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1. 发明专利

TWI303625B 含氧金屬化合物粉末之製造裝置及製法 PROCESS AND APPARATUS FOR PRODUCING POWDERS OF METAL COMPOUND CONTAINING OXYGEN 失效
简体标题：含氧金属化合物粉末之制造设备及制法 PROCESS AND APPARATUS FOR PRODUCING POWDERS OF METAL COMPOUND CONTAINING OXYGEN
公开(公告)号：TWI303625B
公开(公告)日：2008-12-01
申请号：TW094108281
申请日：2005-03-18
申请人：日本派歐尼股份有限公司 JAPAN PIONICS CO., LTD.
发明人：高松勇吉 TAKAMATSU, YUKICHI , 桐山晃二 KIRIYAMA, KOJI , 淺野彰良 ASANO, AKIRA , 石井隆史 ISHII, TAKAFUMI
IPC分类号： C01G
CPC分类号： C01G1/02 , C01B13/20 , C01G23/003 , C01G23/006 , C01G29/00 , C01G33/00 , C01G35/00 , Y10S502/525
摘要：本發明的課題係提供作為光學結晶、非線性結晶或磁光學結晶的原料等使用的含氧金屬化合物粉末的製造手段,可以用較低的生產成本容易地大量生產微細的含氧金屬化合物粉末。
本發明的含氧金屬化合物粉末的製造裝置具備有:液體流量控制器、氣化器、以及反應器,該反應器含有原料和氧的氣體供給手段、由該供給手段的側面加熱該氣體的手段、設置在該供給手段下游一側的該氣體的冷卻手段、以及生成物的收集手段。另外,含氧金屬化合物粉末之製法係利用液體流量控制器將選自液體原料以及把固體原料溶解於有機溶劑中的溶液原料中的至少1種原料供給至氣化器,氣化之後添加氧,在加熱條件下使之反應,然後用冷卻手段使之冷卻變成粉末。
简体摘要：本发明的课题系提供作为光学结晶、非线性结晶或磁光学结晶的原料等使用的含氧金属化合物粉末的制造手段,可以用较低的生产成本容易地大量生产微细的含氧金属化合物粉末。本发明的含氧金属化合物粉末的制造设备具备有:液体流量控制器、气化器、以及反应器,该反应器含有原料和氧的气体供给手段、由该供给手段的侧面加热该气体的手段、设置在该供给手段下游一侧的该气体的冷却手段、以及生成物的收集手段。另外,含氧金属化合物粉末之制法系利用液体流量控制器将选自液体原料以及把固体原料溶解于有机溶剂中的溶液原料中的至少1种原料供给至气化器,气化之后添加氧,在加热条件下使之反应,然后用冷却手段使之冷却变成粉末。

2. 发明专利

TWI257376B 氨之精製方法 PROCESS FOR PURIFYING AMMONIA 失效
简体标题：氨之精制方法 PROCESS FOR PURIFYING AMMONIA
公开(公告)号：TWI257376B
公开(公告)日：2006-07-01
申请号：TW092129382
申请日：2003-10-23
申请人：日本派歐尼股份有限公司 JAPAN PIONICS CO., LTD.
发明人：大塚健二 OTSUKA, KENJI , 荒川秩 ARAKAWA, SATOSHI , 笠谷尚史 KASAYA, TAKASHI , 池田友久 IKEDA, TOMOHISA
IPC分类号： C01C
CPC分类号： B01J20/0222 , B01J20/06 , B01J20/18 , B01J2220/42 , C01C1/024 , Y02P20/52
摘要：本發明提供一種氨之精製方法，可以高效率地除去粗氨中的雜質，可將含在粗氨的微量的雜質除去到極低濃度的同時，即使反覆進行精製劑的再生也不會降低雜質的除去能力，可以連續地供給高純度的氨。將粗氨與精製劑、進而與合成沸石接觸，除去含在該粗氨的雜質，上述作為有效成份之精製劑含有(1)氧化錳和(2)選自於氧化釩、氧化鉻、氧化錫、氧化鋯、氧化鉍、氧化鈮及氧化鉭中之1種以上的金屬氧化物，錳原子數相對於該有效成份全體的金屬原子數的比例是80~99%。
简体摘要：本发明提供一种氨之精制方法，可以高效率地除去粗氨中的杂质，可将含在粗氨的微量的杂质除去到极低浓度的同时，即使反复进行精制剂的再生也不会降低杂质的除去能力，可以连续地供给高纯度的氨。将粗氨与精制剂、进而与合成沸石接触，除去含在该粗氨的杂质，上述作为有效成份之精制剂含有(1)氧化锰和(2)选自于氧化钒、氧化铬、氧化锡、氧化锆、氧化铋、氧化铌及氧化钽中之1种以上的金属氧化物，锰原子数相对于该有效成份全体的金属原子数的比例是80~99%。

3. 发明专利

TW200605945A 氣體的處理方法及處理裝置 PROCESSING METHOD OF GAS AND PROCESSING APPARATUS OF GAS 失效
简体标题：气体的处理方法及处理设备 PROCESSING METHOD OF GAS AND PROCESSING APPARATUS OF GAS
公开(公告)号：TW200605945A
公开(公告)日：2006-02-16
申请号：TW094122825
申请日：2005-07-06
申请人：日本派歐尼股份有限公司 JAPAN PIONICS CO., LTD
发明人：島田孝 SHIMADA, TAKASHI , 武政登 TAKEMASA, NOBORU , 越智幸史 OCHI, KOSHI , 弘 WAKI, HIROSHI
IPC分类号： B01D
CPC分类号： F01N3/0807 , B01D51/10 , B01D53/261 , B01D53/9409 , B01D2253/108 , B01D2255/1023 , B01J8/025 , B01J8/0457 , B01J2208/00203 , B01J2219/00038 , B01J2219/0004 , F01N3/0878 , F01N13/0097 , F01N2570/22 , Y02T10/20
摘要：本發明之課題係提供一種氣體處理方法和處理裝置，該處理方法不使用大型的處理裝置或具有複雜結構的處理裝置，能容易地以優良的處理能力和除去率除去空氣等氣體中所含有的氮氧化物，一旦吸附的氮氧化物也不會非人為地脫附。本發明之解決手段係為一種處理裝置，其係將空氣等的處理對象氣體，通過與水吸附劑接觸以除去該氣體中含有的水份之後，再與鈀催化劑接觸以除去該氣體中含有的氮氧化物。而且，該處理裝置至少具備包括處理對象氣體的導入口、水吸附劑的填充部位、鈀催化劑的填充部位和被處理氣體的排出口，並設定為該氣體以此順序流通。
简体摘要：本发明之课题系提供一种气体处理方法和处理设备，该处理方法不使用大型的处理设备或具有复杂结构的处理设备，能容易地以优良的处理能力和除去率除去空气等气体中所含有的氮氧化物，一旦吸附的氮氧化物也不会非人为地脱附。本发明之解决手段系为一种处理设备，其系将空气等的处理对象气体，通过与水吸附剂接触以除去该气体中含有的水份之后，再与钯催化剂接触以除去该气体中含有的氮氧化物。而且，该处理设备至少具备包括处理对象气体的导入口、水吸附剂的填充部位、钯催化剂的填充部位和被处理气体的排出口，并设置为该气体以此顺序流通。

4. 发明专利

TWI247811B 淨化劑之回收方法 METHOD OF RECOVERING A CLEANING AGENT 失效
简体标题：净化剂之回收方法 METHOD OF RECOVERING A CLEANING AGENT
公开(公告)号：TWI247811B
公开(公告)日：2006-01-21
申请号：TW090127635
申请日：2001-11-07
申请人：日本派歐尼股份有限公司 JAPAN PIONICS CO., LTD.
发明人：大塚健二 KENJI OTSUKA , 島田孝 SHIMADA, TAKASHI , 大杉實 , 川口敬
IPC分类号： C22B
CPC分类号： C22B3/44 , B01J23/92 , B01J23/94 , B01J38/60 , B01J38/68 , C22B7/009 , C22B15/00 , Y02P10/214 , Y02P10/234
摘要：本發明提供一種回收銅成分或錳成分之方法，其係從含有氧化銅之淨化劑、含有鹼性碳酸銅之淨化劑、含有氫氧化銅中回收銅成分或錳成分之方法之淨化劑、含有氧化銅與氧化錳之淨化劑。亦且，本發明提供一種回收銅成分或錳成分之方法，其係從含有鹼性碳酸銅之淨化劑、含有氫氧化銅之淨化劑、含有氧化銅與氧化錳之淨化劑中，透過與有害氣體接觸來回收銅成分、錳成分的方法；其中有害氣體中之有害成分為膦。依照本發明，該銅及/或錳成分係可自淨化劑中以循環形態而予以有效地回收。
简体摘要：本发明提供一种回收铜成分或锰成分之方法，其系从含有氧化铜之净化剂、含有碱性碳酸铜之净化剂、含有氢氧化铜中回收铜成分或锰成分之方法之净化剂、含有氧化铜与氧化锰之净化剂。亦且，本发明提供一种回收铜成分或锰成分之方法，其系从含有碱性碳酸铜之净化剂、含有氢氧化铜之净化剂、含有氧化铜与氧化锰之净化剂中，透过与有害气体接触来回收铜成分、锰成分的方法；其中有害气体中之有害成分为膦。依照本发明，该铜及/或锰成分系可自净化剂中以循环形态而予以有效地回收。

5. 发明专利

TW200832467A 電化學電容器模組 ELECTROCHEMICAL CAPACITOR MODULE 审中-公开
简体标题：电化学电容器模块 ELECTROCHEMICAL CAPACITOR MODULE
公开(公告)号：TW200832467A
公开(公告)日：2008-08-01
申请号：TW096135849
申请日：2007-09-27
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. , 日本派歐尼股份有限公司 JAPAN PIONICS CO., LTD.
发明人：伊崎寬正 IZAKI, KANSEI , 小礒保彥 KOISO, YASUHIKO , 矢田浩一 YADA, KOICHI , 川口敬 KAWAGUCHI, KEI
IPC分类号： H01G
CPC分类号： H01G2/04 , H01G2/106 , H01G9/08 , H01G9/14 , H01G9/155 , Y02E60/13
摘要：提供一種電化學電容器模組,其係於收納盒內配置複數個電化學電容器單元而成的電化學電容器模組,可大幅改善重複充放電所致的靜電容量、內部電阻等之性能降低。該電化學電容器模組係由將複數個電化學電容器單元,配置在具有隔板的收納盒內(該隔板係在兩端的固定板之間以規定的間隔固定而設置者),以在各隔板的間隙及固定板與隔板的間隙中成為1個或2個的方式作配置而成。
简体摘要：提供一种电化学电容器模块,其系于收纳盒内配置复数个电化学电容器单元而成的电化学电容器模块,可大幅改善重复充放电所致的静电容量、内部电阻等之性能降低。该电化学电容器模块系由将复数个电化学电容器单元,配置在具有隔板的收纳盒内(该隔板系在两端的固定板之间以规定的间隔固定而设置者),以在各隔板的间隙及固定板与隔板的间隙中成为1个或2个的方式作配置而成。

6. 发明专利

TWI278342B 排氣之處理方法及處理裝置 PROCESSING METHOD OF EXHAUST GAS AND PROCESSING APPARATUS OF EXHAUST GAS 失效
简体标题：排气之处理方法及处理设备 PROCESSING METHOD OF EXHAUST GAS AND PROCESSING APPARATUS OF EXHAUST GAS
公开(公告)号：TWI278342B
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：TW094134446
申请日：2005-10-03
申请人：日本派歐尼股份有限公司 JAPAN PIONICS CO., LTD.
发明人：島田孝 SHIMADA, TAKASHI , 武政登 TAKEMASA, NOBORU , 越智幸史 OCHI, KOSHI
IPC分类号： B01D
CPC分类号： B01D53/1493 , B01D53/18
摘要：本發明的課題在於針對從半導體製造工程排出的包含鹵素類氣體的排氣的淨化處理，提供不頻繁地將淨化劑更新、即使對包含反應性較高的氣體的乾燥排氣進行處理的情況下仍沒有火災的危險性、可容易使處理後的氣體中的鹵素類氣體濃度降低的處理方法和處理裝置。該方法由在吸附劑中添加鹵素類氣體吸收液的步驟(A)，與使從半導體製造工程排出的包含鹵素類氣體的排氣與上述吸附劑接觸的步驟(B)構成，從該排氣中去除該鹵素類氣體。另外，該處理裝置至少包括具有鹵素類氣體的排氣的導入口、吸附劑的填充部、將鹵素類氣體吸收液添加於該吸附劑的填充部中的機構，以及經處理的氣體的排出口。
简体摘要：本发明的课题在于针对从半导体制造工程排出的包含卤素类气体的排气的净化处理，提供不频繁地将净化剂更新、即使对包含反应性较高的气体的干燥排气进行处理的情况下仍没有火灾的危险性、可容易使处理后的气体中的卤素类气体浓度降低的处理方法和处理设备。该方法由在吸附剂中添加卤素类气体吸收液的步骤(A)，与使从半导体制造工程排出的包含卤素类气体的排气与上述吸附剂接触的步骤(B)构成，从该排气中去除该卤素类气体。另外，该处理设备至少包括具有卤素类气体的排气的导入口、吸附剂的填充部、将卤素类气体吸收液添加于该吸附剂的填充部中的机构，以及经处理的气体的排出口。

7. 发明专利

TW200519328A 有害氣體的淨化裝置 PURIFICATION DEVICE FOR HARMFUL GAS 审中-公开
简体标题：有害气体的净化设备 PURIFICATION DEVICE FOR HARMFUL GAS
公开(公告)号：TW200519328A
公开(公告)日：2005-06-16
申请号：TW093124910
申请日：2004-08-19
申请人：日本派歐尼股份有限公司 JAPAN PIONICS CO., LTD.
发明人：島田孝 SHIMADA, TAKASHI , 小礒保彥 KOISO, YASUHIKO , 村永直樹 MURANAGA, NAOKI , 笠谷尚史 KASAYA, TAKASHI , 池田友久 IKEDA, TOMOHISA
IPC分类号： F23G
摘要：本發明涉及一種有害氣體的淨化裝置。其提供一種淨化裝置，該淨化裝置可在不採用大型或複雜的結構的情況下，針對從半導體製造步驟排出的有害氣體，抑制處理物件有害氣體的分解率的降低，以及分解室壁面的粉狀物的堆積，長時間地，安全穩定地對該有害氣體進行淨化處理。一種有害氣體的淨化裝置，其通過燃燒燃料而獲得的燃燒排氣或火焰，對從半導體製造步驟排出的有害氣體進行熱分解，對其進行淨化處理，其按照將熱分解室的側面作為具有通氣性和隔熱性的壁，通過該壁，將含氧的氣體導入熱分解室的方式構成。
简体摘要：本发明涉及一种有害气体的净化设备。其提供一种净化设备，该净化设备可在不采用大型或复杂的结构的情况下，针对从半导体制造步骤排出的有害气体，抑制处理对象有害气体的分解率的降低，以及分解室壁面的粉状物的堆积，长时间地，安全稳定地对该有害气体进行净化处理。一种有害气体的净化设备，其通过燃烧燃料而获得的燃烧排气或火焰，对从半导体制造步骤排出的有害气体进行热分解，对其进行净化处理，其按照将热分解室的侧面作为具有通气性和隔热性的壁，通过该壁，将含氧的气体导入热分解室的方式构成。

8. 发明专利

TW200426368A 含有金屬化合物之氣體檢測劑及檢測方法 DETECTING AGENT AND DETECTION METHOD FOR A GAS CONTAINING METAL COMPOUND 审中-公开
简体标题：含有金属化合物之气体检测剂及检测方法 DETECTING AGENT AND DETECTION METHOD FOR A GAS CONTAINING METAL COMPOUND
公开(公告)号：TW200426368A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：TW093106903
申请日：2004-03-16
申请人：日本派歐尼股份有限公司 JAPAN PIONICS CO., LTD.
发明人：大塚健二 OTSUKA, KENJI , 名和洋二 NAWA, YOUJI , 田山龍規 TAYAMA, TATSUNORI
IPC分类号： G01N
CPC分类号： G01N31/223
摘要：本發明之課題係提供一種含有金屬化合物氣體之檢測劑及檢測方法，可以不受伴隨氣體氨等的影響、高靈敏度且容易地檢測出從半導體製造製程中排出的氣體內含有的金屬化合物。該檢測劑係在載體上載持有啶基偶氮化合物之變色成分所構成。另外，使含有金屬化合物的氣體與上述檢測劑接觸，藉由檢測該檢測劑的變色，來檢測金屬化合物。
简体摘要：本发明之课题系提供一种含有金属化合物气体之检测剂及检测方法，可以不受伴随气体氨等的影响、高灵敏度且容易地检测出从半导体制造制程中排出的气体内含有的金属化合物。该检测剂系在载体上载持有啶基偶氮化合物之变色成分所构成。另外，使含有金属化合物的气体与上述检测剂接触，借由检测该检测剂的变色，来检测金属化合物。

9. 发明专利

TW581742B 氨之精製方法有权
简体标题：氨之精制方法
公开(公告)号：TW581742B
公开(公告)日：2004-04-01
申请号：TW090118148
申请日：2001-07-25
申请人：日本派歐尼股份有限公司 JAPAN PIONICS CO., LTD.
发明人：大塚健二 KENJI OTSUKA , 荒川秩 SATOSHI ARAKAWA , 笠谷尚史 KASAYA, TAKASHI , 池田友久 IKEDA, TOMOHISA
IPC分类号： C01C
CPC分类号： C23C16/4402 , C01C1/024 , Y02P20/52
摘要：本發明係開發一種以氧化錳為有效成分之觸媒催化粗氨，以去除氨中雜質例如氧、二氧化碳等氨之精製方法。使粗氨和以氧化錳為有效成分之觸媒催化後，再與細孔徑4～10的合成沸石催化，去除其中所含的氧、二氧化碳、水等雜質。利用本發明可去除粗氨中所含極低濃度的氧、二氧化碳、水等雜質，即使在較高的催化溫度下氨也不會分解產生氫氣。
简体摘要：本发明系开发一种以氧化锰为有效成分之触媒催化粗氨，以去除氨中杂质例如氧、二氧化碳等氨之精制方法。使粗氨和以氧化锰为有效成分之触媒催化后，再与细孔径4～10的合成沸石催化，去除其中所含的氧、二氧化碳、水等杂质。利用本发明可去除粗氨中所含极低浓度的氧、二氧化碳、水等杂质，即使在较高的催化温度下氨也不会分解产生氢气。

10. 发明专利

TW200401840A 汽化器及汽化供給裝置 VAPORIZER AND APPARATUS FOR VAPORIZING AND SUPPLYING 审中-公开
简体标题：汽化器及汽化供给设备 VAPORIZER AND APPARATUS FOR VAPORIZING AND SUPPLYING
公开(公告)号：TW200401840A
公开(公告)日：2004-02-01
申请号：TW092112519
申请日：2003-05-08
申请人：日本派歐尼股份有限公司 JAPAN PIONICS CO., LTD.
发明人：高松勇吉 YUKICHI TAKAMATSU , 十七里和昭 KAZUAKI TONARI , 岩田充弘 MITSUHIRO IWATA , 桐山晃二 KOJI KIRIYAMA , 淺野彰良 AKIRA ASANO
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C16/4485 , Y10S261/65
摘要：本發明提供即使在減少隨CVD原料供給的載氣的供給量來進行汽化供給時，也能夠防止汽化室內固體CVD原料的析出和附著，並且能夠以所需的濃度和流量極為有效地汽化供給的汽化器及汽化供給裝置。製作CVD原料供給部至少具有CVD原料流路和載氣流路，並具備CVD原料的流路產生CVD原料的壓力損失的機構的汽化器。製作在液體流量控制部和汽化器之間具備產生CVD原料壓力損失的機構的汽化供給裝置。
简体摘要：本发明提供即使在减少随CVD原料供给的载气的供给量来进行汽化供给时，也能够防止汽化室内固体CVD原料的析出和附着，并且能够以所需的浓度和流量极为有效地汽化供给的汽化器及汽化供给设备。制作CVD原料供给部至少具有CVD原料流路和载气流路，并具备CVD原料的流路产生CVD原料的压力损失的机构的汽化器。制作在液体流量控制部和汽化器之间具备产生CVD原料压力损失的机构的汽化供给设备。

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