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    • 2. 发明专利
    • 氣體雷射裝置及雷射加工裝置 GAS LASER DEVICE AND LASER PROCESSING DEVICE
    • 气体激光设备及激光加工设备 GAS LASER DEVICE AND LASER PROCESSING DEVICE
    • TW201218562A
    • 2012-05-01
    • TW100132960
    • 2011-09-14
    • 三菱電機股份有限公司
    • 山本達也宮本直樹西前順一藤川周一
    • H01S
    • H01S3/038H01S3/036H01S3/2232H01S2301/203
    • 本發明提供一種氣體雷射裝置,係將光共振器的光軸、將雷射氣體供應至光共振器內的方向、以及激發雷射氣體之放電的方向排成相互正交之三軸正交型之氣體雷射裝置,包含有:第1激發單元U1,係包含有沿著一X方向對光共振器之光軸供應雷射氣體的風扇8a、及從該光軸起靠近上游側設置的放電電極對1a;以及第2激發單元U2,係包含有沿著+X方向對光共振器之光軸供應雷射氣體的風扇8b、及從該光軸起靠近上游側設置的放電電極對1b;放電電極對1a及放電電極對1b之各電極對之上下對的電極於氣體流方向具有相同寬度,且產生M2値為1.8至3或强度分布之波峰呈環形管狀的波束模式。依據如此的構造,即使氣體流速、氣壓、電極寬度、電極配置等參數改變也能穩定地實現均勻的增益分布。
    • 本发明提供一种气体激光设备,系将光共振器的光轴、将激光气体供应至光共振器内的方向、以及激发激光气体之放电的方向排成相互正交之三轴正交型之气体激光设备,包含有:第1激发单元U1,系包含有沿着一X方向对光共振器之光轴供应激光气体的风扇8a、及从该光轴起靠近上游侧设置的放电电极对1a;以及第2激发单元U2,系包含有沿着+X方向对光共振器之光轴供应激光气体的风扇8b、及从该光轴起靠近上游侧设置的放电电极对1b;放电电极对1a及放电电极对1b之各电极对之上下对的电极于气体流方向具有相同宽度,且产生M2値为1.8至3或强度分布之波峰呈环形管状的波束模式。依据如此的构造,即使气体流速、气压、电极宽度、电极配置等参数改变也能稳定地实现均匀的增益分布。