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31. 发明专利

TWI465486B 織品處理劑組成物、清潔劑及軟化劑，及經彼處理之織品物件有权
简体标题：织品处理剂组成物、清洁剂及软化剂，及经彼处理之织品对象
公开(公告)号：TWI465486B
公开(公告)日：2014-12-21
申请号：TW098138987
申请日：2009-11-17
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：平井元彥 , HIRAI, MOTOHIKO
IPC分类号： C08G77/04 , C08G77/14 , C11D7/22 , D06M15/643
CPC分类号： C11D3/3742 , Y10T442/20 , Y10T442/2311 , Y10T442/2328 , Y10T442/2352 , Y10T442/2393

32. 发明专利

TWI429687B 由聚倍半矽氧烷化合物形成之成形材料、密封材以及光元件密封體有权
简体标题：由聚倍半硅氧烷化合物形成之成形材料、密封材以及光组件密封体
公开(公告)号：TWI429687B
公开(公告)日：2014-03-11
申请号：TW097119854
申请日：2008-05-29
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：樫尾幹広 , KASHIO MIKIHIRO
IPC分类号： C08G77/14 , C09K3/10 , H01L33/00
CPC分类号： H01L2224/48091 , H01L2924/00014

33. 发明专利

TWI424005B 含有矽之化合物、硬化性組合物及硬化物失效
简体标题：含有硅之化合物、硬化性组合物及硬化物
公开(公告)号：TWI424005B
公开(公告)日：2014-01-21
申请号：TW097114890
申请日：2008-04-23
申请人：艾迪科股份有限公司 , ADEKA CORPORATION
发明人：末吉孝 , SUEYOSHI, TAKASHI , 日渡謙一郎 , HIWATARI, KENICHIRO , 謝名堂正 , JANADO, TADASHI , 東海林義和 , SHOJI, YOSHIKAZU , 齋藤誠一 , SAITO, SEIICHI , 菅原良孝 , SUGAWARA, YOSHITAKA
IPC分类号： C08G77/14 , C08L83/05 , C08L83/07 , C08K3/20 , C08K3/36
CPC分类号： C08G77/50 , C08L83/14 , C08L83/00

34. 发明专利

TW201339212A 可固化之組成物审中-公开
简体标题：可固化之组成物
公开(公告)号：TW201339212A
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：TW101144228
申请日：2012-11-26
申请人： LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：高敏鎮 , KO, MIN JIN , 鄭宰昊 , JUNG, JAE HO , 文明善 , MOON, MYUNG SUN , 崔範圭 , CHOI, BUM GYU , 姜大昊 , KANG, DAE HO , 金珉均 , KIM, MIN KYOUN , 趙炳奎 , CHO, BYUNG KYU
IPC分类号： C08G77/20 , C08G77/14 , C08L83/04 , H01L33/56 , G02F1/13
CPC分类号： H01L33/56 , C08G77/04 , C08G77/12 , C08G77/14 , C08G77/20 , C08G77/80 , C08K5/54 , C08K5/56 , C08L83/00 , C08L83/04 , C08L83/06
摘要：本發明提供一種可固化之組成物及其用途。該可固化之組成物可顯現出優越之可處理性及可加工性。該可固化之組成物在固化後具有優越之光提取效率、抗龜裂性、硬度、耐熱震盪性及黏合性。該可固化之組成物可提供一種固化產物，其顯現在嚴苛環境下長時間之安定耐用性及可靠性且無白化及表面膠黏性。
简体摘要：本发明提供一种可固化之组成物及其用途。该可固化之组成物可显现出优越之可处理性及可加工性。该可固化之组成物在固化后具有优越之光提取效率、抗龟裂性、硬度、耐热震荡性及黏合性。该可固化之组成物可提供一种固化产物，其显现在严苛环境下长时间之安定耐用性及可靠性且无白化及表面胶黏性。

35. 发明专利

TW201902997A 聚有機矽倍半氧烷、轉印用膜、模內成型品及硬塗膜审中-公开
简体标题：聚有机硅倍半氧烷、转印用膜、模内成型品及硬涂膜
公开(公告)号：TW201902997A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107116788
申请日：2018-05-17
申请人：日商大賽璐股份有限公司 , DAICEL CORPORATION
发明人：芝本明弘 , SHIBAMOTO, AKIHIRO , 前谷臣治 , MAETANI, SHINJI , 西田一 , NISHIDA, KAZUHIRO , 宇佐大輔 , USA, DAISUKE
IPC分类号： C08G77/14 , C08L83/06 , B29C45/14 , B32B27/00 , B32B33/00 , B32B37/00 , C09D183/06 , C09D5/00
摘要：本發明之目的係提供一種聚有機矽倍半氧烷，其係可藉由模內射出成型法而形成具有高表面硬度的硬塗層，而且適合作為轉印用膜的硬塗層之材料，該轉印用膜的硬塗層係形成無黏性的塗膜而可捲取成捲筒者。本發明係有關一種聚有機矽倍半氧烷，係具有下述式(1)所示之構成單元，且下述式(I)所示之構成單元與下述式(II)所示之構成單元的莫耳比[式(I)所示之構成單元/式(II)所示之構成單元]為20以上500以下，相對於矽氧烷構成單元的全量(100莫耳%)，下述式(1)所示之構成單元及下述式(4)所示之構成單元的比率為55至100莫耳%，且該聚有機矽倍半氧烷之數量平均分子量為2500至50000，分子量分散度(重量平均分子量/數量平均分子量)為1.0至4.0；及含有該聚有機矽倍半氧烷的硬化性組成物。 [R1SiO3/2] (1) [RaSiO3/2] (I) [RbSiO2/2(ORc)] (Ⅱ) [R1SiO2/2(ORc)] (4)
简体摘要：本发明之目的系提供一种聚有机硅倍半氧烷，其系可借由模内射出成型法而形成具有高表面硬度的硬涂层，而且适合作为转印用膜的硬涂层之材料，该转印用膜的硬涂层系形成无黏性的涂膜而可卷取成卷筒者。本发明系有关一种聚有机硅倍半氧烷，系具有下述式(1)所示之构成单元，且下述式(I)所示之构成单元与下述式(II)所示之构成单元的莫耳比[式(I)所示之构成单元/式(II)所示之构成单元]为20以上500以下，相对于硅氧烷构成单元的全量(100莫耳%)，下述式(1)所示之构成单元及下述式(4)所示之构成单元的比率为55至100莫耳%，且该聚有机硅倍半氧烷之数量平均分子量为2500至50000，分子量分散度(重量平均分子量/数量平均分子量)为1.0至4.0；及含有该聚有机硅倍半氧烷的硬化性组成物。 [R1SiO3/2] (1) [RaSiO3/2] (I) [RbSiO2/2(ORc)] (Ⅱ) [R1SiO2/2(ORc)] (4)

36. 发明专利

TW201829626A 用於保護電氣／電子部件的室溫可固化之有機聚矽氧烷組成物审中-公开
简体标题：用于保护电气／电子部件的室温可固化之有机聚硅氧烷组成物
公开(公告)号：TW201829626A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106127538
申请日：2017-08-15
申请人：道康寧東麗股份有限公司 , DOW CORNING TORAY CO., LTD.
发明人：小玉春美 , KODAMA, HARUMI , 大西正之 , ONISHI, MASAYUKI
IPC分类号： C08L83/06 , C08K3/22 , C08K5/29 , C08G77/14
摘要：用於保護電氣/電子部件的室溫可固化之有機聚矽氧烷組成物，其包含：(A)有機聚矽氧烷，其在25℃下具有20至1,000,000mPa．s的黏度，且在一分子中具有至少兩個鍵結矽原子之羥基或鍵結矽原子之烷氧基；(B)由下列通式表示之烷氧基矽烷或其部分水解縮合產物：R1aSi(OR2)(4-a)，其中R1係碳數為1至12的單價烴基，R2係碳數為1至3的烷基，且「a」係0至2之整數；(C)基於巰基苯并噻唑之化合物；(D)氧化鋅粉末及/或碳酸鋅粉末；及(E)用於縮合反應之催化劑，可保護電氣/電子部件免受腐蝕性氣體的影響，諸如大氣中所含之硫化氫氣體及硫酸。
简体摘要：用于保护电气/电子部件的室温可固化之有机聚硅氧烷组成物，其包含：(A)有机聚硅氧烷，其在25℃下具有20至1,000,000mPa．s的黏度，且在一分子中具有至少两个键结硅原子之羟基或键结硅原子之烷氧基；(B)由下列通式表示之烷氧基硅烷或其部分水解缩合产物：R1aSi(OR2)(4-a)，其中R1系碳数为1至12的单价烃基，R2系碳数为1至3的烷基，且“a”系0至2之整数；(C)基于巯基苯并噻唑之化合物；(D)氧化锌粉末及/或碳酸锌粉末；及(E)用于缩合反应之催化剂，可保护电气/电子部件免受腐蚀性气体的影响，诸如大气中所含之硫化氢气体及硫酸。

37. 发明专利

TW201815899A 硬化物、波長轉換薄片、發光裝置、密封用元件及半導體發光裝置审中-公开
简体标题：硬化物、波长转换薄片、发光设备、密封用组件及半导体发光设备
公开(公告)号：TW201815899A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106130270
申请日：2017-09-05
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：西田理彦 , NISHIDA, TOSHIHIKO , 土居篤典 , DOI, ATSUNORI , 増井建太朗 , MASUI, KENTARO
IPC分类号： C08G77/14 , C08L83/06 , H01L33/50 , H01L33/52
摘要：本發明係提供一種兼備高硬度與高破裂耐性與高耐熱性之硬化物。　　本發明為一種硬化物，其係包含縮合型矽氧樹脂硬化物，滿足(1)及(2)。　　(1)在縮合型矽氧樹脂硬化物之固體29Si-核磁共振光譜，存在歸屬於T體之矽原子(與3個氧原子鍵結之矽原子)的峰值；　　(2)不均勻域(Domain)大小(藉由將X光的波數定為橫軸，將從測定之測定散射強度減少對照散射之散射強度定為縱軸，將使縮合型矽氧樹脂硬化物含浸在四氫呋喃使其膨潤之試料的小角X光散射的測定值經繪圖之圖表，以式(A)進行擬合所得之值)為50Å以上。(式中，ξ表示網絡篩孔大小，Ξ表示不均勻域尺寸，I(q)表示散射強度，q表示波數，A及B表示擬合常數(Fitting constant))。
简体摘要：本发明系提供一种兼备高硬度与高破裂耐性与高耐热性之硬化物。　　本发明为一种硬化物，其系包含缩合型硅氧树脂硬化物，满足(1)及(2)。　　(1)在缩合型硅氧树脂硬化物之固体29Si-核磁共振光谱，存在归属于T体之硅原子(与3个氧原子键结之硅原子)的峰值；　　(2)不均匀域(Domain)大小(借由将X光的波数定为横轴，将从测定之测定散射强度减少对照散射之散射强度定为纵轴，将使缩合型硅氧树脂硬化物含浸在四氢呋喃使其膨润之试料的小角X光散射的测定值经绘图之图表，以式(A)进行拟合所得之值)为50Å以上。(式中，ξ表示网络筛孔大小，Ξ表示不均匀域尺寸，I(q)表示散射强度，q表示波数，A及B表示拟合常数(Fitting constant))。

38. 发明专利

TWI620795B 含群集官能性聚有機矽氧烷及聚矽氧反應性稀釋劑之可固化聚矽氧組合物有权
简体标题：含群集官能性聚有机硅氧烷及聚硅氧反应性稀释剂之可固化聚硅氧组合物
公开(公告)号：TWI620795B
公开(公告)日：2018-04-11
申请号：TW103104458
申请日：2014-02-11
申请人：道康寧公司 , DOW CORNING CORPORATION
发明人：江潔 , JIANG, JING , 譚鷹 , TANG, YIN , 登詹姆士 , TONGE, JAMES , 札瑞斯費艾法洛姿 , ZARISFI, AFROOZ
IPC分类号： C08L83/04 , C08K5/5419 , C08K5/5425 , C08G77/20 , C08G77/12 , C08G77/14 , C09J183/04 , C09J11/06
CPC分类号： C08G77/04 , C08G77/12 , C08G77/14 , C08G77/20 , C08L83/06 , C08L83/14 , C09J183/04 , C09J183/06 , C09J183/14 , C09K5/14

39. 发明专利

TW201714968A 溶膠組成物及氣凝膠审中-公开
简体标题：溶胶组成物及气凝胶
公开(公告)号：TW201714968A
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW105127939
申请日：2016-08-31
申请人：日立化成股份有限公司 , HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD.
发明人：泉寛之 , IZUMI, HIROYUKI , 牧野竜也 , MAKINO, TATSUYA , 小竹智彦 , KOTAKE, TOMOHIKO , 吉川知里 , KIKKAWA, CHISATO , 宮武正人 , MIYATAKE, MASATO
IPC分类号： C08L83/06 , C08G77/14 , C01B33/16
CPC分类号： C08G77/48 , C01B33/16 , C08J9/28 , C08K5/5415 , C08L83/06
摘要：本發明提供一種氣凝膠形成用溶膠組成物，其含有選自由具有水解性官能基或縮合性官能基的聚矽氧烷化合物、以及該具有水解性官能基的聚矽氧烷化合物的水解產物所組成的群組中的至少一種。
简体摘要：本发明提供一种气凝胶形成用溶胶组成物，其含有选自由具有水解性官能基或缩合性官能基的聚硅氧烷化合物、以及该具有水解性官能基的聚硅氧烷化合物的水解产物所组成的群组中的至少一种。

40. 发明专利

TWI553041B 聚烷基矽倍半氧烷微粒及其製造方法有权
简体标题：聚烷基硅倍半氧烷微粒及其制造方法
公开(公告)号：TWI553041B
公开(公告)日：2016-10-11
申请号：TW097119602
申请日：2008-05-28
申请人：可隆股份有限公司 , KOLON INDUSTRIES, INC.
发明人：金鍾翰 , KIM, JONG-HAN , 劉雪雅 , YU, SEOL-A , 尹泳瑞 , YOON, YOUNG-SEO
IPC分类号： C08G77/14
CPC分类号： C08G77/04 , C08G77/06 , C08G77/16 , C08J3/12 , C08J2383/04

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