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    • 3. 发明专利
    • 感光性樹脂組成物
    • 感光性树脂组成物
    • TW583273B
    • 2004-04-11
    • TW091133879
    • 2002-11-20
    • 三井化學股份有限公司 MITSUI CHEMICALS, INC.
    • 田原修二大川戶悦夫森田守次藤田和人津田武
    • C08L
    • G03F7/038G03F7/037Y10S430/107Y10T428/24917Y10T428/31721
    • 本發明之目的在於提供一種感光性樹脂組合物,其以低能量曝光形成精細圖案、即使不使用有機溶劑亦可顯影、且經顯影後熱處理醯亞胺化所得之皮膜,可獲致良好的可撓性、彎曲性,且具有優異之耐熱性、對導體之接著性、電特性等。又本發明係提供以該感光性樹脂組合物所得之乾膿以及具有將該乾膜硬化所形成之皮膜的加工品。本發明之感光性樹脂組成物,含有(A)聚醯胺酸;(B)具有至少2個可光聚合的C=C不飽和雙鍵的(甲基)丙烯酸酯;(C)光聚合起始劑;以及(D)難燃劑;相對於( A)聚醯胺酸100質量份,(B)具有至少2個可光聚合 C=C不飽和雙鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物係含有10~700質量份。(式中,n是1~100的整數,R1表示僅由擇自C、H、O的元素所構成的2價有機基,R2表示僅由擇自C、H、O的元素所構成的4價有機基)
    • 本发明之目的在于提供一种感光性树脂组合物,其以低能量曝光形成精细图案、即使不使用有机溶剂亦可显影、且经显影后热处理酰亚胺化所得之皮膜,可获致良好的可挠性、弯曲性,且具有优异之耐热性、对导体之接着性、电特性等。又本发明系提供以该感光性树脂组合物所得之干脓以及具有将该干膜硬化所形成之皮膜的加工品。本发明之感光性树脂组成物,含有(A)聚酰胺酸;(B)具有至少2个可光聚合的C=C不饱和双键的(甲基)丙烯酸酯;(C)光聚合起始剂;以及(D)难燃剂;相对于( A)聚酰胺酸100质量份,(B)具有至少2个可光聚合 C=C不饱和双键的(甲基)丙烯酸酯化合物系含有10~700质量份。(式中,n是1~100的整数,R1表示仅由择自C、H、O的元素所构成的2价有机基,R2表示仅由择自C、H、O的元素所构成的4价有机基)
    • 5. 发明专利
    • 感光性樹脂組成物、乾膜及使用其之加工品
    • 感光性树脂组成物、干膜及使用其之加工品
    • TW200300434A
    • 2003-06-01
    • TW091133879
    • 2002-11-20
    • 三井化學股份有限公司 MITSUI CHEMICALS, INC.
    • 田原修二大川戶悦夫森田守次藤田和人津田武
    • C08L
    • G03F7/038G03F7/037Y10S430/107Y10T428/24917Y10T428/31721
    • 本發明之目的在於提供一種感光性樹脂組合物,其以低能量曝光形成精細圖案、即使不使用有機溶劑亦可顯影、且經顯影後熱處理醯亞胺化所得之皮膜,可獲致良好的可撓性、彎曲性,且具有優異之耐熱性、對導體之接著性、電特性等。又本發明係提供以該感光性樹脂組合物所得之乾膜以及具有將該乾膜硬化所形成之皮膜的加工品。本發明之感光性樹脂組成物,含有(A)聚醯胺酸;(B)具有至少2個可光聚合的C=C不飽和雙鍵的(甲基)丙烯酸酯;(C)光聚合起始劑;以及(D)難燃劑;相對於(A)聚醯胺酸100質量份,(B)具有至少2個可光聚合的C=C不飽和雙鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物係含有10~700質量份。091133879p01.bmp(式中,n是1~100的整數,R^1表示僅由擇自C、H、O的元素所構成的2價有機基,R^2表示僅由擇自C、H、O的元素所構成的4價有機基)
    • 本发明之目的在于提供一种感光性树脂组合物,其以低能量曝光形成精细图案、即使不使用有机溶剂亦可显影、且经显影后热处理酰亚胺化所得之皮膜,可获致良好的可挠性、弯曲性,且具有优异之耐热性、对导体之接着性、电特性等。又本发明系提供以该感光性树脂组合物所得之干膜以及具有将该干膜硬化所形成之皮膜的加工品。本发明之感光性树脂组成物,含有(A)聚酰胺酸;(B)具有至少2个可光聚合的C=C不饱和双键的(甲基)丙烯酸酯;(C)光聚合起始剂;以及(D)难燃剂;相对于(A)聚酰胺酸100质量份,(B)具有至少2个可光聚合的C=C不饱和双键的(甲基)丙烯酸酯化合物系含有10~700质量份。091133879p01.bmp(式中,n是1~100的整数,R^1表示仅由择自C、H、O的元素所构成的2价有机基,R^2表示仅由择自C、H、O的元素所构成的4价有机基)