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    • 32. 发明专利
    • 多結晶矽之製造方法及裝置、以及太陽電池用矽基板之製造方法
    • 多结晶硅之制造方法及设备、以及太阳电池用硅基板之制造方法
    • TW335539B
    • 1998-07-01
    • TW085113055
    • 1996-10-24
    • 川崎製鐵股份有限公司
    • 中村尚道加藤嘉英阪口泰彥花澤和浩荒谷復夫馬場裕幸湯下憲吉
    • H01L
    • C30B29/06C01B33/021C30B11/00H01L31/182Y02E10/546Y02P70/521
    • 本發明之目的係提供一種以一連貫之連續工程的流程作業,廉價且大量地從基本原料之矽金屬或氧化矽元素生產成多結晶矽以及使用多結晶矽之基板之製品之製造方法以及裝置。用以達成此一目的的手段係使用「A. 在於減壓下精煉矽金屬後,進而執行用以從熔漿中除去不純成分之凝固而得到鑄塊、B. 切斷以除去上述鑄塊的不純物濃化部、C. 再熔解殘留部分後. 在於氧化性氣相環境下從熔漿中氧化去除硼以及碳後,接著吹入氬與氫氣之混合氣體予以脫氧、D. 將上述脫氧後之熔漿注入鑄模後,進行單一方向凝固以得到鑄塊、E. 切斷去除利用單一方向凝固所得到之鑄塊的不純物濃化部」之各工程,藉以從金屬矽中製造出多結晶矽及太陽電池用矽基板。
    • 本发明之目的系提供一种以一连贯之连续工程的流程作业,廉价且大量地从基本原料之硅金属或氧化硅元素生产成多结晶硅以及使用多结晶硅之基板之制品之制造方法以及设备。用以达成此一目的的手段系使用“A. 在于减压下精炼硅金属后,进而运行用以从熔浆中除去不纯成分之凝固而得到铸块、B. 切断以除去上述铸块的不纯物浓化部、C. 再熔解残留部分后. 在于氧化性气相环境下从熔浆中氧化去除硼以及碳后,接着吹入氩与氢气之混合气体予以脱氧、D. 将上述脱氧后之熔浆注入铸模后,进行单一方向凝固以得到铸块、E. 切断去除利用单一方向凝固所得到之铸块的不纯物浓化部”之各工程,借以从金属硅中制造出多结晶硅及太阳电池用硅基板。