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1. 发明专利

TWI684670B 用於塗佈大型基板之裝置有权
简体标题：用于涂布大型基板之设备
公开(公告)号：TWI684670B
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：TW104138549
申请日：2015-11-20
申请人：德商愛思強歐洲公司 , AIXTRON SE
发明人：詹森亨里克斯威廉默斯阿洛伊修斯 , JANSSEN, HENRICUS WILHELMUS ALOYSIUS , 齊岑伯恩哈德 , ZINTZEN, BERNHARD , 貝克斯帕特里克瑪麗安東尼 , BACKES, PATRICK MARIE ANTONIUS
IPC分类号： C23C16/46 , C23C16/455 , C23C16/458

2. 发明专利

TWI683700B 用於塗佈大型基板之ＣＶＤ或ＰＶＤ反應器有权
简体标题：用于涂布大型基板之ＣＶＤ或ＰＶＤ反应器
公开(公告)号：TWI683700B
公开(公告)日：2020-02-01
申请号：TW104138547
申请日：2015-11-20
申请人：德商愛思強歐洲公司 , AIXTRON SE
发明人：貝克斯帕特里克瑪麗安東尼 , BACKES, PATRICK MARIE ANTONIUS , 阿卜杜勒卡里姆羅傑 , ABDEL-KARIM, ROGER
IPC分类号： B01J3/03 , C23C14/12 , C23C14/56 , C23C16/455 , C23C16/54

3. 发明专利

TWI683019B 用數種液態或固態起始材料為ＣＶＤ裝置或ＰＶＤ裝置產生蒸汽之裝置及方法有权
简体标题：用数种液态或固态起始材料为ＣＶＤ设备或ＰＶＤ设备产生蒸汽之设备及方法
公开(公告)号：TWI683019B
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：TW104121095
申请日：2015-06-30
申请人：德商愛思強歐洲公司 , AIXTRON SE
发明人：朗麥克 , LONG, MICHAEL
IPC分类号： C23C14/22 , C23C16/448 , F22B1/02

4. 发明专利

TWI681494B 具有用於支承基板之單體式承凸的基板保持裝置有权
简体标题：具有用于支承基板之单体式承凸的基板保持设备
公开(公告)号：TWI681494B
公开(公告)日：2020-01-01
申请号：TW104139402
申请日：2015-11-26
申请人：德商愛思強歐洲公司 , AIXTRON SE
发明人：舒凡愛德華多奧斯曼皮內羅 , SUFAN, EDUARDO OSMAN PINIERO , 克拉森丹尼爾 , 博伊德亞登 , BOYD, ADAM
IPC分类号： H01L21/68 , C23C14/50 , C23C16/458

5. 发明专利

TWI679300B ＣＶＤ反應器中經塗布之扁平組件有权
简体标题：ＣＶＤ反应器中经涂布之扁平组件
公开(公告)号：TWI679300B
公开(公告)日：2019-12-11
申请号：TW104121401
申请日：2015-07-01
申请人：德商愛思強歐洲公司 , AIXTRON SE
发明人：科爾柏格馬塞爾 , KOLLBERG, MARCEL , 布雷恩丹尼爾 , BRIEN, DANIEL
IPC分类号： C23C16/54 , C23C16/455

6. 发明专利

TWI668316B 在數個位置上被饋送稀釋用氣流的經調溫之進氣管有权
简体标题：在数个位置上被馈送稀释用气流的经调温之进气管
公开(公告)号：TWI668316B
公开(公告)日：2019-08-11
申请号：TW104134216
申请日：2015-10-19
申请人：德商愛思強歐洲公司 , AIXTRON SE
发明人：葛斯多夫馬庫斯 , GERSDORFF, MARKUS , 道爾斯伯格馬丁 , DAUELSBERG, MARTIN , 帕加達拉戈琵巴斯卡爾 , PAGADALA GOPI, BASKAR , 朗麥克 , LONG, MICHAEL
IPC分类号： C23C14/12 , C23C14/22 , C23C14/24 , C23C14/54

7. 发明专利

TW201902579A 粉末進料機审中-公开
简体标题：粉末进料机
公开(公告)号：TW201902579A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107110305
申请日：2018-03-26
申请人：德商愛思強歐洲公司 , AIXTRON SE
发明人：特林博恩卡爾漢茨 , TRIMBORN, KARL-HEINZ , 艾希勒安迪 , EICHLER, ANDY , 朗麥克 , LONG, MICHAEL
IPC分类号： B05B7/14 , B05B7/28 , B65G53/40
摘要：本發明係有關於一種用於定量輸出粉末之裝置，包含具有第一進料槽(6)、可圍繞旋轉軸(4)在殼體(1)中被旋轉驅動之進料元件(3)，該進料元件具有裝填體積(14)，在該裝填體積中進料槽(6)可用該粉末裝填，其中，在清空點(11)上設有用於產生流體流之構件(19)，該粉末可藉由該構件自第一進料槽(6)輸入排出體積(13)。第一進料槽(6)朝進料元件(3)之邊緣(3')曝露。進料元件(3)被環形元件(5)包圍，該環形元件具有沿徑向朝內曝露之第二進料槽(7)，其中，環形元件(5)位置固定地對應於殼體(1)。
简体摘要：本发明系有关于一种用于定量输出粉末之设备，包含具有第一进料槽(6)、可围绕旋转轴(4)在壳体(1)中被旋转驱动之进料组件(3)，该进料组件具有装填体积(14)，在该装填体积中进料槽(6)可用该粉末装填，其中，在清空点(11)上设有用于产生流体流之构件(19)，该粉末可借由该构件自第一进料槽(6)输入排出体积(13)。第一进料槽(6)朝进料组件(3)之边缘(3')曝露。进料组件(3)被环形组件(5)包围，该环形组件具有沿径向朝内曝露之第二进料槽(7)，其中，环形组件(5)位置固定地对应于壳体(1)。

8. 发明专利

TWI694168B 用於將製程氣體混合物供給至ＣＶＤ或ＰＶＤ塗佈裝置之裝置及方法有权
简体标题：用于将制程气体混合物供给至ＣＶＤ或ＰＶＤ涂布设备之设备及方法
公开(公告)号：TWI694168B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW104114708
申请日：2015-05-08
申请人：德商愛思強歐洲公司 , AIXTRON SE
发明人：戈琵巴斯卡爾帕加達拉 , GOPI, BASKAR PAGADALA , 皮內羅愛德華多奧斯曼舒凡 , PINEIRO, EDUARDO OSMAN SUFAN , 葛斯多夫馬庫斯 , GERSDORFF, MARKUS , 賈科柏馬庫斯 , JAKOB, MARKUS , 諾依曼斯特芬 , NEUMANN, STEFFEN
IPC分类号： C23C16/455 , C23C14/22 , B01F3/02 , B01F5/06 , B05B1/34

9. 发明专利

TWI684655B 用於沉積層於基板上之裝置有权
简体标题：用于沉积层于基板上之设备
公开(公告)号：TWI684655B
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：TW104139149
申请日：2015-11-25
申请人：德商愛思強歐洲公司 , AIXTRON SE
发明人：朗麥克 , LONG, MICHAEL
IPC分类号： C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/56 , C23C16/455

10. 发明专利

TWI675935B 反應器上包含方向控制閥之氣體混合裝置有权
简体标题：反应器上包含方向控制阀之气体混合设备
公开(公告)号：TWI675935B
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：TW103146042
申请日：2014-12-29
申请人：德商愛思強歐洲公司 , AIXTRON SE
发明人：波可安德烈亞斯
IPC分类号： C23C16/455 , B01F13/00

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