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21. 发明专利

TW201637062A 帶電粒子束系統與方法审中-公开
简体标题：带电粒子束系统与方法
公开(公告)号：TW201637062A
公开(公告)日：2016-10-16
申请号：TW104142911
申请日：2015-12-21
申请人：卡爾蔡司顯微鏡有限責任公司 , CARL ZEISS MICROSCOPY, LLC
发明人：黃章 , HUYNH, CHUONG , 高茲博哈德 , GOETZE, BERNHARD , 諾特四世約翰A , NOTTE IV, JOHN A. , 史都華黛安 , STEWART, DI ANE
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/304 , H01J37/22 , H01J37/244
CPC分类号： H01J37/304 , H01J37/20 , H01J37/228 , H01J37/244 , H01J37/3056 , H01J2237/216 , H01J2237/30472 , H01L39/249 , H01L39/2496
摘要：揭露一種帶電粒子束系統，其包含一帶電粒子束柱，其具有形成一帶電粒子束之一帶電粒子源、一物鏡及用以改變帶電粒子束在一樣品平面中之一撞擊位置的一第一偏折系統。系統更包含一樣品室，其包含用以保持要被處理之樣品的一樣品台、以及組態以產生並儲存一樣品表面之高度圖的一控制器。控制器進一步組態以根據高度圖而依帶電粒子束的一撞擊位置動態地調整帶電粒子束柱之物鏡。
简体摘要：揭露一种带电粒子束系统，其包含一带电粒子束柱，其具有形成一带电粒子束之一带电粒子源、一物镜及用以改变带电粒子束在一样品平面中之一撞击位置的一第一偏折系统。系统更包含一样品室，其包含用以保持要被处理之样品的一样品台、以及组态以产生并存储一样品表面之高度图的一控制器。控制器进一步组态以根据高度图而依带电粒子束的一撞击位置动态地调整带电粒子束柱之物镜。

22. 发明专利

TWI553689B 多重荷電粒子束描繪裝置及多重荷電粒子束描繪方法有权
简体标题：多重荷电粒子束描绘设备及多重荷电粒子束描绘方法
公开(公告)号：TWI553689B
公开(公告)日：2016-10-11
申请号：TW103141794
申请日：2014-12-02
申请人：紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：吉川良一 , YOSHIKAWA, RYOICHI , 松本裕史 , MATSUMOTO, HIROSHI
IPC分类号： H01J37/302 , H01J37/304 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3177 , H01J37/045 , H01J37/1471 , H01J37/243 , H01J37/3023 , H01J2237/0437

23. 发明专利

TW201634917A 光電子產生裝置审中-公开
简体标题：光电子产生设备
公开(公告)号：TW201634917A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW105114390
申请日：2012-03-06
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：畠山雅規 , HATAKEYAMA, MASAHIRO , 吉川省二 , YOSHIKAWA, SHOJI , 村上武司 , MURAKAMI, TAKESHI , 渡辺賢治 , WATANABE, KENJI , 內藤儀彦 , NAITO, YOSHIHIKO , 當間康 , TOMA, YASUSHI , 狩俣努 , KARIMATA, TSUTOMU , 林丈英 , HAYASHI, TAKEHIDE , 本究 , TSUKAMOTO, KIWAMU , 小濱達也 , KOHAMA, TATSUYA , 小林登 , KOBAYASHI, NOBORU
IPC分类号： G01N23/22 , H01J37/244 , H01J37/252 , H01J37/304
CPC分类号： H01J37/09 , G01N23/22 , G01N23/223 , G01N23/2251 , G01N2223/611 , H01J37/10 , H01J37/20 , H01J37/222 , H01J37/244 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J37/29 , H01J2237/0048 , H01J2237/022 , H01J2237/032 , H01J2237/038 , H01J2237/045 , H01J2237/0458 , H01J2237/0473 , H01J2237/0492 , H01J2237/061 , H01J2237/06333 , H01J2237/166 , H01J2237/186 , H01J2237/2002 , H01J2237/2007 , H01J2237/2008 , H01J2237/2448 , H01J2237/2482 , H01J2237/2485 , H01J2237/2817 , H01J2237/2855 , H01J2237/2857
摘要：本發明提供一種得使檢查精度提升，且可適用於5至30nm之設計規則的檢查方法及檢查裝置。本發明的檢查裝置具備：射束產生手段，使帶電粒子或電磁波之任一者以射束的形態產生；1次光學系統，將前述射束引導並照射到作業室內所保持的檢查對象；2次光學系統，具有活動式數值光闌、及用以檢測從前述檢查對象產生且通過該數值光闌的二次帶電粒子的第1檢測器；圖像處理系統，根據透過前述第1檢測器所檢測的二次帶電粒子而形成圖像；以及第2檢測器，設於前述可動式數值光闌與前述第1檢測器之間，用以檢測從前述檢查對象產生之二次帶電粒子在縮聚位置的位置及形狀。
简体摘要：本发明提供一种得使检查精度提升，且可适用于5至30nm之设计守则的检查方法及检查设备。本发明的检查设备具备：射束产生手段，使带电粒子或电磁波之任一者以射束的形态产生；1次光学系统，将前述射束引导并照射到作业室内所保持的检查对象；2次光学系统，具有活动式数值光阑、及用以检测从前述检查对象产生且通过该数值光阑的二次带电粒子的第1检测器；图像处理系统，根据透过前述第1检测器所检测的二次带电粒子而形成图像；以及第2检测器，设于前述可动式数值光阑与前述第1检测器之间，用以检测从前述检查对象产生之二次带电粒子在缩聚位置的位置及形状。

24. 发明专利

TWI545611B 多射束曝光裝置以及用於決定其內的兩射束之間的距離之方法與感測器有权
简体标题：多射束曝光设备以及用于决定其内的两射束之间的距离之方法与传感器
公开(公告)号：TWI545611B
公开(公告)日：2016-08-11
申请号：TW100141405
申请日：2011-11-14
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：麥傑珍安卓依 , MEIJER, JAN ANDRIES
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/304 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3045 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/224 , H01J37/244 , H01J37/3177 , H01J2237/2445 , H01J2237/2446 , H01J2237/24578 , H01J2237/30433

26. 发明专利

TWI533350B 光學微影系統、感測器、轉換元件以及製造之方法有权
简体标题：光学微影系统、传感器、转换组件以及制造之方法
公开(公告)号：TWI533350B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：TW100109513
申请日：2011-03-21
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：漢佛克拉巴 , HANFOUG, RABAH
IPC分类号： H01J37/244 , H01J37/22 , H01J37/317 , H01J37/304 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/244 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3045 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/2443

27. 发明专利

TW201543520A 安定時間的取得方法审中-公开
简体标题：安定时间的取得方法
公开(公告)号：TW201543520A
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：TW104100282
申请日：2015-01-06
申请人：紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：西村理恵子 , NISHIMURA, RIEKO
IPC分类号： H01J37/06 , H01J37/20 , H01J37/30 , H01J37/304 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3174 , H01J2237/15 , H01J2237/30433 , H01J2237/30494 , H01J2237/31776
摘要：本發明一種態樣之安定時間的取得方法，其特徵為：使用藉由來自DAC(數位/類比轉換器)放大器的偏向訊號而將帶電粒子束偏向之偏向器，於第1時間設定DAC放大器的安定時間，並藉由偏向器，以成為比用來評估DAC放大器的安定時間之評估偏向移動量還小之偏向移動量的方式，使帶電粒子束偏向至試料上，藉此形成寬度尺寸的兩端是由不同的2擊發的射束所描繪之參考圖樣，利用複數個相異之第2時間將DAC放大器的安定時間設定為可變，同時，於每個被設定為可變之第2時間，並藉由偏向器，以連續2擊發之偏向移動量成為用來評估DAC放大器的安定時間之評估偏向移動量的方式，使帶電粒子束偏向至試料上，藉此形成設計上和參考圖樣為相同寬度尺寸的兩端是由連續2擊發的射束所描繪之評估圖樣，對於每個被設定為可變之第2時間，演算評估圖樣的寬度尺寸與參考圖樣的寬度尺寸之差分，利用每個第2時間的差分，取得用來令其偏向偏向移動量所必須之DAC放大器的安定時間。
简体摘要：本发明一种态样之安定时间的取得方法，其特征为：使用借由来自DAC(数码/模拟转换器)放大器的偏向信号而将带电粒子束偏向之偏向器，于第1时间设置DAC放大器的安定时间，并借由偏向器，以成为比用来评估DAC放大器的安定时间之评估偏向移动量还小之偏向移动量的方式，使带电粒子束偏向至试料上，借此形成宽度尺寸的两端是由不同的2击发的射束所描绘之参考图样，利用复数个相异之第2时间将DAC放大器的安定时间设置为可变，同时，于每个被设置为可变之第2时间，并借由偏向器，以连续2击发之偏向移动量成为用来评估DAC放大器的安定时间之评估偏向移动量的方式，使带电粒子束偏向至试料上，借此形成设计上和参考图样为相同宽度尺寸的两端是由连续2击发的射束所描绘之评估图样，对于每个被设置为可变之第2时间，演算评估图样的宽度尺寸与参考图样的宽度尺寸之差分，利用每个第2时间的差分，取得用来令其偏向偏向移动量所必须之DAC放大器的安定时间。

28. 发明专利

TW201519280A 用於在離子植入器中進行雙模式操作的系統审中-公开
简体标题：用于在离子植入器中进行双模式操作的系统
公开(公告)号：TW201519280A
公开(公告)日：2015-05-16
申请号：TW103136219
申请日：2014-10-21
申请人：瓦里安半導體設備公司 , VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.
发明人：波什肯尼士H , PURSER, KENNETH H. , 坎貝爾克里斯多夫 , CAMPBELL, CHRISTOPHER , 辛克萊法蘭克 , SINCLAIR, FRANK , 林德柏格羅伯特C , LINDBERG, ROBERT C. , 歐爾森約瑟C , OLSON, JOSEPH C.
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/304
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/3023 , H01J2237/0455 , H01J2237/30483
摘要：一種用於在離子植入器中進行雙模式操作的系統可包含活動束擋塊，其用以在第一方向上調整離子束的束寬度，所述第一方向垂直於所述離子束的第一局部行進方向。所述系統可還包含：掃描器，其用以當在第一狀態中時在垂直於所述離子束的第二局部行進方向的第二方向上掃描所述離子束並且在第二狀態中未受擾動地傳輸所述離子束；以及模式選擇器，其用以向所述活動束擋塊以及向所述掃描器發送一組信號以便一致調整所述離子束的寬度和所述掃描器的狀態。
简体摘要：一种用于在离子植入器中进行双模式操作的系统可包含活动束挡块，其用以在第一方向上调整离子束的束宽度，所述第一方向垂直于所述离子束的第一局部行进方向。所述系统可还包含：扫描仪，其用以当在第一状态中时在垂直于所述离子束的第二局部行进方向的第二方向上扫描所述离子束并且在第二状态中未受扰动地传输所述离子束；以及模式选择器，其用以向所述活动束挡块以及向所述扫描仪发送一组信号以便一致调整所述离子束的宽度和所述扫描仪的状态。

29. 发明专利

TW201519278A 用於校正電子接近的效應之方法审中-公开
简体标题：用于校正电子接近的效应之方法
公开(公告)号：TW201519278A
公开(公告)日：2015-05-16
申请号：TW103129627
申请日：2014-08-28
申请人：艾西塔奈米製圖公司 , ASELTA NANOGRAPHICS
发明人：傑迪帝那德 , JEDIDI, NADER , 西亞夫尼派翠克 , SCHIAVONE, PATRICK , 托塔珍荷爾夫 , TORTAI, JEAN-HERVE , 菲格羅席亞格 , FIGUEIRO, THIAGO
IPC分类号： H01J37/304
CPC分类号： H01J37/304 , G03F7/70441 , G03F7/705 , H01J37/285 , H01J37/3174 , H01J37/3175 , H01J2237/2487
摘要：一種將電子束投射至一靶材上的方法，其包含對該靶材裡該等電子的散射效應進行校正。此項校正作業可依據一分段性多項式函數藉由對一具有輻射狀變異之點展開函數的計算步驟進行。
简体摘要：一种将电子束投射至一靶材上的方法，其包含对该靶材里该等电子的散射效应进行校正。此项校正作业可依据一分段性多项式函数借由对一具有辐射状变异之点展开函数的计算步骤进行。

30. 发明专利

TW201501165A 高能量精度的高頻加速型離子加速／輸送裝置审中-公开
简体标题：高能量精度的高频加速型离子加速／输送设备
公开(公告)号：TW201501165A
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW103114671
申请日：2014-04-23
申请人：斯伊恩股份有限公司 , SEN CORPORATION
发明人：椛澤光昭 , KABASAWA, MITSUAKI , 西原達生 , NISHIHARA, TATSUO , 渡邉一浩 , WATANABE, KAZUHIRO , 高橋裕二 , TAKAHASHI, YUUJI , 山田達也 , YAMADA, TATSUYA
IPC分类号： H01J37/04 , H01J37/304 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/05 , H01J37/3171 , H01J2237/0473 , H01J2237/057 , H01J2237/14 , H01J2237/15 , H01J2237/30472
摘要：提供具有能量寬度之射束的高精度能量分析技術。高能量精度的高頻加速型離子加速/輸送裝置為藉由相對於設定射束能量具有能量寬度亦即能量分布之高頻加速型加速系統進行離子束的加速後的射束路線，且具備能量分析用偏向電磁鐵和橫向射束收斂要件。離子加速/輸送裝置進一步在藉由能量分析用偏向電磁鐵和橫向射束收斂要件而使得能量分散和射束尺寸適當之位置設置有包括能量寬度限制狹縫和能量分析狹縫之雙狹縫，雙狹縫進行能量分離和能量限制，藉由一邊抑制射束電流量的減少，一邊調整為更小的能量寬度，從而縮小離子束的能量寬度來實現所需能量精度。
简体摘要：提供具有能量宽度之射束的高精度能量分析技术。高能量精度的高频加速型离子加速/输送设备为借由相对于设置射束能量具有能量宽度亦即能量分布之高频加速型加速系统进行离子束的加速后的射束路线，且具备能量分析用偏向电磁铁和横向射束收敛要件。离子加速/输送设备进一步在借由能量分析用偏向电磁铁和横向射束收敛要件而使得能量分散和射束尺寸适当之位置设置有包括能量宽度限制狭缝和能量分析狭缝之双狭缝，双狭缝进行能量分离和能量限制，借由一边抑制射束电流量的减少，一边调整为更小的能量宽度，从而缩小离子束的能量宽度来实现所需能量精度。

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