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2. 发明专利

TW201602398A 用於將製程氣體混合物供給至ＣＶＤ或ＰＶＤ塗佈裝置之裝置及方法审中-公开
简体标题：用于将制程气体混合物供给至ＣＶＤ或ＰＶＤ涂布设备之设备及方法
公开(公告)号：TW201602398A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW104114708
申请日：2015-05-08
申请人：愛思強歐洲公司 , AIXTRON SE
发明人：戈琵巴斯卡爾帕加達拉 , GOPI, BASKAR PAGADALA , 皮內羅愛德華多奧斯曼舒凡 , PINEIRO, EDUARDO OSMAN SUFAN , 葛斯多夫馬庫斯 , GERSDORFF, MARKUS , 賈科柏馬庫斯 , JAKOB, MARKUS , 諾依曼斯特芬 , NEUMANN, STEFFEN
IPC分类号： C23C16/455 , C23C14/22 , B01F3/02 , B01F5/06 , B05B1/34
CPC分类号： C23C16/45512 , B01F3/02 , B01F5/0615
摘要：本發明首先係有關一種供氣裝置，包括：進入通道(22)，用於將分別由一氣體源(21)提供之單一氣流送入第一混合室(12)，其中在該第一混合室(12)中，特定言之藉由一或數個第一氣體致偏元件(13)使該等單一氣流發生單一偏轉或多重偏轉並將該等單一氣流混合；溢流障壁(14)，由所有單一氣流組成之第一氣流越過該溢流障壁而由該第一混合室(12)進入第二混合室(15)，在該第二混合室中，特定言之藉由第二氣體致偏元件(16)使該第一氣流發生單一偏轉或多重偏轉；及排氣通道(8)，用於將該氣流由該第二混合室(15)排出至CVD或PVD塗佈裝置(1)之進氣機構(5)。提出以下創新方案：該等單一氣流在該等氣體源(21)與該進氣機構(5)間具有相同之有效徑長。本發明另亦有關一種將製程氣體供給至CVD或PVD塗佈裝置之進氣機構(9)的方法，其特徵在於，該等氣體在該氣體源(21)與該進氣機構(5)間之路徑上的有效停留時間至多相差十毫秒。
简体摘要：本发明首先系有关一种供气设备，包括：进入信道(22)，用于将分别由一气体源(21)提供之单一气流送入第一混合室(12)，其中在该第一混合室(12)中，特定言之借由一或数个第一气体致偏组件(13)使该等单一气流发生单一偏转或多重偏转并将该等单一气流混合；溢流障壁(14)，由所有单一气流组成之第一气流越过该溢流障壁而由该第一混合室(12)进入第二混合室(15)，在该第二混合室中，特定言之借由第二气体致偏组件(16)使该第一气流发生单一偏转或多重偏转；及排气信道(8)，用于将该气流由该第二混合室(15)排出至CVD或PVD涂布设备(1)之进气机构(5)。提出以下创新方案：该等单一气流在该等气体源(21)与该进气机构(5)间具有相同之有效径长。本发明另亦有关一种将制程气体供给至CVD或PVD涂布设备之进气机构(9)的方法，其特征在于，该等气体在该气体源(21)与该进气机构(5)间之路径上的有效停留时间至多相差十毫秒。

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