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81. 发明专利

TWI572901B 高效率之線成形光學系統及方法有权
简体标题：高效率之线成形光学系统及方法
公开(公告)号：TWI572901B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW104122833
申请日：2015-07-14
申请人：精微超科技公司 , ULTRATECH, INC.
发明人：阿尼契科夫塞爾瑰 , ANIKITCHEV, SERGUEI
IPC分类号： G02B27/09 , B23K26/064 , B23K26/073
CPC分类号： G02B27/0927 , B23K26/0006 , B23K26/0066 , B23K26/0643 , B23K26/0648 , B23K26/066 , B23K26/0738 , B23K26/082 , B23K26/0823 , B23K26/083 , B23K26/352 , B23K26/354 , B23K2201/40 , B23K2203/56 , G02B17/008 , G02B17/061 , G02B27/0983 , G02B27/0988 , H01L21/2253 , H01L21/268 , H01L21/322 , H01L21/324 , H01L21/428 , H01L21/477

82. 发明专利

TWI565972B 光學透鏡以及應用該光學透鏡的發光元件有权
简体标题：光学透镜以及应用该光学透镜的发光组件
公开(公告)号：TWI565972B
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：TW101149431
申请日：2012-12-24
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：王何立穎 , WANG HE, LI YING
IPC分类号： G02B27/09 , G02B17/08
CPC分类号： F21V13/04 , F21K9/60 , F21K9/65 , G02B6/00 , G02B19/0028 , G02B19/0061 , G02B19/0071

83. 发明专利

TW201604588A 高效率之線成形光學系統及方法审中-公开
简体标题：高效率之线成形光学系统及方法
公开(公告)号：TW201604588A
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：TW104122833
申请日：2015-07-14
申请人：精微超科技公司 , ULTRATECH, INC.
发明人：阿尼契科夫塞爾瑰 , ANIKITCHEV, SERGUEI
IPC分类号： G02B27/09 , B23K26/064 , B23K26/073
CPC分类号： G02B27/0927 , B23K26/0006 , B23K26/0066 , B23K26/0643 , B23K26/0648 , B23K26/066 , B23K26/0738 , B23K26/082 , B23K26/0823 , B23K26/083 , B23K26/352 , B23K26/354 , B23K2201/40 , B23K2203/56 , G02B17/008 , G02B17/061 , G02B27/0983 , G02B27/0988 , H01L21/2253 , H01L21/268 , H01L21/322 , H01L21/324 , H01L21/428 , H01L21/477
摘要：一種線成形光學系統及方法揭露以高效率成形一線影像，所述方法包含形成雷射光束，雷射光束包含第一強度分布，第一強度分布於第一方向具有高斯分布，以及傳送至少50%之雷射光束於第一方向以形成第一透射光；所述方法亦包含聚焦第一透射光於中間影像平面以定義第二強度分布，第二強度分布具有中心峰及緊鄰中心峰之複數第一側峰，於各第一側峰之範圍內修截第二強度分布以定義第二透射光，接著由第二透射光形成線影像於影像平面。
简体摘要：一种线成形光学系统及方法揭露以高效率成形一线影像，所述方法包含形成激光光束，激光光束包含第一强度分布，第一强度分布于第一方向具有高斯分布，以及发送至少50%之激光光束于第一方向以形成第一透射光；所述方法亦包含聚焦第一透射光于中间影像平面以定义第二强度分布，第二强度分布具有中心峰及紧邻中心峰之复数第一侧峰，于各第一侧峰之范围内修截第二强度分布以定义第二透射光，接着由第二透射光形成线影像于影像平面。

84. 发明专利

TWI514010B 光學透鏡以及應用該光學透鏡的發光元件有权
简体标题：光学透镜以及应用该光学透镜的发光组件
公开(公告)号：TWI514010B
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：TW101147763
申请日：2012-12-17
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：王何立穎 , WANG HE, LI YING
IPC分类号： G02B3/00 , G02B27/09 , F21V5/04 , F21Y101/02
CPC分类号： F21V5/04 , F21Y2115/10

85. 发明专利

TWI510868B 光學單元、照明光學裝置、曝光裝置、以及元件製造方法有权
简体标题：光学单元、照明光学设备、曝光设备、以及组件制造方法
公开(公告)号：TWI510868B
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW101144123
申请日：2008-10-23
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：谷津修 , TANITSU, OSAMU
IPC分类号： G03F7/20 , G03B27/54 , G02B26/08 , G02B27/09
CPC分类号： G02B27/0927 , F21V9/14 , F21V13/02 , F21V14/003 , G02B27/0938 , G02B27/1086 , G02B27/126 , G02B27/286 , G03F7/70058 , G03F7/70116 , G03F7/70566

86. 发明专利

TW201544917A 光學積分器审中-公开
简体标题：光学积分器
公开(公告)号：TW201544917A
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW104128315
申请日：2010-03-10
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：川邊喜雄 , KAWABE,YOSHIO
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/09
CPC分类号： G03F7/70083 , G03F7/70075
摘要：根據來自光源的光而對被照射面進行照明的照明光學系統中使用的光學積分器包括：第1複眼光學系統，在光源與被照射面之間的光程中，具有在與被照射面成光學共軛的位置處並列配置的多個第1光學組件(61a、61b、61c)；以及第2複眼光學系統，在第1複眼光學系統與被照射面之間的光程中，具有以與多個第1光學組件相對應的方式而並列配置的多個第2光學組件。多個第1光學組件中的至少一個第1光學組件、與不同於該至少一個第1光學組件的其他第1光學組件、在照明光學系統的光軸或與該光軸平行的軸周圍的姿勢彼此不同。
简体摘要：根据来自光源的光而对被照射面进行照明的照明光学系统中使用的光学积分器包括：第1复眼光学系统，在光源与被照射面之间的光程中，具有在与被照射面成光学共轭的位置处并列配置的多个第1光学组件(61a、61b、61c)；以及第2复眼光学系统，在第1复眼光学系统与被照射面之间的光程中，具有以与多个第1光学组件相对应的方式而并列配置的多个第2光学组件。多个第1光学组件中的至少一个第1光学组件、与不同于该至少一个第1光学组件的其他第1光学组件、在照明光学系统的光轴或与该光轴平行的轴周围的姿势彼此不同。

87. 发明专利

TW201447506A 光學單元、照明光學裝置、曝光裝置、以及元件製造方法审中-公开
简体标题：光学单元、照明光学设备、曝光设备、以及组件制造方法
公开(公告)号：TW201447506A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW103129669
申请日：2008-10-23
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：谷津修 , TANITSU, OSAMU
IPC分类号： G03F7/20 , G03B27/54 , G02B26/08 , G02B27/09
CPC分类号： G02B27/0927 , F21V9/14 , F21V13/02 , F21V14/003 , G02B27/0938 , G02B27/1086 , G02B27/126 , G02B27/286 , G03F7/70058 , G03F7/70116 , G03F7/70566
摘要：照明光學装置具備光學單元(3)。光學單元，具備：將入射光束分割為2條光束之光分割器(35)、可配置在第1光束之光路之第1空間光調變器(33)、可配置於第2光束之光路之第2空間光調變器(34)、以及將經過第1空間光調變器之光束與經過第2空間光調變器之光束加以合成之光合成器(36)，第1空間光調變器及第2空間光調變器具有二維排列、可個別控制之複數個光學要素(33a,34a)。
简体摘要：照明光学装置具备光学单元(3)。光学单元，具备：将入射光束分割为2条光束之光分割器(35)、可配置在第1光束之光路之第1空间光调制器(33)、可配置于第2光束之光路之第2空间光调制器(34)、以及将经过第1空间光调制器之光束与经过第2空间光调制器之光束加以合成之光合成器(36)，第1空间光调制器及第2空间光调制器具有二维排列、可个别控制之复数个光学要素(33a,34a)。

88. 发明专利

TW201447505A 光學單元、照明光學裝置、曝光裝置、以及元件製造方法审中-公开
简体标题：光学单元、照明光学设备、曝光设备、以及组件制造方法
公开(公告)号：TW201447505A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW103129668
申请日：2008-10-23
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：谷津修 , TANITSU, OSAMU
IPC分类号： G03F7/20 , G03B27/54 , G02B26/08 , G02B27/09
CPC分类号： G02B27/0927 , F21V9/14 , F21V13/02 , F21V14/003 , G02B27/0938 , G02B27/1086 , G02B27/126 , G02B27/286 , G03F7/70058 , G03F7/70116 , G03F7/70566
摘要：照明光學装置具備光學單元(3)。光學單元，具備：將入射光束分割為2條光束之光分割器(35)、可配置在第1光束之光路之第1空間光調變器(33)、可配置於第2光束之光路之第2空間光調變器(34)、以及將經過第1空間光調變器之光束與經過第2空間光調變器之光束加以合成之光合成器(36)，第1空間光調變器及第2空間光調變器具有二維排列、可個別控制之複數個光學要素(33a,34a)。
简体摘要：照明光学装置具备光学单元(3)。光学单元，具备：将入射光束分割为2条光束之光分割器(35)、可配置在第1光束之光路之第1空间光调制器(33)、可配置于第2光束之光路之第2空间光调制器(34)、以及将经过第1空间光调制器之光束与经过第2空间光调制器之光束加以合成之光合成器(36)，第1空间光调制器及第2空间光调制器具有二维排列、可个别控制之复数个光学要素(33a,34a)。

89. 发明专利

TW201447386A 光學透鏡审中-公开
简体标题：光学透镜
公开(公告)号：TW201447386A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW102131436
申请日：2013-08-30
申请人：雷笛克光學股份有限公司 , LEDLINK OPTICS, INC.
发明人：唐德龍 , TANG, TE LUNG , 黃韋強 , HUANG, WEI CHIANG
IPC分类号： G02B3/00 , G02B27/09
摘要：本發明係關於一種光學透鏡，包含一透鏡本體以及複數個溝槽結構。透鏡本體包含一入光面、一出光面以及一外側面，其中入光面和出光面係分別形成於透鏡本體的相異二側上，外側面係位於透鏡本體的外圍，其中外側面的相對二緣邊分別直接或間接連接入光面和出光面。複數個溝槽結構係形成於透鏡本體的外側面上，以使從入光面進入透鏡本體的光線產生全反射，再從出光面射出透鏡本體。
简体摘要：本发明系关于一种光学透镜，包含一透镜本体以及复数个沟槽结构。透镜本体包含一入光面、一出光面以及一外侧面，其中入光面和出光面系分别形成于透镜本体的相异二侧上，外侧面系位于透镜本体的外围，其中外侧面的相对二缘边分别直接或间接连接入光面和出光面。复数个沟槽结构系形成于透镜本体的外侧面上，以使从入光面进入透镜本体的光线产生全反射，再从出光面射出透镜本体。

90. 发明专利

TWI461736B 全效集光方法有权
公开(公告)号：TWI461736B
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：TW101134336
申请日：2012-09-19
申请人：黃國進 , HUANG, KUO CHIN
发明人：黃國進 , HUANG, KUO CHIN
IPC分类号： G02B27/09 , F21V5/04 , F21W101/02

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