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    • 5. 发明专利
    • 半導體封裝基板電性連接墊電鍍金屬層及其製作方法
    • 半导体封装基板电性连接垫电镀金属层及其制作方法
    • TW571372B
    • 2004-01-11
    • TW091134161
    • 2002-11-25
    • 全懋精密科技股份有限公司 PHOENIX PRECISION TECHNOLOGY CORPORATION
    • 朱志亮 CHU, CHIH LIANG周鄂東 CHU, E TUNG翁林瑩 WONG, LIN YIN
    • H01L
    • H01L2224/16225H01L2924/01022H01L2924/01024H01L2924/01029H01L2924/01046H01L2924/01047H01L2924/01078H01L2924/01079H01L2924/014H01L2924/15311
    • 一種半導體封裝基板電性連接墊電鍍金屬層及其製作方法,主要係提供一至少一表面具有複數個電性連接墊之封裝基板;於該基板之表面覆蓋一導電膜;復於該導電膜上形成一光阻層,並使該光阻層具有複數個開孔以顯露出於電性連接墊表面之導電膜;再移除未被該光阻層所覆蓋之導電膜,使該電性連接墊可顯露於該光阻層之開孔;並對該封裝基板進行電鍍,使該電性連接墊外露表面電鍍有一欲形成如鎳/金之金屬層;接著再移除該光阻層及其所覆蓋之導電膜;最後可於該基板表面覆蓋一拒銲層,並使該拒銲層具有複數個開孔可顯露出已完成電鍍金屬層之電性連接墊。本發明可避免在化學鎳/金製程所產生之跳鍍與黑墊等問題,以有效提昇封裝結構之信賴性;再者,無須於封裝基板之表面另外佈設電鍍導線,藉以大幅增加封裝基板有效佈線面積。本案代表圖:第4H圖32 線路層35 電性連接墊35c 電鍍金屬層38 拒銲層38a 開孔
    • 一种半导体封装基板电性连接垫电镀金属层及其制作方法,主要系提供一至少一表面具有复数个电性连接垫之封装基板;于该基板之表面覆盖一导电膜;复于该导电膜上形成一光阻层,并使该光阻层具有复数个开孔以显露出于电性连接垫表面之导电膜;再移除未被该光阻层所覆盖之导电膜,使该电性连接垫可显露于该光阻层之开孔;并对该封装基板进行电镀,使该电性连接垫外露表面电镀有一欲形成如镍/金之金属层;接着再移除该光阻层及其所覆盖之导电膜;最后可于该基板表面覆盖一拒焊层,并使该拒焊层具有复数个开孔可显露出已完成电镀金属层之电性连接垫。本发明可避免在化学镍/金制程所产生之跳镀与黑垫等问题,以有效提升封装结构之信赖性;再者,无须于封装基板之表面另外布设电镀导线,借以大幅增加封装基板有效布线面积。本案代表图:第4H图32 线路层35 电性连接垫35c 电镀金属层38 拒焊层38a 开孔
    • 7. 发明专利
    • 具有部分通孔墊電鍍導電通孔之電路板結構及其製法
    • 具有部分通孔垫电镀导电通孔之电路板结构及其制法
    • TW200610471A
    • 2006-03-16
    • TW093127375
    • 2004-09-10
    • 全懋精密科技股份有限公司 PHOENIX PRECISION TECHNOLOGY CORPORATION
    • 朱志亮 CHU, CHIH LIANG單方璟
    • H05K
    • 本發明係有關於一種具有部分通孔墊電鍍導電通孔之電路板結構及其製法,其製程步驟包含:提供一電路板基材,其覆有薄金屬層,對該電路板基材進行鑽孔,形成若干通孔開口;於該電路板基材之至少一最外表面上形成若干電鍍阻層圖案,且該阻層圖案至少覆蓋住緊鄰於該通孔開口周邊之部分區域;在該電路板基材之表面以及各該通孔開口之孔邊,形成一導電層,再進行電鍍步驟,形成一線路層,接續去除該阻層圖案及阻層下之薄金屬層後,即形成有電鍍導電通孔及圖案化線路層;最後對該電路板基材進行壓合塞孔,完成部分通孔墊之電鍍導電通孔製程。本發明不會在製程中形成佔據佈線面積之通孔墊,而可完成所述之電鍍導電通孔。
    • 本发明系有关于一种具有部分通孔垫电镀导电通孔之电路板结构及其制法,其制程步骤包含:提供一电路板基材,其覆有薄金属层,对该电路板基材进行钻孔,形成若干通孔开口;于该电路板基材之至少一最外表面上形成若干电镀阻层图案,且该阻层图案至少覆盖住紧邻于该通孔开口周边之部分区域;在该电路板基材之表面以及各该通孔开口之孔边,形成一导电层,再进行电镀步骤,形成一线路层,接续去除该阻层图案及阻层下之薄金属层后,即形成有电镀导电通孔及图案化线路层;最后对该电路板基材进行压合塞孔,完成部分通孔垫之电镀导电通孔制程。本发明不会在制程中形成占据布线面积之通孔垫,而可完成所述之电镀导电通孔。