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1. 发明专利

TWI691798B ＥＵＶ投影微影的照明光學單元有权
简体标题：ＥＵＶ投影微影的照明光学单元
公开(公告)号：TWI691798B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：TW104133854
申请日：2015-10-15
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：安德烈斯馬丁 , ENDRES, MARTIN , 穆勒勞夫 , 貝林史汀 , BIELING, STIG
IPC分类号： G03F7/20

2. 发明专利

TWI557515B 微影投射曝光裝置之照射系統有权
简体标题：微影投射曝光设备之照射系统
公开(公告)号：TWI557515B
公开(公告)日：2016-11-11
申请号：TW100149139
申请日：2011-12-28
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：派崔麥可 , PATRA, MICHAEL , 貝林史汀 , BIELING, STIG , 帝俊瑟馬可斯 , DEGUENTHER, MARKUS , 斯克勒山納法蘭克 , SCHLESENER, FRANK , 斯克瓦伯馬可斯 , SCHWAB, MARKUS
IPC分类号： G03F7/20 , G03B27/72
CPC分类号： G03F7/70158 , G03F7/70058

3. 发明专利

TWI509365B 用於極紫外線微影的曝照光學組件有权
简体标题：用于极紫外线微影的曝照光学组件
公开(公告)号：TWI509365B
公开(公告)日：2015-11-21
申请号：TW099143173
申请日：2010-12-10
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：安德烈斯馬丁 , ENDRES, MARTIN , 多爾賽巴斯汀 , DOERN, SEBASTIAN , 貝林史汀 , BIELING, STIG , 克區馬克 , KIRCH, MARC
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B5/09 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/702

4. 发明专利

TWI397786B 用於投影微影之照明光學單元有权
简体标题：用于投影微影之照明光学单元
公开(公告)号：TWI397786B
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW101104260
申请日：2012-02-09
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：威格勒喬漢尼斯 , WANGLER, JOHANNES , 帝俊瑟馬可斯 , 貝林史汀 , BIELING, STIG
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058

5. 发明专利

TW201616245A 用於投影曝光系統的照明光學單元审中-公开
简体标题：用于投影曝光系统的照明光学单元
公开(公告)号：TW201616245A
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW104133165
申请日：2015-10-08
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：派崔麥可 , PATRA, MICHAEL , 貝林史汀 , BIELING, STIG , 狄君特馬庫斯 , 穆勒勞夫
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/702 , G03F7/70208 , G03F7/70991
摘要：本發明揭示一種用於一投影曝光系統(1)的一照明光學單元(17i)，其包含複數個輻射反射組件，其中所有該等輻射反射組件都經過配置，如此含照明輻射(5)的一光束(10i)會在這些組件上以相同方式偏轉。
简体摘要：本发明揭示一种用于一投影曝光系统(1)的一照明光学单元(17i)，其包含复数个辐射反射组件，其中所有该等辐射反射组件都经过配置，如此含照明辐射(5)的一光束(10i)会在这些组件上以相同方式偏转。

6. 发明专利

TW201610607A 用於投影曝光裝置的照明光學總成审中-公开
简体标题：用于投影曝光设备的照明光学总成
公开(公告)号：TW201610607A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104128172
申请日：2015-08-27
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：安德烈斯馬丁 , ENDRES, MARTIN , 貝林史汀 , BIELING, STIG
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B26/0833 , G02B26/101 , G03F7/70116 , G03F7/702
摘要：本發明說明揭示一種用於投影曝光裝置的一照明光學總成(11)，包含具有多個第一琢面(21i)的一第一琢面元件(6)，其在每一案例中由多個可置換獨立反射鏡(31)所形成，以及包含具有多個第二琢面(25i)的一第二琢面元件(7)。在此該第一琢面(21i)的該等獨立反射鏡(31)之該等置換位置經過選擇，如此在該中間焦點(ZF)內一照明輻射(3)的一預定亮度分佈(36)之案例中，該第二琢面元件(7)的該琢面(25i)之該區域內該照明輻射(3)具有一亮度分佈(37)，含一最大至多等於一預定最大亮度(I*)，或大於該亮度分佈(37)的一平均值至多一預定因數或絕對值。
简体摘要：本发明说明揭示一种用于投影曝光设备的一照明光学总成(11)，包含具有多个第一琢面(21i)的一第一琢面组件(6)，其在每一案例中由多个可置换独立反射镜(31)所形成，以及包含具有多个第二琢面(25i)的一第二琢面组件(7)。在此该第一琢面(21i)的该等独立反射镜(31)之该等置换位置经过选择，如此在该中间焦点(ZF)内一照明辐射(3)的一预定亮度分布(36)之案例中，该第二琢面组件(7)的该琢面(25i)之该区域内该照明辐射(3)具有一亮度分布(37)，含一最大至多等于一预定最大亮度(I*)，或大于该亮度分布(37)的一平均值至多一预定因子或绝对值。

7. 发明专利

TW201415076A 組合反射鏡审中-公开
简体标题：组合反射镜
公开(公告)号：TW201415076A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：TW102117653
申请日：2013-05-17
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：貝林史汀 , BIELING, STIG , 狄君特馬庫斯 , 威格勒喬漢尼斯 , WANGLER, JOHANNES
IPC分类号： G02B17/00 , G02B19/00 , G02B27/09 , G02B27/14 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/0284 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B5/1861 , G02B17/002 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G03F7/70075 , G03F7/70191 , G03F7/70575
摘要：一種照明光學單元(4)，用於照明在一投射曝光設備(1)中的一物體視場(5)，包括：具有一結構的一第一組合反射鏡(13)，該結構在至少一方向中具有至少0.2 mm-1的空間頻率；及一第二組合反射鏡(14)，其包括複數個小面鏡(14a)，其中該等小面鏡(14a)分別設置有抑制機構，用於抑制該第一組合反射鏡(13)的該結構的空間頻率。
简体摘要：一种照明光学单元(4)，用于照明在一投射曝光设备(1)中的一物体视场(5)，包括：具有一结构的一第一组合反射镜(13)，该结构在至少一方向中具有至少0.2 mm-1的空间频率；及一第二组合反射镜(14)，其包括复数个小面镜(14a)，其中该等小面镜(14a)分别设置有抑制机构，用于抑制该第一组合反射镜(13)的该结构的空间频率。

8. 发明专利

TWI680355B 用於投影曝光裝置的照明光學總成有权
简体标题：用于投影曝光设备的照明光学总成
公开(公告)号：TWI680355B
公开(公告)日：2019-12-21
申请号：TW104128172
申请日：2015-08-27
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：安德烈斯馬丁 , ENDRES, MARTIN , 貝林史汀 , BIELING, STIG
IPC分类号： G03F7/20

9. 发明专利

TWI639850B 光瞳組合反射鏡、照明光學單元、照明系統、投射曝光設備、用於產生一微結構或奈米結構元件之方法以及微結構或奈米結構元件有权
简体标题：光瞳组合反射镜、照明光学单元、照明系统、投射曝光设备、用于产生一微结构或奈米结构组件之方法以及微结构或奈米结构组件
公开(公告)号：TWI639850B
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW102117653
申请日：2013-05-17
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：貝林史汀 , BIELING, STIG , 狄君特馬庫斯 , 威格勒喬漢尼斯 , WANGLER, JOHANNES
IPC分类号： G02B17/00 , G02B19/00 , G02B27/09 , G02B27/14 , G03F7/20

10. 发明专利

TW201809766A 微影照明單元审中-公开
简体标题：微影照明单元
公开(公告)号：TW201809766A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106119467
申请日：2017-06-12
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：狄君特馬庫斯 , 貝林史汀 , BIELING, STIG
IPC分类号： G02B6/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B6/0015 , G02B6/0068 , G03F7/201 , G03F7/2022 , G03F7/7045
摘要：本發明係關於一種用於在微影製程中的晶圓上光阻之後期曝光的微影照明單元，具有至少一個光源(121、321、421、521)；以及光導與光混合元件(110、310、410、510)，其用於將該光源所產生之電磁輻射耦合到該光阻中，其中這種光導與光混合元件具有一第一對的相互相對側面，其最大間距具有第一值，其中在這些側面上發生該電磁輻射之多次反射，其中該光導與光混合元件具有一第二對的相互相對側面，其最大間距具有第二值，且其中在該電磁輻射之光傳播方向上，該光導與光混合元件之最大範圍具有第三值，其中此第三值大於該第一值並小於該第二值。
简体摘要：本发明系关于一种用于在微影制程中的晶圆上光阻之后期曝光的微影照明单元，具有至少一个光源(121、321、421、521)；以及光导与光混合组件(110、310、410、510)，其用于将该光源所产生之电磁辐射耦合到该光阻中，其中这种光导与光混合组件具有一第一对的相互相对侧面，其最大间距具有第一值，其中在这些侧面上发生该电磁辐射之多次反射，其中该光导与光混合组件具有一第二对的相互相对侧面，其最大间距具有第二值，且其中在该电磁辐射之光传播方向上，该光导与光混合组件之最大范围具有第三值，其中此第三值大于该第一值并小于该第二值。

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