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1. 发明专利

TWI428393B 樹脂組成物、乾膜以及由此所得的加工品失效
简体标题：树脂组成物、干膜以及由此所得的加工品
公开(公告)号：TWI428393B
公开(公告)日：2014-03-01
申请号：TW097116523
申请日：2008-05-05
申请人：三井化學股份有限公司 , MITSUI CHEMICALS, INC.
发明人：船木克彦 , FUNAKI, KATSUHIKO , 大川戶悅夫 , OHKAWADO, ETSUO , 廣田晃輔 , HIROTA, KOUSUKE , 田原修二 , TAHARA, SHUJI
IPC分类号： C08L79/08 , C08K5/53 , C08K5/5399 , C08L33/04 , G03F7/004 , H05K3/28
CPC分类号： G03F7/037 , C08K5/53 , G03F7/027 , Y10T428/31721 , C08L79/04

2. 发明专利

TW202003093A 經降低溶質濃度之溶液的製造方法审中-公开
简体标题：经降低溶质浓度之溶液的制造方法
公开(公告)号：TW202003093A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108111286
申请日：2019-03-29
申请人：日商三井化學股份有限公司 , MITSUI CHEMICALS, INC.
发明人：田原修二 , TAHARA, SYUJI , 丸子展弘 , MARUKO, NOBUHIRO , 孫鎬慶 , SHON, HOKYONG , 方索謝洛 , PHUNTSHO, SHERUB , 金正銀 , KIM, JUNGEUN , 林成吹 , LIM, SUNGIL , 陳文輝 , TRAN, VAN HUY
IPC分类号： B01D61/00 , B01D69/02 , B01D69/10 , B01D71/52 , C08G65/40
摘要：本發明提供一種方法，其係藉由向具備半透膜、及配置於其至少一面之多孔質基材之正滲透膜之一面側之區域供給溶液FS，向另一面側之區域供給溶質濃度較前述溶液FS高之溶液DS，使前述溶液FS所含之溶劑通過前述正滲透膜向前述溶液DS移動，而製造前述溶液DS之溶質濃度經降低之溶液者，前述溶液FS之供給壓力P1與前述溶液DS之供給壓力P2滿足式：0.5kPa≦P1-P2≦700kPa。
简体摘要：本发明提供一种方法，其系借由向具备半透膜、及配置于其至少一面之多孔质基材之正渗透膜之一面侧之区域供给溶液FS，向另一面侧之区域供给溶质浓度较前述溶液FS高之溶液DS，使前述溶液FS所含之溶剂通过前述正渗透膜向前述溶液DS移动，而制造前述溶液DS之溶质浓度经降低之溶液者，前述溶液FS之供给压力P1与前述溶液DS之供给压力P2满足式：0.5kPa≦P1-P2≦700kPa。

3. 发明专利

TWI421632B 感光性樹脂組成物、乾膜、以及其加工品失效
简体标题：感光性树脂组成物、干膜、以及其加工品
公开(公告)号：TWI421632B
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW097114873
申请日：2008-04-23
申请人：三井化學股份有限公司 , MITSUI CHEMICALS, INC.
发明人：船木克彦 , FUNAKI, KATSUHIKO , 大川戶悅夫 , OHKAWADO, ETSUO , 廣田晃輔 , HIROTA, KOUSUKE , 田原修二 , TAHARA, SHUJI
IPC分类号： G03F7/027 , H05K3/28
CPC分类号： G03F7/037 , G03F7/085 , H05K3/287 , Y10T428/24917

4. 发明专利

TW583273B 感光性樹脂組成物有权
简体标题：感光性树脂组成物
公开(公告)号：TW583273B
公开(公告)日：2004-04-11
申请号：TW091133879
申请日：2002-11-20
申请人：三井化學股份有限公司 MITSUI CHEMICALS, INC.
发明人：田原修二 , 大川戶悦夫 , 森田守次 , 藤田和人 , 津田武
IPC分类号： C08L
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/037 , Y10S430/107 , Y10T428/24917 , Y10T428/31721
摘要：本發明之目的在於提供一種感光性樹脂組合物，其以低能量曝光形成精細圖案、即使不使用有機溶劑亦可顯影、且經顯影後熱處理醯亞胺化所得之皮膜，可獲致良好的可撓性、彎曲性，且具有優異之耐熱性、對導體之接著性、電特性等。又本發明係提供以該感光性樹脂組合物所得之乾膿以及具有將該乾膜硬化所形成之皮膜的加工品。本發明之感光性樹脂組成物，含有(A)聚醯胺酸；(B)具有至少2個可光聚合的C=C不飽和雙鍵的(甲基)丙烯酸酯；(C)光聚合起始劑；以及(D)難燃劑；相對於( A)聚醯胺酸100質量份，(B)具有至少2個可光聚合 C=C不飽和雙鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物係含有10~700質量份。(式中，n是1~100的整數，R1表示僅由擇自C、H、O的元素所構成的2價有機基，R2表示僅由擇自C、H、O的元素所構成的4價有機基)
简体摘要：本发明之目的在于提供一种感光性树脂组合物，其以低能量曝光形成精细图案、即使不使用有机溶剂亦可显影、且经显影后热处理酰亚胺化所得之皮膜，可获致良好的可挠性、弯曲性，且具有优异之耐热性、对导体之接着性、电特性等。又本发明系提供以该感光性树脂组合物所得之干脓以及具有将该干膜硬化所形成之皮膜的加工品。本发明之感光性树脂组成物，含有(A)聚酰胺酸；(B)具有至少2个可光聚合的C=C不饱和双键的(甲基)丙烯酸酯；(C)光聚合起始剂；以及(D)难燃剂；相对于( A)聚酰胺酸100质量份，(B)具有至少2个可光聚合 C=C不饱和双键的(甲基)丙烯酸酯化合物系含有10~700质量份。(式中，n是1~100的整数，R1表示仅由择自C、H、O的元素所构成的2价有机基，R2表示仅由择自C、H、O的元素所构成的4价有机基)

5. 发明专利

TWI477894B 感光性樹脂組成物、乾膜、以及其加工品有权
简体标题：感光性树脂组成物、干膜、以及其加工品
公开(公告)号：TWI477894B
公开(公告)日：2015-03-21
申请号：TW097114871
申请日：2008-04-23
申请人：三井化學股份有限公司 , MITSUI CHEMICALS, INC.
发明人：船木克彦 , FUNAKI, KATSUHIKO , 大川戶悅夫 , OHKAWADO, ETSUO , 廣田晃輔 , HIROTA, KOUSUKE , 田原修二 , TAHARA, SHUJI
IPC分类号： G03F7/004 , H05K3/28
CPC分类号： C08F283/04 , C08F283/00 , G03F7/027 , G03F7/037 , H05K3/287 , Y10T428/24917

6. 发明专利

TW202017644A 正滲透膜及其用途审中-公开
简体标题：正渗透膜及其用途
公开(公告)号：TW202017644A
公开(公告)日：2020-05-16
申请号：TW108128188
申请日：2019-08-06
申请人：日商三井化學股份有限公司 , MITSUI CHEMICALS, INC.
发明人：田原修二 , TAHARA, SYUJI , 丸子展弘 , MARUKO, NOBUHIRO , 孫鎬慶 , SHON, HOKYONG , 方索謝洛 , PHUNTSHO, SHERUB , 金正銀 , KIM, JUNGEUN , 林成欥 , LIM, SUNGIL , 陳文輝 , TRAN, VAN HUY
IPC分类号： B01D69/10 , B01D71/72 , B01D63/00 , B01D61/00
摘要：本發明之正滲透膜，係半透膜、具有5~2,000個/吋之空孔之網狀支撐材、與多孔質基材的積層體。
简体摘要：本发明之正渗透膜，系半透膜、具有5~2,000个/吋之空孔之网状支撑材、与多孔质基材的积层体。

7. 发明专利

TW200300434A 感光性樹脂組成物、乾膜及使用其之加工品审中-公开
简体标题：感光性树脂组成物、干膜及使用其之加工品
公开(公告)号：TW200300434A
公开(公告)日：2003-06-01
申请号：TW091133879
申请日：2002-11-20
申请人：三井化學股份有限公司 MITSUI CHEMICALS, INC.
发明人：田原修二 , 大川戶悦夫 , 森田守次 , 藤田和人 , 津田武
IPC分类号： C08L
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/037 , Y10S430/107 , Y10T428/24917 , Y10T428/31721
摘要：本發明之目的在於提供一種感光性樹脂組合物，其以低能量曝光形成精細圖案、即使不使用有機溶劑亦可顯影、且經顯影後熱處理醯亞胺化所得之皮膜，可獲致良好的可撓性、彎曲性，且具有優異之耐熱性、對導體之接著性、電特性等。又本發明係提供以該感光性樹脂組合物所得之乾膜以及具有將該乾膜硬化所形成之皮膜的加工品。本發明之感光性樹脂組成物，含有(A)聚醯胺酸；(B)具有至少2個可光聚合的C＝C不飽和雙鍵的(甲基)丙烯酸酯；(C)光聚合起始劑；以及(D)難燃劑；相對於(A)聚醯胺酸100質量份，(B)具有至少2個可光聚合的C＝C不飽和雙鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物係含有10～700質量份。091133879p01.bmp(式中，n是1～100的整數，R^1表示僅由擇自C、H、O的元素所構成的2價有機基，R^2表示僅由擇自C、H、O的元素所構成的4價有機基)
简体摘要：本发明之目的在于提供一种感光性树脂组合物，其以低能量曝光形成精细图案、即使不使用有机溶剂亦可显影、且经显影后热处理酰亚胺化所得之皮膜，可获致良好的可挠性、弯曲性，且具有优异之耐热性、对导体之接着性、电特性等。又本发明系提供以该感光性树脂组合物所得之干膜以及具有将该干膜硬化所形成之皮膜的加工品。本发明之感光性树脂组成物，含有(A)聚酰胺酸；(B)具有至少2个可光聚合的C＝C不饱和双键的(甲基)丙烯酸酯；(C)光聚合起始剂；以及(D)难燃剂；相对于(A)聚酰胺酸100质量份，(B)具有至少2个可光聚合的C＝C不饱和双键的(甲基)丙烯酸酯化合物系含有10～700质量份。091133879p01.bmp(式中，n是1～100的整数，R^1表示仅由择自C、H、O的元素所构成的2价有机基，R^2表示仅由择自C、H、O的元素所构成的4价有机基)

8. 发明专利

TW201247045A 樹脂組成物、含有其的保護膜、乾膜、電路保護層、電路基板及多層電路基板 RESIN COMPOSITION AND PROTECTIVE FILM CONTAINING THE SAME, DRY FILM, CIRCUIT PROTECTION LAYER, CIRCUIT BOARD, AND MULTILAYER CIRCUIT BOARD 审中-公开
简体标题：树脂组成物、含有其的保护膜、干膜、电路保护层、电路基板及多层电路基板 RESIN COMPOSITION AND PROTECTIVE FILM CONTAINING THE SAME, DRY FILM, CIRCUIT PROTECTION LAYER, CIRCUIT BOARD, AND MULTILAYER CIRCUIT BOARD
公开(公告)号：TW201247045A
公开(公告)日：2012-11-16
申请号：TW100149066
申请日：2011-12-28
申请人：三井化學股份有限公司
发明人：田原修二 , 安田清美
IPC分类号： H05K
CPC分类号： H05K1/0213 , B32B2457/08 , C08G18/003 , C08G18/282 , C08G18/7671 , C08G18/8064 , C08L79/04 , H05K1/0346 , H05K3/285 , H05K3/4617
摘要：本發明的目的在於提供一種可形成耐熱性及滑動彎曲性優異的膜的樹脂組成物、使用其的電路的保護膜、具有其的乾膜等。進而,本發明的目的亦在於提供一種耐熱性及滑動彎曲性優異的電路基板及多層電路基板。為了達成上述目的,而設為如下的保護膜,其是與印刷配線板的電路接觸而配置的電路基板的保護膜,且其包含重量平均分子量為3�104以上的聚噁唑烷酮樹脂(A)。
简体摘要：本发明的目的在于提供一种可形成耐热性及滑动弯曲性优异的膜的树脂组成物、使用其的电路的保护膜、具有其的干膜等。进而,本发明的目的亦在于提供一种耐热性及滑动弯曲性优异的电路基板及多层电路基板。为了达成上述目的,而设为如下的保护膜,其是与印刷配线板的电路接触而配置的电路基板的保护膜,且其包含重量平均分子量为3�104以上的聚恶唑烷酮树脂(A)。

9. 发明专利

TWI334826B 聚醯亞胺薄膜以及使用此薄膜的聚醯亞胺金屬積層體與其製造方法 POLYIMIDE FILM, POLYIMIDE METAL LAMINATE USING THE SAME AND MANUFACTURING METHOD THEREOF 失效
简体标题：聚酰亚胺薄膜以及使用此薄膜的聚酰亚胺金属积层体与其制造方法 POLYIMIDE FILM, POLYIMIDE METAL LAMINATE USING THE SAME AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
公开(公告)号：TWI334826B
公开(公告)日：2010-12-21
申请号：TW095112377
申请日：2006-04-07
申请人：三井化學股份有限公司
发明人：津田武 , 大坪英二 , 川口將生 , 田原修二 , 飯田健二
IPC分类号： B32B , C08G , H05K
CPC分类号： H05K3/381 , B32B7/12 , B32B15/08 , B32B15/18 , B32B15/20 , B32B27/16 , B32B27/281 , B32B2255/10 , B32B2255/26 , B32B2307/302 , B32B2457/08 , C08J7/12 , C08J2379/08 , H05K1/0346 , H05K1/036 , H05K2201/0129 , H05K2201/0154 , H05K2203/0793 , H05K2203/122 , Y10T428/31681 , Y10T428/31721
摘要：本發明是一種關於與金屬層之黏著性高而適合作為高密度電路基板材料之聚醯亞胺金屬積層體。具體上，本發明提供一種以被含有醇胺與鹼金屬氫氧化物之水溶液表面處理為特徵之聚醯亞胺薄膜。另外，並提供以在該聚醯亞胺薄膜表面設置熱塑性聚醯亞胺，在該熱塑性聚醯亞胺層外側形成金屬層為特徵之聚醯亞胺金屬積層體、以及該聚醯亞胺金屬積層體之製造方法。
简体摘要：本发明是一种关于与金属层之黏着性高而适合作为高密度电路基板材料之聚酰亚胺金属积层体。具体上，本发明提供一种以被含有醇胺与碱金属氢氧化物之水溶液表面处理为特征之聚酰亚胺薄膜。另外，并提供以在该聚酰亚胺薄膜表面设置热塑性聚酰亚胺，在该热塑性聚酰亚胺层外侧形成金属层为特征之聚酰亚胺金属积层体、以及该聚酰亚胺金属积层体之制造方法。

10. 发明专利

TW367355B 供液晶密封用之紫外線硬化型樹脂組成物失效
简体标题：供液晶密封用之紫外线硬化型树脂组成物
公开(公告)号：TW367355B
公开(公告)日：1999-08-21
申请号：TW085115873
申请日：1996-12-23
申请人：三井化學股份有限公司
发明人：下小路美 , 田原修二 , 伊丹清次 , 伊藤健司 , 牧野繁男
IPC分类号： C09J
CPC分类号： G02F1/1341 , C08F291/02 , C08F230/08
摘要：本發明係關於一種供液晶密封用之紫外線硬化型樹脂組成物，係以橡膠變性不飽和化合物、偶合劑、充填劑及光聚合開始劑來作為主成分。該橡膠變性不飽和化合物係在分子內至少有1個以上可聚合之乙烯(ethylene)性不飽和鍵之單體上，用丙烯酸(acrylic)系橡膠、矽酮(silicone)系橡膠、胺基甲酸酯(urethane)系橡膠或是共軛二烯( diene)系橡膠予以接枝所得到之化合物。該橡膠變性不飽和化合物之橡膠的粒徑為0.2～5μm，其數目平均分子量為1000～100,000及其含量為0.5～45重量%。
[效果]在使用該樹脂組成物之紫外線硬化中，可以在作業性良好，低溫並且短時間之下，來製成具有高信賴性之液晶顯示板。
[選擇圖]無
简体摘要：本发明系关于一种供液晶密封用之紫外线硬化型树脂组成物，系以橡胶变性不饱和化合物、偶合剂、充填剂及光聚合开始剂来作为主成分。该橡胶变性不饱和化合物系在分子内至少有1个以上可聚合之乙烯(ethylene)性不饱和键之单体上，用丙烯酸(acrylic)系橡胶、硅酮(silicone)系橡胶、胺基甲酸酯(urethane)系橡胶或是共轭二烯( diene)系橡胶予以接枝所得到之化合物。该橡胶变性不饱和化合物之橡胶的粒径为0.2～5μm，其数目平均分子量为1000～100,000及其含量为0.5～45重量%。 [效果]在使用该树脂组成物之紫外线硬化中，可以在作业性良好，低温并且短时间之下，来制成具有高信赖性之液晶显示板。 [选择图]无

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