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1. 发明专利

TW201423285A 用於投影曝光設備以產生合用的輸出光束的ＥＵＶ光源审中-公开
简体标题：用于投影曝光设备以产生合用的输出光束的ＥＵＶ光源
公开(公告)号：TW201423285A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102139421
申请日：2013-10-30
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：翔杰印哥 , 毛爾曼弗瑞德 , MAUL, MANFRED , 漢納克斯克理斯多弗 , HENNERKES, CHRISTOPH , 勞夫喬哈尼斯 , RUOFF, JOHANNES , 克雷默爾丹尼爾
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H05G2/001 , G02B27/286 , G03F7/70033 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70308 , G03F7/70566 , G21K1/06 , G21K1/062 , G21K1/16 , H01J35/00 , H05H7/04
摘要：一種針對用於投影微影製程的一投影曝光設備(1)產生EUV照射光線的一合用輸出光束(3)的EUV光源(2)。該光源(2)具有一用於產生一EUV原始輸出光束的一EUV產生裝置(2c)。該後者為圓形極化。為了設定該合用輸出光束(3)的該極化並針對於該極化方向之目的，一極化設定裝置(32；39)對於該原始輸出光束具有一線性極化效果。此造成一EUV光源，其可提供一改良的輸出光束來用於一解析度最佳化的照射。
简体摘要：一种针对用于投影微影制程的一投影曝光设备(1)产生EUV照射光线的一合用输出光束(3)的EUV光源(2)。该光源(2)具有一用于产生一EUV原始输出光束的一EUV产生设备(2c)。该后者为圆形极化。为了设置该合用输出光束(3)的该极化并针对于该极化方向之目的，一极化设置设备(32；39)对于该原始输出光束具有一线性极化效果。此造成一EUV光源，其可提供一改良的输出光束来用于一分辨率最优化的照射。

2. 发明专利

TWI528103B 用於ＥＵＶ微影之光罩與ＥＵＶ微影系統有权
简体标题：用于ＥＵＶ微影之光罩与ＥＵＶ微影系统
公开(公告)号：TWI528103B
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW100120847
申请日：2011-06-15
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：勞夫喬哈尼斯 , RUOFF, JOHANNES , 克瑞墨丹尼爾
IPC分类号： G03F1/22
CPC分类号： G03F7/70141 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/22 , G03F1/24

3. 发明专利

TWI435188B 操作具有校正由光罩之精密效應所引起之成像像差的功能的微影投射曝光裝置的方法有权
简体标题：操作具有校正由光罩之精密效应所引起之成像像差的功能的微影投射曝光设备的方法
公开(公告)号：TWI435188B
公开(公告)日：2014-04-21
申请号：TW100109849
申请日：2011-03-23
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：勞夫喬哈尼斯 , RUOFF, JOHANNES
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70283 , G03F7/705 , G03F7/70566 , G03F7/706

4. 发明专利

TWI627509B 用於投影曝光設備以產生合用的輸出光束的ＥＵＶ光源有权
简体标题：用于投影曝光设备以产生合用的输出光束的ＥＵＶ光源
公开(公告)号：TWI627509B
公开(公告)日：2018-06-21
申请号：TW102139421
申请日：2013-10-30
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：翔杰印哥 , 毛爾曼弗瑞德 , MAUL, MANFRED , 漢納克斯克理斯多弗 , HENNERKES, CHRISTOPH , 勞夫喬哈尼斯 , RUOFF, JOHANNES , 克雷默爾丹尼爾
IPC分类号： G03F7/20

5. 发明专利

TWI574115B 用於投射微影之照射光學單元有权
简体标题：用于投射微影之照射光学单元
公开(公告)号：TWI574115B
公开(公告)日：2017-03-11
申请号：TW101124746
申请日：2012-07-10
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：漢納克斯克理斯多弗 , HENNERKES, CHRISTOPH , 翔杰印哥 , SAENGER, INGO , 季摩曼約格 , ZIMMERMANN, JOERG , 勞夫喬哈尼斯 , RUOFF, JOHANNES , 米耶禾馬丁 , MEIER, MARTIN , 斯克勒山納法蘭克 , SCHLESENER, FRANK
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B7/1815 , G02B17/06 , G02B26/0816 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/70891

6. 发明专利

TW201333635A ＥＵＶ反射式成像投影光學單元审中-公开
简体标题：ＥＵＶ反射式成像投影光学单元
公开(公告)号：TW201333635A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101135497
申请日：2012-09-27
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：勞夫喬哈尼斯 , RUOFF, JOHANNES , 斯奇凱坦茲湯瑪士 , SCHICKETANZ, THOMAS
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/06
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/06 , G02B17/0663 , G03F7/7015 , G03F7/70566
摘要：本發明揭示一種反射式成像光學單元(7)，其具有至少四個反射鏡(M1至M4)，該等反射鏡將物體平面(5)中的物體場(4)成像於影像平面(9)中的影像場(8)中。藉由中央物體場點的主光線(16)在該等反射鏡之一者(M1)處反射期間的傳播，指定該光學單元的第一主光線平面(yz)。藉由中央物體場點的主光線(16)在其他反射鏡之一者(M3、M4)處反射期間的傳播，指定該光學單元的第二主光線平面(xz)。這兩個主光線平面(yz、xz)包括不同於0的角度。在一替代或額外方面，在考慮經由影像場(8)的情況下，該成像光學單元(7)具有最大衰減率(D)為10%或具有針對分別所考慮照射角之成像光之正切極化有所偏好的衰減率。這兩個方面的結果是減少成像光在成像光學單元反射鏡處反射期間惱人的極化影響的成像光學單元。
简体摘要：本发明揭示一种反射式成像光学单元(7)，其具有至少四个反射镜(M1至M4)，该等反射镜将物体平面(5)中的物体场(4)成像于影像平面(9)中的影像场(8)中。借由中央物体场点的主光线(16)在该等反射镜之一者(M1)处反射期间的传播，指定该光学单元的第一主光线平面(yz)。借由中央物体场点的主光线(16)在其他反射镜之一者(M3、M4)处反射期间的传播，指定该光学单元的第二主光线平面(xz)。这两个主光线平面(yz、xz)包括不同于0的角度。在一替代或额外方面，在考虑经由影像场(8)的情况下，该成像光学单元(7)具有最大衰减率(D)为10%或具有针对分别所考虑照射角之成像光之正切极化有所偏好的衰减率。这两个方面的结果是减少成像光在成像光学单元反射镜处反射期间恼人的极化影响的成像光学单元。

7. 发明专利

TWI539241B 反射鏡有权
简体标题：反射镜
公开(公告)号：TWI539241B
公开(公告)日：2016-06-21
申请号：TW100134521
申请日：2011-09-26
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：勞夫喬哈尼斯 , RUOFF, JOHANNES , 費得曼漢可 , FELDMANN, HEIKO
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B5/0891 , G03F7/70066 , G03F7/70225 , G03F7/70283

8. 发明专利

TW201321902A 用於投射微影之照射光學單元审中-公开
简体标题：用于投射微影之照射光学单元
公开(公告)号：TW201321902A
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW101124746
申请日：2012-07-10
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：漢納克斯克理斯多弗 , HENNERKES, CHRISTOPH , 翔杰印哥 , SAENGER, INGO , 季摩曼約格 , ZIMMERMANN, JOERG , 勞夫喬哈尼斯 , RUOFF, JOHANNES , 米耶禾馬丁 , MEIER, MARTIN , 斯克勒山納法蘭克 , SCHLESENER, FRANK
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B7/1815 , G02B17/06 , G02B26/0816 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/70891
摘要：本發明揭示一種用於投射微影之照射光學單元，其具有使照射光(3)反射及極化之一第一極化反射鏡裝置(16)。布置在該極化反射鏡裝置(16)下游之一第二反射鏡裝置(22)適用於一照射光束(25)之反射。至少一個驅動裝置(21；27)在操作上連接至該兩個反射鏡裝置(16；22)之至少一者。該兩個反射鏡裝置(16；22)借助該驅動裝置(21；27)可在以下二者之間相對於彼此位移：一第一相對位置，其在該第二反射鏡裝置(22)處反射後，導致該照射光束(25)之一第一光束幾何形狀；及一第二相對位置，其在該第二反射鏡裝置(22)處反射後，導致該照射光束(25)之一第二光束幾何形狀，該第二光束幾何形狀與該第一光束幾何形狀不同。此造成靈活地預定義不同的照射幾何形狀，尤其是具有旋轉對稱照射的不同照射幾何形狀。
简体摘要：本发明揭示一种用于投射微影之照射光学单元，其具有使照射光(3)反射及极化之一第一极化反射镜设备(16)。布置在该极化反射镜设备(16)下游之一第二反射镜设备(22)适用于一照射光束(25)之反射。至少一个驱动设备(21；27)在操作上连接至该两个反射镜设备(16；22)之至少一者。该两个反射镜设备(16；22)借助该驱动设备(21；27)可在以下二者之间相对于彼此位移：一第一相对位置，其在该第二反射镜设备(22)处反射后，导致该照射光束(25)之一第一光束几何形状；及一第二相对位置，其在该第二反射镜设备(22)处反射后，导致该照射光束(25)之一第二光束几何形状，该第二光束几何形状与该第一光束几何形状不同。此造成灵活地预定义不同的照射几何形状，尤其是具有旋转对称照射的不同照射几何形状。

9. 发明专利

TWI592770B ＥＵＶ投影微影的成像光學單元有权
简体标题：ＥＵＶ投影微影的成像光学单元
公开(公告)号：TWI592770B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW104138464
申请日：2015-11-20
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：勞夫喬哈尼斯 , RUOFF, JOHANNES , 哈普喬瑟夫 , RAPP, JOSEF
IPC分类号： G03F7/20 , G02B13/22 , G02B17/06
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/005 , G02B5/0891 , G02B13/22 , G02B17/0652 , G02B17/0663 , G02B26/02 , G03F7/70091 , G03F7/701 , G03F7/7025 , G21K1/02 , G21K1/067

10. 发明专利

TWI592700B 微影投影曝光裝置的光學系統與微影曝光方法有权
简体标题：微影投影曝光设备的光学系统与微影曝光方法
公开(公告)号：TWI592700B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW101124747
申请日：2012-07-10
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：聖傑印哥 , 季摩曼約格 , 勞夫喬哈尼斯 , RUOFF, JOHANNES , 米耶禾馬丁 , MEIER, MARTIN , 斯克勒山納法蘭克 , SCHLESENER, FRANK , 漢納克斯克理斯多弗 , HENNERKES, CHRISTOPH
IPC分类号： G02B27/28 , G02B27/10 , G02B5/09 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B27/283 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/70566

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