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    • 2. 发明专利
    • 硬化物、波長轉換薄片、發光裝置、密封用元件及半導體發光裝置
    • 硬化物、波长转换薄片、发光设备、密封用组件及半导体发光设备
    • TW201815899A
    • 2018-05-01
    • TW106130270
    • 2017-09-05
    • 日商住友化學股份有限公司SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
    • 西田理彦NISHIDA, TOSHIHIKO土居篤典DOI, ATSUNORI増井建太朗MASUI, KENTARO
    • C08G77/14C08L83/06H01L33/50H01L33/52
    • 本發明係提供一種兼備高硬度與高破裂耐性與高耐熱性之硬化物。   本發明為一種硬化物,其係包含縮合型矽氧樹脂硬化物,滿足(1)及(2)。   (1)在縮合型矽氧樹脂硬化物之固體29Si-核磁共振光譜,存在歸屬於T體之矽原子(與3個氧原子鍵結之矽原子)的峰值;   (2)不均勻域(Domain)大小(藉由將X光的波數定為橫軸,將從測定之測定散射強度減少對照散射之散射強度定為縱軸,將使縮合型矽氧樹脂硬化物含浸在四氫呋喃使其膨潤之試料的小角X光散射的測定值經繪圖之圖表,以式(A)進行擬合所得之值)為50Å以上。(式中,ξ表示網絡篩孔大小,Ξ表示不均勻域尺寸,I(q)表示散射強度,q表示波數,A及B表示擬合常數(Fitting constant))。
    • 本发明系提供一种兼备高硬度与高破裂耐性与高耐热性之硬化物。   本发明为一种硬化物,其系包含缩合型硅氧树脂硬化物,满足(1)及(2)。   (1)在缩合型硅氧树脂硬化物之固体29Si-核磁共振光谱,存在归属于T体之硅原子(与3个氧原子键结之硅原子)的峰值;   (2)不均匀域(Domain)大小(借由将X光的波数定为横轴,将从测定之测定散射强度减少对照散射之散射强度定为纵轴,将使缩合型硅氧树脂硬化物含浸在四氢呋喃使其膨润之试料的小角X光散射的测定值经绘图之图表,以式(A)进行拟合所得之值)为50Å以上。(式中,ξ表示网络筛孔大小,Ξ表示不均匀域尺寸,I(q)表示散射强度,q表示波数,A及B表示拟合常数(Fitting constant))。
    • 3. 发明专利
    • 含有波長轉換材料之聚矽氧樹脂組成物及含有波長轉換材料之薄片
    • 含有波长转换材料之聚硅氧树脂组成物及含有波长转换材料之薄片
    • TW201823421A
    • 2018-07-01
    • TW106130218
    • 2017-09-05
    • 日商住友化學股份有限公司SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
    • 増井建太朗MASUI, KENTARO土居篤典DOI, ATSUNORI
    • C09K11/02H01L33/50H01S5/36
    • 提供一種可抑制波長轉換材料的沉降,應用於半導體發光裝置之波長轉換材料時,抑制半導體發光裝置之光輸出的降低,可實現高光輸出的含有波長轉換材料之組成物。   該含有波長轉換材料之聚矽氧樹脂組成物,係含有聚矽氧樹脂、溶劑及波長轉換材料之含有波長轉換材料之聚矽氧樹脂組成物,   前述聚矽氧樹脂之含量為5質量%以上,   前述聚矽氧樹脂實質上由縮合型聚矽氧樹脂所構成,含有下述式(A3)所示之構造單位,   前述波長轉換材料之含量為20質量%以上,   前述含有波長轉換材料之聚矽氧樹脂組成物實質上不含二氧化矽粒子,   前述含有波長轉換材料之聚矽氧樹脂組成物係在25℃中,黏度為1000~500000mPa・s之液狀組成物,[式中,R1表示烷基或芳基]。
    • 提供一种可抑制波长转换材料的沉降,应用于半导体发光设备之波长转换材料时,抑制半导体发光设备之光输出的降低,可实现高光输出的含有波长转换材料之组成物。   该含有波长转换材料之聚硅氧树脂组成物,系含有聚硅氧树脂、溶剂及波长转换材料之含有波长转换材料之聚硅氧树脂组成物,   前述聚硅氧树脂之含量为5质量%以上,   前述聚硅氧树脂实质上由缩合型聚硅氧树脂所构成,含有下述式(A3)所示之构造单位,   前述波长转换材料之含量为20质量%以上,   前述含有波长转换材料之聚硅氧树脂组成物实质上不含二氧化硅粒子,   前述含有波长转换材料之聚硅氧树脂组成物系在25℃中,黏度为1000~500000mPa・s之液状组成物,[式中,R1表示烷基或芳基]。