专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

2. 发明专利

TW201200968A 電子束曝光裝置、電子束產生裝置及曝光方法审中-公开
简体标题：电子束曝光设备、电子束产生设备及曝光方法
公开(公告)号：TW201200968A
公开(公告)日：2012-01-01
申请号：TW099119891
申请日：2010-06-18
申请人：國立臺灣大學
发明人：郭宇軒 , 蘇明信 , 盧奕璋 , 蔡坤諭
IPC分类号： G03F , H01L
摘要：本發明有關於一種電子束產生裝置，主要包括有複數個電子束元件，其中各個電子束元件由複數個電子束產生單元所組成。各個電子束產生單元包括有一電子束源及一電子束光學系統，可用以產生電子束並改變電子束的偏折方向。本發明主要是透過半導體製程的方式製作電子束元件，不僅可以較低的成本大量製作電子束元件，同時亦可提高單位面積上之電子束產生單元的數量，有利於縮短電子束產生裝置對晶圓進行曝光所需要的時間。
简体摘要：本发明有关于一种电子束产生设备，主要包括有复数个电子束组件，其中各个电子束组件由复数个电子束产生单元所组成。各个电子束产生单元包括有一电子束源及一电子束光学系统，可用以产生电子束并改变电子束的偏折方向。本发明主要是透过半导体制程的方式制作电子束组件，不仅可以较低的成本大量制作电子束组件，同时亦可提高单位面积上之电子束产生单元的数量，有利于缩短电子束产生设备对晶圆进行曝光所需要的时间。

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式