17/50 , G06F17/10

3. 发明专利

TWI410757B 電子束曝光裝置、電子束產生裝置及曝光方法有权
简体标题：电子束曝光设备、电子束产生设备及曝光方法
公开(公告)号：TWI410757B
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：TW099119891
申请日：2010-06-18
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：郭宇軒 , KUO, YU HSUAN , 蘇明信 , SU, MING SHING , 盧奕璋 , LU, YI CHANG , 蔡坤諭 , TSAI, KUEN YU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027

4. 发明专利

TW201305836A 參數化模型的建立方法及系統审中-公开
简体标题：参数化模型的创建方法及系统
公开(公告)号：TW201305836A
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW100125578
申请日：2011-07-20
申请人：台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. , 國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：蔡坤諭 , TSAI, KUEN YU , 劉俊宏 , LIU, CHUN HUNG
IPC分类号： G06F17/50 , G06F17/10
摘要：一種參數化模型的建立方法，適用於一半導體製程。根據一佈局資料以及上述半導體製程之一非參數化模型，產生一第一中間結果。根據上述第一中間結果，得到一第一響應。由複數數學函數中選擇一特定數學函數，並根據上述特定數學函數得到一參數化模型。根據上述佈局資料以及上述參數化模型，產生一第二中間結果。根據上述第二中間結果，得到一第二響應。根據上述第一響應以及上述第二響應，判斷上述參數化模型是否為一最佳模型。
简体摘要：一种参数化模型的创建方法，适用于一半导体制程。根据一布局数据以及上述半导体制程之一非参数化模型，产生一第一中间结果。根据上述第一中间结果，得到一第一响应。由复数数学函数中选择一特定数学函数，并根据上述特定数学函数得到一参数化模型。根据上述布局数据以及上述参数化模型，产生一第二中间结果。根据上述第二中间结果，得到一第二响应。根据上述第一响应以及上述第二响应，判断上述参数化模型是否为一最佳模型。

5. 发明专利

TW201305738A 基於圖案製作真確度之圖案製作系統設計方法與裝置审中-公开
简体标题：基于图案制作真确度之图案制作系统设计方法与设备
公开(公告)号：TW201305738A
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW100126025
申请日：2011-07-22
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：蔡坤諭 , TSAI, KUEN YU , 陳勝勇 , CHEN, SHENG YUNG , 伍海濤 , NG, HOI-TOU , 馬學億 , MA, SHIAU YI
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J2237/31761 , H01J2237/31769
摘要：一種直接考慮圖案製作真確度之圖案製作系統的設計方法。依據一組設定參數模擬目標圖案的製作結果以得到一模擬圖案。藉由比較目標圖案與模擬圖案，以計算出一圖案製作精確度，並依據圖案製作精確度調整圖案製作系統的設定參數，以最佳化圖案製作系統之設計參數。
简体摘要：一种直接考虑图案制作真确度之图案制作系统的设计方法。依据一组设置参数仿真目标图案的制作结果以得到一仿真图案。借由比较目标图案与仿真图案，以计算出一图案制作精确度，并依据图案制作精确度调整图案制作系统的设置参数，以最优化图案制作系统之设计参数。

6. 发明专利

TWI494616B 多層反射鏡結構有权
简体标题：多层反射镜结构
公开(公告)号：TWI494616B
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103103092
申请日：2014-01-28
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：李佳翰 , LI, JIA HAN , 李彥旻 , LEE, YEN MIN , 蔡坤諭 , TSAI, KUEN YU
IPC分类号： G02B5/08
CPC分类号： G03F7/70316 , G02B5/0875 , G02B5/0891 , G03F7/70958 , G21K1/062

7. 发明专利

TWI439822B 基於圖案製作真確度之圖案製作系統設計方法與裝置有权
简体标题：基于图案制作真确度之图案制作系统设计方法与设备
公开(公告)号：TWI439822B
公开(公告)日：2014-06-01
申请号：TW100126025
申请日：2011-07-22
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：蔡坤諭 , TSAI, KUEN YU , 陳勝勇 , CHEN, SHENG YUNG , 伍海濤 , NG, HOI-TOU , 馬學億 , MA, SHIAU YI
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J2237/31761 , H01J2237/31769

8. 发明专利

TWI436174B 粒子束微影程序鄰近效應之補償方法有权
简体标题：粒子束微影进程邻近效应之补偿方法
公开(公告)号：TWI436174B
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：TW100123715
申请日：2011-07-05
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：蔡坤諭 , TSAI, KUEN YU , 劉俊宏 , LIU, CHUN HUNG , 黃飛歷 , NG, CHOOI WAN , 田沛霖 , TIEN, PEI LIN
IPC分类号： G03F7/20

9. 发明专利

TW201200968A 電子束曝光裝置、電子束產生裝置及曝光方法审中-公开
简体标题：电子束曝光设备、电子束产生设备及曝光方法
公开(公告)号：TW201200968A
公开(公告)日：2012-01-01
申请号：TW099119891
申请日：2010-06-18
申请人：國立臺灣大學
发明人：郭宇軒 , 蘇明信 , 盧奕璋 , 蔡坤諭
IPC分类号： G03F , H01L
摘要：本發明有關於一種電子束產生裝置，主要包括有複數個電子束元件，其中各個電子束元件由複數個電子束產生單元所組成。各個電子束產生單元包括有一電子束源及一電子束光學系統，可用以產生電子束並改變電子束的偏折方向。本發明主要是透過半導體製程的方式製作電子束元件，不僅可以較低的成本大量製作電子束元件，同時亦可提高單位面積上之電子束產生單元的數量，有利於縮短電子束產生裝置對晶圓進行曝光所需要的時間。
简体摘要：本发明有关于一种电子束产生设备，主要包括有复数个电子束组件，其中各个电子束组件由复数个电子束产生单元所组成。各个电子束产生单元包括有一电子束源及一电子束光学系统，可用以产生电子束并改变电子束的偏折方向。本发明主要是透过半导体制程的方式制作电子束组件，不仅可以较低的成本大量制作电子束组件，同时亦可提高单位面积上之电子束产生单元的数量，有利于缩短电子束产生设备对晶圆进行曝光所需要的时间。

10. 发明专利

TW201236047A 電子束微影方法、電子束微影伺服控制方法及系統 ELECTRON-BE LITHOGRAPHIC METHOD, SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING ELECTRON-BEAM SERVER 审中-公开
简体标题：电子束微影方法、电子束微影伺服控制方法及系统 ELECTRON-BE LITHOGRAPHIC METHOD, SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING ELECTRON-BEAM SERVER
公开(公告)号：TW201236047A
公开(公告)日：2012-09-01
申请号：TW100105717
申请日：2011-02-22
申请人：國立臺灣大學
发明人：顏家鈺 , 蔡坤諭 , 陳聯聖 , 邱陳龑 , 蔡幸芳
IPC分类号： H01J , G03F
摘要：一種電子束微影方法、電子束微影伺服控制方法及系統。依該電子束微影方法，係首先設定各子圖形的曝寫位置並驅動定位平台，將設置於其上的基材移動至設定的曝寫位置，接著量測基材的實際位置以判斷其與該設定的曝寫位置之誤差是否小於設定值。當誤差大於或等於設定值時調整定位平台的位置以補償該誤差，接著再次量測並判斷誤差是否小於設定值；當誤差小於設定值時，令電子束將對應該設定的曝寫位置之子圖形曝寫至基材上，接著更新該設定的曝寫位置以驅動定位平台，將基材移動至該設定的曝寫位置，直到曝寫至基材上的複數個子圖形接合成一完整的圖形為止。據此而達成以電子束進行大面積、高解析度及連續圖形之曝寫。
简体摘要：一种电子束微影方法、电子束微影伺服控制方法及系统。依该电子束微影方法，系首先设置各子图形的曝写位置并驱动定位平台，将设置于其上的基材移动至设置的曝写位置，接着量测基材的实际位置以判断其与该设置的曝写位置之误差是否小于设置值。当误差大于或等于设置值时调整定位平台的位置以补偿该误差，接着再次量测并判断误差是否小于设置值；当误差小于设置值时，令电子束将对应该设置的曝写位置之子图形曝写至基材上，接着更新该设置的曝写位置以驱动定位平台，将基材移动至该设置的曝写位置，直到曝写至基材上的复数个子图形接合成一完整的图形为止。据此而达成以电子束进行大面积、高分辨率及连续图形之曝写。

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