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1. 发明专利

TW201623211A 製造α－羥基羧酸酯且循環氨的方法审中-公开
简体标题：制造α－羟基羧酸酯且循环氨的方法
公开(公告)号：TW201623211A
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW104129527
申请日：2015-09-07
申请人：贏創羅恩有限責任公司 , EVONIK ROHM GMBH
发明人：瑞爾史蒂芬 , KRILL, STEFFEN , 艾特莎貝萊德 , AIT AISSA, BELAID , 梅亞歷山大 , MAY, ALEXANDER , 崔斯闊馬瑟 , TRESKOW, MARCEL
IPC分类号： C07C67/20 , C07C67/48 , C07C69/675
CPC分类号： C07C67/20 , B01J20/20 , C01C1/024 , C01C3/0208 , C01C3/0212 , C07C69/675
摘要：本發明係關於一種自氰化氫製造α-羥基羧酸酯的方法，其中對應的α-羥基羧醯胺之醇解反應步驟中形成的氨在純化步驟之後循環進入氰化氫製程。
简体摘要：本发明系关于一种自氰化氢制造α-羟基羧酸酯的方法，其中对应的α-羟基羧酰胺之醇解反应步骤中形成的氨在纯化步骤之后循环进入氰化氢制程。

2. 发明专利

TWI312292B 氫化物氣體的純化方法 PURIFICATION OF HYDRIDE GASES 失效
简体标题：氢化物气体的纯化方法 PURIFICATION OF HYDRIDE GASES
公开(公告)号：TWI312292B
公开(公告)日：2009-07-21
申请号：TW093137670
申请日：2004-12-06
申请人：氣體產品及化學品股份公司 AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
发明人：吳定軍 WU, DINGJUN , 提蒙斯‧克里斯多夫‧戈登 GOLDEN, TIMOTHY CHRISTOPHER , 忠‧克里斯汀‧董 DONG, CHUN CHRISTINE , 保羅‧珍‧巴塔維歐 BATTAVIO, PAULA JEAN
IPC分类号： B01D
CPC分类号： B01J20/041 , B01D53/02 , B01J20/06 , B01J20/08 , B01J20/103 , B01J20/18 , B01J20/20 , B01J20/28057 , B01J20/3204 , B01J20/3236 , B01J20/3289 , B01J2220/42 , C01B3/56 , C01B6/34 , C01B21/0455 , C01B23/0057 , C01B25/06 , C01B33/046 , C01B2203/042 , C01B2203/0465 , C01B2203/0475 , C01B2203/0495 , C01B2210/0042 , C01B2210/0045 , C01B2210/0051 , C01B2210/0062 , C01C1/024 , Y10S95/90 , Y10S95/901
摘要：從不純氫化物氣體中除去污染物的純化物質,包含負載在多孔載體上的經還原的金屬氧化物和乾燥劑。多孔載體可以選自活性碳、氧化鋁、氧化矽、沸石、氧化矽鋁、氧化鈦、氧化鋯及其混合物。經還原的金屬氧化物可以包括選自第Ⅰ族鹼金屬(鋰、鈉、鉀、銣和銫),第Ⅱ族鹼土金屬(鎂、鈣、鍶和鋇)和過渡金屬(錳、鎳、鋅、鐵、鉬、鎢、鈦、釩、鈷和銠)中的一種或多種金屬。乾燥劑可以選自吸濕的金屬鹽、沸石、單金屬氧化物、混合金屬氧化物及其混合物。
简体摘要：从不纯氢化物气体中除去污染物的纯化物质,包含负载在多孔载体上的经还原的金属氧化物和干燥剂。多孔载体可以选自活性碳、氧化铝、氧化硅、沸石、氧化硅铝、氧化钛、氧化锆及其混合物。经还原的金属氧化物可以包括选自第Ⅰ族碱金属(锂、钠、钾、铷和铯),第Ⅱ族碱土金属(镁、钙、锶和钡)和过渡金属(锰、镍、锌、铁、钼、钨、钛、钒、钴和铑)中的一种或多种金属。干燥剂可以选自吸湿的金属盐、沸石、单金属氧化物、混合金属氧化物及其混合物。

3. 发明专利

TW200607760A 超純無水氨之現場產生、純化及分配 ON-SITE GENERATION, PURIFICATION, AND DISTRIBUTION OF ULTRA-PURE ANHYDROUS AMMONIA 审中-公开
简体标题：超纯无水氨之现场产生、纯化及分配 ON-SITE GENERATION, PURIFICATION, AND DISTRIBUTION OF ULTRA-PURE ANHYDROUS AMMONIA
公开(公告)号：TW200607760A
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：TW094115888
申请日：2005-05-17
申请人：曼瑟森三汽油公司 MATHESON TRI-GAS, INC.
发明人：湯瑪斯A 迪帕托 DEL PRATO, THOMAS A. , 哈羅德G 史派瑟 SPICER, HAROLD G.
IPC分类号： C01C , F23J
CPC分类号： C01C1/086 , B01D53/79 , C01C1/024 , C01P2006/80
摘要：一種在現場，例如在半導體製造設施，產生、純化及使用超純氨之系統及方法。此系統包括裝配來產生包括二氧化碳、水及其他雜質的氨之氨產生系統。製造設施內的純化系統裝備有該產生系統並且連結於該產生系統的輸出處。此純化系統處理來自氨產生系統的流出物以實質地去除所有二氧化碳、水及其他雜質，以製造超純氨的出口流。此系統進一步包括安置在相同製造設施的使用點系統以利用該超純氨出口流。
简体摘要：一种在现场，例如在半导体制造设施，产生、纯化及使用超纯氨之系统及方法。此系统包括装配来产生包括二氧化碳、水及其他杂质的氨之氨产生系统。制造设施内的纯化系统装备有该产生系统并且链接于该产生系统的输出处。此纯化系统处理来自氨产生系统的流出物以实质地去除所有二氧化碳、水及其他杂质，以制造超纯氨的出口流。此系统进一步包括安置在相同制造设施的使用点系统以利用该超纯氨出口流。

4. 发明专利

TW201641425A 油分去除裝置及使用其之氨的純化裝置审中-公开
简体标题：油分去除设备及使用其之氨的纯化设备
公开(公告)号：TW201641425A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW104119075
申请日：2015-06-12
申请人：日本派歐尼股份有限公司 , JAPAN PIONICS CO., LTD.
发明人：荒川秩 , ARAKAWA, SATOSHI , 秋山敏雄 , AKIYAMA, TOSHIO , 矢田浩一 , YADA, KOICHI , 槙田敦哉 , MAKITA, ATSUYA
IPC分类号： C01C1/02 , B01D53/04 , B01D29/11 , B01D29/19
CPC分类号： B01D53/04 , B01D46/0036 , B01D46/521 , B01D46/543 , B01D53/0431 , B01D2253/102 , B01D2253/108 , B01D2253/1122 , B01D2255/20753 , B01D2257/702 , C01C1/024 , Y02P20/129 , Y02P20/52
摘要：本發明提供一種氨的純化手段，其能夠從粗氨中去除作為給氣相成長帶來不良影響的原因的油分等雜質，並且連續供給至氮化鎵系化合物半導體製程，該粗氨為作為工業用而市售的廉價的粗氨、以及從氮化鎵系化合物半導體的製造程序中回收的粗氨。一種油分去除裝置，其從含有作為雜質的油分的粗氨中去除油分，其特徵在於，由油分過濾筒和油分吸附筒構成，該油分過濾筒收納有過濾元件，該過濾元件藉由使加工成褶狀、蜂巢狀或立體構造狀的過濾膜呈圓筒狀成形而成，該油分吸附筒填充有活性碳。更進一步，一種氨的純化裝置，其除了具有上述油分去除裝置以外，還具有觸媒筒以及吸附筒，該觸媒筒填充有將鎳作為有效成分的觸媒，該吸附筒填充有合成沸石。
简体摘要：本发明提供一种氨的纯化手段，其能够从粗氨中去除作为给气相成长带来不良影响的原因的油分等杂质，并且连续供给至氮化镓系化合物半导体制程，该粗氨为作为工业用而市售的廉价的粗氨、以及从氮化镓系化合物半导体的制造进程中回收的粗氨。一种油分去除设备，其从含有作为杂质的油分的粗氨中去除油分，其特征在于，由油分过滤筒和油分吸附筒构成，该油分过滤筒收纳有过滤组件，该过滤组件借由使加工成褶状、蜂嵌套或三維构造状的过滤膜呈圆筒状成形而成，该油分吸附筒填充有活性碳。更进一步，一种氨的纯化设备，其除了具有上述油分去除设备以外，还具有触媒筒以及吸附筒，该触媒筒填充有将镍作为有效成分的触媒，该吸附筒填充有合成沸石。

5. 发明专利

TW201400414A 氨純化系統审中-公开
简体标题：氨纯化系统
公开(公告)号：TW201400414A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW101150684
申请日：2012-12-27
申请人：住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：田井慎一 , TAI, SHINICHI , 森本茂 , MORIMOTO, SHIGERU , 津野修司 , TSUNO, SHUJI
IPC分类号： C01C1/02 , B01D53/02
CPC分类号： B01J20/08 , B01D53/002 , B01D53/04 , B01D2259/403 , B01D2259/4146 , B01J20/103 , B01J20/18 , B01J20/20 , B01J20/28052 , B01J20/3408 , B01J20/3416 , B01J20/3433 , B01J20/3483 , B01J2220/603 , B01J2220/606 , C01C1/024
摘要：本發明提供一種氨純化系統，其可防止最終純化所得之氨之純度產生較大偏差。於本發明之氨純化系統(100)中，控制單元(2)以如下方式控制原料貯存槽(1)：當原料貯存槽(1)中之液相之容積相對於內部空間之總容積的比為預先規定之閥值以上時，自液相導出粗氨，當上述容積比未達上述閥值時，自氣相導出粗氨。繼而，吸附單元(4)藉由吸附劑將自原料貯存槽(1)之氣相導出之氣體狀之粗氨、或自氣化器(3)導出之氣體狀之氨中所含的雜質吸附去除，並導出氣體狀之氨。
简体摘要：本发明提供一种氨纯化系统，其可防止最终纯化所得之氨之纯度产生较大偏差。于本发明之氨纯化系统(100)中，控制单元(2)以如下方式控制原料贮存槽(1)：当原料贮存槽(1)中之液相之容积相对于内部空间之总容积的比为预先规定之阀值以上时，自液相导出粗氨，当上述容积比未达上述阀值时，自气相导出粗氨。继而，吸附单元(4)借由吸附剂将自原料贮存槽(1)之气相导出之气体状之粗氨、或自气化器(3)导出之气体状之氨中所含的杂质吸附去除，并导出气体状之氨。

6. 发明专利

TWI240646B 從氨中移除水的吸附劑 ADSORBENT FOR WATER REMOVAL FROM AMMONIA 失效
简体标题：从氨中移除水的吸附剂 ADSORBENT FOR WATER REMOVAL FROM AMMONIA
公开(公告)号：TWI240646B
公开(公告)日：2005-10-01
申请号：TW092118246
申请日：2003-07-03
申请人：氣體產品及化學品股份公司 AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
发明人：忠.克里斯汀.董 CHUN CHRISTINE DONG , 馬乎卡.巴斯卡拉.雷 MADHUKAR BHASKARA RAO , 吳定軍 DINGJUN WU
IPC分类号： B01D
CPC分类号： B01J20/28078 , B01J20/0211 , B01J20/0222 , B01J20/0225 , B01J20/0229 , B01J20/0244 , B01J20/0248 , B01J20/0281 , B01J20/0288 , B01J20/045 , B01J20/046 , B01J20/08 , B01J20/28057 , B01J20/3204 , B01J20/3234 , B01J20/3236 , B01J20/3441 , B01J20/3483 , C01C1/024 , C01P2006/82
摘要：本發明提供一種從包含氨之流體中移除水及/或其他含氧雜質到ppb程度的吸附劑以及其製造及使用的方法。此吸附劑最好包含具有多孔且表面積範圍在大約100到大約2500m2/g之間的基材以及一種沈積在基材之至少一部分的化合物。在某些具體的實例中，此種化合物包括至少一種由銨(I)、鋰(I)、鈉(I)、鉀(I)、銫(I)；鎂(II)、鈣(II)、鍶(II)、鋇(II)、錳(II)、鎳(II)、鐵(II)、鋅(II)：鋁(III)、銦(III)、鐵(III)及鋯(IV)或是其組合所組成之族群的陽離子，此種陽離子與由一種鹵化物、硫化物、或硫酸鹽所組成之族群的陰離子以離子方式結合。
简体摘要：本发明提供一种从包含氨之流体中移除水及/或其他含氧杂质到ppb程度的吸附剂以及其制造及使用的方法。此吸附剂最好包含具有多孔且表面积范围在大约100到大约2500m2/g之间的基材以及一种沉积在基材之至少一部分的化合物。在某些具体的实例中，此种化合物包括至少一种由铵(I)、锂(I)、钠(I)、钾(I)、铯(I)；镁(II)、钙(II)、锶(II)、钡(II)、锰(II)、镍(II)、铁(II)、锌(II)：铝(III)、铟(III)、铁(III)及锆(IV)或是其组合所组成之族群的阳离子，此种阳离子与由一种卤化物、硫化物、或硫酸盐所组成之族群的阴离子以离子方式结合。

7. 发明专利

TW200520833A 氫化物氣體的純化方法 PURIFICATION OF HYDRIDE GASES 失效
简体标题：氢化物气体的纯化方法 PURIFICATION OF HYDRIDE GASES
公开(公告)号：TW200520833A
公开(公告)日：2005-07-01
申请号：TW093137670
申请日：2004-12-06
申请人：氣體產品及化學品股份公司 AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
发明人：吳定軍 WU, DINGJUN , 提蒙斯‧克里斯多夫‧戈登 GOLDEN, TIMOTHY CHRISTOPHER , 忠‧克里斯汀‧董 DONG, CHUN CHRISTINE , 保羅‧珍‧巴塔維歐 BATTAVIO, PAULA JEAN
IPC分类号： B01D
CPC分类号： B01J20/041 , B01D53/02 , B01J20/06 , B01J20/08 , B01J20/103 , B01J20/18 , B01J20/20 , B01J20/28057 , B01J20/3204 , B01J20/3236 , B01J20/3289 , B01J2220/42 , C01B3/56 , C01B6/34 , C01B21/0455 , C01B23/0057 , C01B25/06 , C01B33/046 , C01B2203/042 , C01B2203/0465 , C01B2203/0475 , C01B2203/0495 , C01B2210/0042 , C01B2210/0045 , C01B2210/0051 , C01B2210/0062 , C01C1/024 , Y10S95/90 , Y10S95/901
摘要：從不純氫化物氣體中除去污染物的純化物質，包含負載在多孔載體上的經還原的金屬氧化物和乾燥劑。多孔載體可以選自活性碳、氧化鋁、氧化矽、沸石、氧化矽鋁、氧化鈦、氧化鋯及其混合物。經還原的金屬氧化物可以包括選自第I族鹼金屬(鋰、鈉、鉀、銣和銫)，第Ⅱ族鹼土金屬(鎂、鈣、鍶和鋇)和過渡金屬(錳、鎳、鋅、鐵、鉬、鎢、鈦、釩、鈷和銠)中的一種或多種金屬。乾燥劑可以選自吸濕的金屬鹽、沸石、單金屬氧化物、混合金屬氧化物及其混合物。
简体摘要：从不纯氢化物气体中除去污染物的纯化物质，包含负载在多孔载体上的经还原的金属氧化物和干燥剂。多孔载体可以选自活性碳、氧化铝、氧化硅、沸石、氧化硅铝、氧化钛、氧化锆及其混合物。经还原的金属氧化物可以包括选自第I族碱金属(锂、钠、钾、铷和铯)，第Ⅱ族碱土金属(镁、钙、锶和钡)和过渡金属(锰、镍、锌、铁、钼、钨、钛、钒、钴和铑)中的一种或多种金属。干燥剂可以选自吸湿的金属盐、沸石、单金属氧化物、混合金属氧化物及其混合物。

8. 发明专利

TW581742B 氨之精製方法有权
简体标题：氨之精制方法
公开(公告)号：TW581742B
公开(公告)日：2004-04-01
申请号：TW090118148
申请日：2001-07-25
申请人：日本派歐尼股份有限公司 JAPAN PIONICS CO., LTD.
发明人：大塚健二 KENJI OTSUKA , 荒川秩 SATOSHI ARAKAWA , 笠谷尚史 KASAYA, TAKASHI , 池田友久 IKEDA, TOMOHISA
IPC分类号： C01C
CPC分类号： C23C16/4402 , C01C1/024 , Y02P20/52
摘要：本發明係開發一種以氧化錳為有效成分之觸媒催化粗氨，以去除氨中雜質例如氧、二氧化碳等氨之精製方法。使粗氨和以氧化錳為有效成分之觸媒催化後，再與細孔徑4～10的合成沸石催化，去除其中所含的氧、二氧化碳、水等雜質。利用本發明可去除粗氨中所含極低濃度的氧、二氧化碳、水等雜質，即使在較高的催化溫度下氨也不會分解產生氫氣。
简体摘要：本发明系开发一种以氧化锰为有效成分之触媒催化粗氨，以去除氨中杂质例如氧、二氧化碳等氨之精制方法。使粗氨和以氧化锰为有效成分之触媒催化后，再与细孔径4～10的合成沸石催化，去除其中所含的氧、二氧化碳、水等杂质。利用本发明可去除粗氨中所含极低浓度的氧、二氧化碳、水等杂质，即使在较高的催化温度下氨也不会分解产生氢气。

9. 发明专利

TW550367B 製造純化液體之方法及裝置失效
简体标题：制造纯化液体之方法及设备
公开(公告)号：TW550367B
公开(公告)日：2003-09-01
申请号：TW091119951
申请日：2002-09-02
申请人： BOC集團公司
发明人：瓦特H 懷特陸克
IPC分类号： F25J
CPC分类号： F25J3/08 , C01B21/20 , C01B32/50 , C01C1/024 , C01P2006/80 , C07C17/38 , C07C17/383 , F25J2200/90 , F25J2215/80 , F25J2235/80 , F25J2270/12 , F25J2270/60 , F25J2280/02 , F25J2290/62 , Y02P20/124 , Y02P20/129 , Y10S62/905 , C07C19/08
摘要：本發明整體上來說提出一種純化液體之方法及裝置。更特定言之，藉由將一液流導入一純化用容器內之方式進行大量流體的純化，該容器包括一用來形成一純化蒸氣的蒸餾室及一用來收集一由該純化蒸氣冷凝而成之純化液體的環狀室。一致冷系統藉由將該致冷系統之一部分內所產生的廢熱導引做為該致冷系統之另一部分內的加熱負載之方式於該純化方法中提供熱力效率。該方法及裝置可應用於產製純化二氧化碳、一氧化二氮、氨、以及氟碳化合物。
简体摘要：本发明整体上来说提出一种纯化液体之方法及设备。更特定言之，借由将一液流导入一纯化用容器内之方式进行大量流体的纯化，该容器包括一用来形成一纯化蒸气的蒸馏室及一用来收集一由该纯化蒸气冷凝而成之纯化液体的环状室。一致冷系统借由将该致冷系统之一部分内所产生的废热导引做为该致冷系统之另一部分内的加热负载之方式于该纯化方法中提供热力效率。该方法及设备可应用于产制纯化二氧化碳、一氧化二氮、氨、以及氟碳化合物。

10. 发明专利

TW381976B 純化氨之方法及裝置失效
简体标题：纯化氨之方法及设备
公开(公告)号：TW381976B
公开(公告)日：2000-02-11
申请号：TW088106935
申请日：1999-04-29
申请人： BOC集團公司
发明人：文程紀 , 亞瑟I.雪利 , 艾特M.艾沙利 , 派特J.沙可史基
IPC分类号： B01D , C01B
CPC分类号： C01C1/024
摘要：氨以膜單元純化以濃縮氨和/或氨和水氣。在溫及變動的吸附單元中移除水氣。之後，將此純化所得產物加以部分濃縮以移除他種雜質的輕質組份，之後，部分蒸發而得到重質組份極少的加壓氨產物。如果進料流先通過膜單元，可滲透的流體中的雜質(如:二氧化碳、氮和甲烷)極少。之後，無法在膜單元中被移除的水氣和任何二氧化碳藉由吸附單元而移除。之後，藉由膜和吸附單元的作用而得到的流體經部分濃縮而製得輕質雜質極少的液體。之後，使這樣的液體在產物壓力槽中部分蒸汽化，以製得重質雜質極少的氨蒸汽，且其處於所欲操作壓力。
简体摘要：氨以膜单元纯化以浓缩氨和/或氨和水汽。在温及变动的吸附单元中移除水汽。之后，将此纯化所得产物加以部分浓缩以移除他种杂质的轻质组份，之后，部分蒸发而得到重质组份极少的加压氨产物。如果进料流先通过膜单元，可渗透的流体中的杂质(如:二氧化碳、氮和甲烷)极少。之后，无法在膜单元中被移除的水汽和任何二氧化碳借由吸附单元而移除。之后，借由膜和吸附单元的作用而得到的流体经部分浓缩而制得轻质杂质极少的液体。之后，使这样的液体在产物压力槽中部分蒸汽化，以制得重质杂质极少的氨蒸汽，且其处于所欲操作压力。

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