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1. 发明专利

TWI666727B 膜狀構件支撐裝置有权
简体标题：膜状构件支撑设备
公开(公告)号：TWI666727B
公开(公告)日：2019-07-21
申请号：TW104113379
申请日：2015-04-27
申请人：日商半導體能源研究所股份有限公司 , SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.
发明人：熊倉佳代 , KUMAKURA, KAYO , 井戸尻悟 , IDOJIRI, SATORU , 大野正勝 , OHNO, MASAKATSU , 武島幸市 , TAKESHIMA, KOICHI , 平形吉晴 , HIRAKATA, YOSHIHARU , 橫山浩平 , YOKOYAMA, KOHEI
IPC分类号： H01L21/683

3. 发明专利

TW201601244A 膜狀構件支撐裝置审中-公开
简体标题：膜状构件支撑设备
公开(公告)号：TW201601244A
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW104113379
申请日：2015-04-27
申请人：半導體能源研究所股份有限公司 , SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.
发明人：熊倉佳代 , KUMAKURA, KAYO , 井戸尻悟 , IDOJIRI, SATORU , 大野正勝 , OHNO, MASAKATSU , 武島幸市 , TAKESHIMA, KOICHI , 平形吉晴 , HIRAKATA, YOSHIHARU , 橫山浩平 , YOKOYAMA, KOHEI
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： B25B11/005 , B29C53/18 , B29L2007/002 , H01L21/68742 , H01L21/6875
摘要：將薄膜狀部件藉由真空吸附支撐為平面形狀。多個升降銷被佈置成平面配置，並支撐放置在其上端的薄膜狀部件。在升降銷的上部安裝有由橡膠製成的管狀墊片，用於藉由真空吸附來保持薄膜狀部件。升降銷的高度可以利用螺紋固定機構而調整。藉由來自墊片的吸附，薄膜狀部件的變形可被校正為平面形狀或凹曲形狀。在不能只藉由吸附來達成校正時，可藉由來自噴嘴的空氣噴射來輔助校正。
简体摘要：将薄膜状部件借由真空吸附支撑为平面形状。多个升降销被布置成平面配置，并支撑放置在其上端的薄膜状部件。在升降销的上部安装有由橡胶制成的管状垫片，用于借由真空吸附来保持薄膜状部件。升降销的高度可以利用螺纹固定机构而调整。借由来自垫片的吸附，薄膜状部件的变形可被校正为平面形状或凹曲形状。在不能只借由吸附来达成校正时，可借由来自喷嘴的空气喷射来辅助校正。

5. 发明专利

TWI671141B 支撐體供應裝置及供應支撐體的方法有权
简体标题：支撑体供应设备及供应支撑体的方法
公开(公告)号：TWI671141B
公开(公告)日：2019-09-11
申请号：TW103127916
申请日：2014-08-14
申请人：半導體能源研究所股份有限公司 , SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.
发明人：大野正勝 , OHNO, MASAKATSU , 橫山浩平 , YOKOYAMA, KOHEI , 井戶尻悟 , IDOJIRI, SATORU , 池田寿雄 , IKEDA, HISAO , 神保安弘 , JINBO, YASUHIRO , 安達広樹 , ADACHI, HIROKI , 平形吉晴 , HIRAKATA, YOSHIHARU , 江口晋吾 , EGUCHI, SHINGO
IPC分类号： B08B5/02

6. 发明专利

TW201824603A 顯示裝置及其製造方法审中-公开
简体标题：显示设备及其制造方法
公开(公告)号：TW201824603A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW107107114
申请日：2014-11-28
申请人：日商半導體能源研究所股份有限公司 , SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.
发明人：山崎舜平 , YAMAZAKI, SHUNPEI , 大野正勝 , OHNO, MASAKATSU , 安達広樹 , ADACHI, HIROKI , 井戶尻悟 , IDOJIRI, SATORU , 武島幸市 , TAKESHIMA, KOICHI
IPC分类号： H01L51/52 , H01L51/56 , H01L27/32
摘要：本發明的一個方式的目的之一是提供一種顯示品質良好且良率高的撓性顯示裝置。在第一基板上形成第一有機樹脂層，在第一有機樹脂層上形成第一絕緣膜，在第一絕緣膜上形成第一元件層，在第二基板上形成第二有機樹脂層，在第二有機樹脂層上形成第二絕緣膜，在第二絕緣膜上形成第二元件層，以第一元件層及第二元件層被密封的方式貼合第一基板與第二基板，進行使第一有機樹脂層與第一基板的緊密性降低而分離第一基板的第一分離製程，藉由第一黏合層黏合第一有機樹脂層與第一撓性基板，進行使第二有機樹脂層與第二基板的緊密性降低而分離第二基板的第二分離製程，並且，藉由第二黏合層黏合第二有機樹脂層與第二撓性基板。
简体摘要：本发明的一个方式的目的之一是提供一种显示品质良好且良率高的挠性显示设备。在第一基板上形成第一有机树脂层，在第一有机树脂层上形成第一绝缘膜，在第一绝缘膜上形成第一组件层，在第二基板上形成第二有机树脂层，在第二有机树脂层上形成第二绝缘膜，在第二绝缘膜上形成第二组件层，以第一组件层及第二组件层被密封的方式贴合第一基板与第二基板，进行使第一有机树脂层与第一基板的紧密性降低而分离第一基板的第一分离制程，借由第一黏合层黏合第一有机树脂层与第一挠性基板，进行使第二有机树脂层与第二基板的紧密性降低而分离第二基板的第二分离制程，并且，借由第二黏合层黏合第二有机树脂层与第二挠性基板。

7. 发明专利

TW201805706A 顯示裝置的製造方法、顯示裝置、顯示模組及電子裝置审中-公开
简体标题：显示设备的制造方法、显示设备、显示模块及电子设备
公开(公告)号：TW201805706A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW105137935
申请日：2016-11-18
申请人：半導體能源研究所股份有限公司 , SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.
发明人：大野正勝 , OHNO, MASAKATSU , 保本清治 , YASUMOTO, SEIJI , 後藤尚人 , GOTO, NAOTO , 安達廣樹 , ADACHI, HIROKI
IPC分类号： G02F1/136
CPC分类号： G02F1/1333 , G02F1/1343 , G02F1/1368 , G09F9/00 , G09F9/30 , G09F9/46 , H01L51/50 , H05B33/02 , H05B33/10
摘要：提供一種功耗低的顯示裝置的製造方法。該方法包括如下步驟：在基板上使用包含樹脂或樹脂前體的材料形成第一層；在第一層中形成第一區域及比該第一區域薄的第二區域；藉由在使包含氧的氣體流動的同時對第一層進行第一加熱處理，形成具有第一區域及比該第一區域薄的第二區域的第一樹脂層；在第一樹脂層上形成包括顯示元件的被剝離層；以及使被剝離層與基板分離，其中，形成被剝離層的步驟包括在第一樹脂層上的重疊於第二區域的位置形成導電層的步驟，並且，在使被剝離層與基板分離的步驟之後包括去除第一樹脂層而使導電層露出的步驟。
简体摘要：提供一种功耗低的显示设备的制造方法。该方法包括如下步骤：在基板上使用包含树脂或树脂前体的材料形成第一层；在第一层中形成第一区域及比该第一区域薄的第二区域；借由在使包含氧的气体流动的同时对第一层进行第一加热处理，形成具有第一区域及比该第一区域薄的第二区域的第一树脂层；在第一树脂层上形成包括显示组件的被剥离层；以及使被剥离层与基板分离，其中，形成被剥离层的步骤包括在第一树脂层上的重叠于第二区域的位置形成导电层的步骤，并且，在使被剥离层与基板分离的步骤之后包括去除第一树脂层而使导电层露出的步骤。

8. 发明专利

TW201528353A 剝離起點形成裝置及形成方法、疊層體製造裝置审中-公开
简体标题：剥离起点形成设备及形成方法、叠层体制造设备
公开(公告)号：TW201528353A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：TW103127918
申请日：2014-08-14
申请人：半導體能源研究所股份有限公司 , SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.
发明人：小松立 , KOMATSU, RYU , 橫山浩平 , YOKOYAMA, KOHEI , 大野正勝 , OHNO, MASAKATSU , 井戶尻悟 , IDOJIRI, SATORU , 池田寿雄 , IKEDA, HISAO , 神保安弘 , JINBO, YASUHIRO , 安達広樹 , ADACHI, HIROKI , 平形吉晴 , HIRAKATA, YOSHIHARU , 江口晋吾 , EGUCHI, SHINGO , 中村太紀 , NAKAMURA, DAIKI
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/30
CPC分类号： B26D3/282 , B26D3/08 , B26F1/3826 , C03B33/027 , C03B33/037 , C03B33/07 , G02F1/1303 , Y02P40/57 , Y10T83/0281 , Y10T156/1051 , Y10T156/1082 , Y10T156/1126 , Y10T156/1137 , Y10T156/1168 , Y10T156/1195 , Y10T156/12 , Y10T156/1348 , Y10T156/1788 , Y10T156/1793 , Y10T156/1928 , Y10T156/1933 , Y10T156/1939 , Y10T156/1961 , Y10T156/1967 , Y10T156/1994
摘要：本發明提供一種剝離起點形成裝置，能夠剝離加工構件的表層以形成剩餘部；提供一種具備被剝離了表層的加工構件的剩餘部及支撐體的疊層體的製造裝置。本發明的剝離起點形成裝置包括：支撐加工構件的載物台；與載物台相對的切削工具；支撐切削工具的頭部；支撐頭部的臂部；以及將切削工具相對載物台移動的移動機構。
简体摘要：本发明提供一种剥离起点形成设备，能够剥离加工构件的表层以形成剩余部；提供一种具备被剥离了表层的加工构件的剩余部及支撑体的叠层体的制造设备。本发明的剥离起点形成设备包括：支撑加工构件的载物台；与载物台相对的切削工具；支撑切削工具的头部；支撑头部的臂部；以及将切削工具相对载物台移动的移动机构。

9. 发明专利

TW201919913A 顯示裝置及其製造方法审中-公开
简体标题：显示设备及其制造方法
公开(公告)号：TW201919913A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107144202
申请日：2014-11-28
申请人：日商半導體能源研究所股份有限公司 , SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.
发明人：山崎舜平 , YAMAZAKI, SHUNPEI , 大野正勝 , OHNO, MASAKATSU , 安達広樹 , ADACHI, HIROKI , 井戶尻悟 , IDOJIRI, SATORU , 武島幸市 , TAKESHIMA, KOICHI
IPC分类号： B32B37/14 , B32B37/26 , B32B38/00 , B23K26/0622 , B23K26/064 , B23K26/53 , H05B33/10 , H01L51/50 , H01L27/32
摘要：本發明的一個方式的目的之一是提供一種顯示品質良好且良率高的撓性顯示裝置。在第一基板上形成第一有機樹脂層，在第一有機樹脂層上形成第一絕緣膜，在第一絕緣膜上形成第一元件層，在第二基板上形成第二有機樹脂層，在第二有機樹脂層上形成第二絕緣膜，在第二絕緣膜上形成第二元件層，以第一元件層及第二元件層被密封的方式貼合第一基板與第二基板，進行使第一有機樹脂層與第一基板的緊密性降低而分離第一基板的第一分離製程，藉由第一黏合層黏合第一有機樹脂層與第一撓性基板，進行使第二有機樹脂層與第二基板的緊密性降低而分離第二基板的第二分離製程，並且，藉由第二黏合層黏合第二有機樹脂層與第二撓性基板。
简体摘要：本发明的一个方式的目的之一是提供一种显示品质良好且良率高的挠性显示设备。在第一基板上形成第一有机树脂层，在第一有机树脂层上形成第一绝缘膜，在第一绝缘膜上形成第一组件层，在第二基板上形成第二有机树脂层，在第二有机树脂层上形成第二绝缘膜，在第二绝缘膜上形成第二组件层，以第一组件层及第二组件层被密封的方式贴合第一基板与第二基板，进行使第一有机树脂层与第一基板的紧密性降低而分离第一基板的第一分离制程，借由第一黏合层黏合第一有机树脂层与第一挠性基板，进行使第二有机树脂层与第二基板的紧密性降低而分离第二基板的第二分离制程，并且，借由第二黏合层黏合第二有机树脂层与第二挠性基板。

10. 发明专利

TWI641057B 貼合裝置以及疊層體製造裝置有权
简体标题：贴合设备以及叠层体制造设备
公开(公告)号：TWI641057B
公开(公告)日：2018-11-11
申请号：TW103130575
申请日：2014-09-04
申请人：日商半導體能源研究所股份有限公司 , SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.
发明人：大野正勝 , OHNO, MASAKATSU , 平形吉晴 , HIRAKATA, YOSHIHARU , 江口晋吾 , EGUCHI, SHINGO , 神保安弘 , JINBO, YASUHIRO , 池田寿雄 , IKEDA, HISAO , 橫山浩平 , YOKOYAMA, KOHEI , 安達広樹 , ADACHI, HIROKI , 井戶尻悟 , IDOJIRI, SATORU
IPC分类号： H01L21/50 , H01L51/50

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