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    • 76. 发明专利
    • 感應加熱裝置及感應加熱方法
    • 感应加热设备及感应加热方法
    • TW201230880A
    • 2012-07-16
    • TW100139580
    • 2011-10-31
    • 三井造船股份有限公司
    • 內田直喜
    • H05BH01L
    • H01L21/67103H05B6/105H05B6/36H05B6/42H05B6/44
    • 本發明的課題是在於提供一種在被大徑化的晶圓的加熱採用成批型的加熱方式,且可進行高精度的均等加熱之感應加熱裝置。本發明的感應加熱裝置,係藉由從螺線管型的感應加熱線圈(18)產生的磁束來加熱被感應加熱構件,而藉由該被感應加熱構件的發熱來加熱晶圓(40)之感應加熱裝置(10),其特徵為:使在感應加熱線圈(18)的軸芯方向主面成垂直的方式配置的複數個被感應加熱構件(14(14a,14b,14c))散佈。在具有如此的特徵之感應加熱裝置(10)是可將被感應加熱構件(14)收容於藉由具備透磁性及熱傳達性的構件所構成的1個保持器(16)來構成基座(12)。
    • 本发明的课题是在于提供一种在被大径化的晶圆的加热采用成批型的加热方式,且可进行高精度的均等加热之感应加热设备。本发明的感应加热设备,系借由从螺线管型的感应加热线圈(18)产生的磁束来加热被感应加热构件,而借由该被感应加热构件的发热来加热晶圆(40)之感应加热设备(10),其特征为:使在感应加热线圈(18)的轴芯方向主面成垂直的方式配置的复数个被感应加热构件(14(14a,14b,14c))散布。在具有如此的特征之感应加热设备(10)是可将被感应加热构件(14)收容于借由具备透磁性及热传达性的构件所构成的1个保持器(16)来构成基座(12)。
    • 77. 发明专利
    • 電漿處理裝置 PLASMA PROCESSING APPARATUS
    • 等离子处理设备 PLASMA PROCESSING APPARATUS
    • TWI360165B
    • 2012-03-11
    • TW097111417
    • 2008-03-28
    • 三井造船股份有限公司
    • 橘弘幸森康成
    • H01LC23CH05H
    • H05H1/46H01J37/3244H01J37/32495
    • 本發明的電漿處理裝置係具有:
      電漿生成部,其係使用以電介體覆蓋表面的棒狀導體所構成的天線元件取複數所定的間隙而配列成的天線陣列來生成電漿;及
      氣體放射部,其係以能夠覆蓋上述電漿生成部的方式設置,具備設於上述天線陣列的上方的氣體放射板。
      由對處理對象基板的表面呈垂直的方向來看上述天線元件及上述放射板時,
      在上述放射板中,在與上述電漿生成部的上述天線元件之間的領域整合的第1領域中形成有複數個對上述電漿生成部開口的氣體放出口,且在與上述天線元件的位置的領域整合的第2領域中未形成有上述氣體放出口。
      藉此,即使成膜面積大時,還是可使成膜速度提升的同時,抑止粒子的發生,形成膜質及膜厚均一性佳的膜。
    • 本发明的等离子处理设备系具有: 等离子生成部,其系使用以电介体覆盖表面的棒状导体所构成的天线组件取复数所定的间隙而配列成的天线数组来生成等离子;及 气体放射部,其系以能够覆盖上述等离子生成部的方式设置,具备设于上述天线数组的上方的气体放射板。 由对处理对象基板的表面呈垂直的方向来看上述天线组件及上述放射板时, 在上述放射板中,在与上述等离子生成部的上述天线组件之间的领域集成的第1领域中形成有复数个对上述等离子生成部开口的气体放出口,且在与上述天线组件的位置的领域集成的第2领域中未形成有上述气体放出口。 借此,即使成膜面积大时,还是可使成膜速度提升的同时,抑止粒子的发生,形成膜质及膜厚均一性佳的膜。
    • 79. 发明专利
    • 半導體基板熱處理裝置
    • 半导体基板热处理设备
    • TW201205677A
    • 2012-02-01
    • TW099133302
    • 2010-09-30
    • 三井造船股份有限公司
    • 宮田淳也內田直喜
    • H01L
    • H01L21/67109
    • 本發明係提供一種半導體基板熱處理裝置,能夠對感受器賦與水平磁束,同時,抑制因批次處理(batch processing)時產生上下端部的放熱所造成之處理不良。本發明之半導體基板熱處理裝置,係具有:在垂直方向層積配置載置晶圓(18)之複數之處理對象感受器(suscepter)(14)、與以在垂直方向夾入複數之處理對象感受器(14)之方式被配置之輔助感受器(16)而構成之舟皿(12),被配置於舟皿(12)之外周側、在與處理對象感受器(14)之晶圓載置面平行的方向形成交流磁束之感應加熱線圈,與對前述感應加熱線圈投入電力之電源部(36);前述感應加熱線圈係由:處理對象感受器(14)之加熱比例高的主加熱線圈(22)、與輔助感受器(16)的加熱比例高之輔助加熱線圈(24、26)等所形成;電源部(36)係具有控制投入主加熱線圈(22)與輔助加熱線圈(24、26)之電力比例之分區控制(zone control)手段。
    • 本发明系提供一种半导体基板热处理设备,能够对感受器赋与水平磁束,同时,抑制因批次处理(batch processing)时产生上下端部的放热所造成之处理不良。本发明之半导体基板热处理设备,系具有:在垂直方向层积配置载置晶圆(18)之复数之处理对象感受器(suscepter)(14)、与以在垂直方向夹入复数之处理对象感受器(14)之方式被配置之辅助感受器(16)而构成之舟皿(12),被配置于舟皿(12)之外周侧、在与处理对象感受器(14)之晶圆载置面平行的方向形成交流磁束之感应加热线圈,与对前述感应加热线圈投入电力之电源部(36);前述感应加热线圈系由:处理对象感受器(14)之加热比例高的主加热线圈(22)、与辅助感受器(16)的加热比例高之辅助加热线圈(24、26)等所形成;电源部(36)系具有控制投入主加热线圈(22)与辅助加热线圈(24、26)之电力比例之分区控制(zone control)手段。
    • 80. 发明专利
    • 船舶用引擎控制系統及方法
    • 船舶用发动机控制系统及方法
    • TW201107191A
    • 2011-03-01
    • TW099129231
    • 2010-08-31
    • 三井造船股份有限公司三井造船系統技研股份有限公司
    • 島田一孝青木猛山本秀則光藤亮
    • B63HG05D
    • F02D41/0025F02D29/02F02D41/0097F02D41/0205F02D41/1497
    • 本發明之課題為無須新設置感測器,而是藉由判斷海象變化,依海象進行調速控制,以提高油耗效益。本發明之船舶用引擎控制系統中,係從實際旋轉速度Ne與燃料指數(fuel index)FI算出負載阻力係數R。將負載阻力係數R之變動周期與變動之有效值作為參數來建立控制圖。變動周期短且主發動機之反應性低的情況,或是雖然變動之有效值小、波浪之影響小,不過雜訊之影響大的情況下,進行將燃料噴射量保持一定之燃料指數控制。變動周期長且獲得足夠之隨動性的情況,或是變動之有效值大,且發生空轉之波浪的影響大之情況下,進行將主發動機(螺旋槳)旋轉速度維持一定之旋轉速度控制。在二個運轉模式之中間帶進行將主發動機之輸出維持一定的輸出控制。
    • 本发明之课题为无须新设置传感器,而是借由判断海象变化,依海象进行调速控制,以提高油耗效益。本发明之船舶用发动机控制系统中,系从实际旋转速度Ne与燃料指数(fuel index)FI算出负载阻力系数R。将负载阻力系数R之变动周期与变动之有效值作为参数来创建控制图。变动周期短且主发动机之反应性低的情况,或是虽然变动之有效值小、波浪之影响小,不过噪声之影响大的情况下,进行将燃料喷射量保持一定之燃料指数控制。变动周期长且获得足够之随动性的情况,或是变动之有效值大,且发生空转之波浪的影响大之情况下,进行将主发动机(螺旋桨)旋转速度维持一定之旋转速度控制。在二个运转模式之中间带进行将主发动机之输出维持一定的输出控制。