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21. 发明专利

TW201827228A 樹脂積層體及其製造方法审中-公开
简体标题：树脂积层体及其制造方法
公开(公告)号：TW201827228A
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：TW106134525
申请日：2017-10-06
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：大関美保 , OZEKI, MIHO , 大松一喜 , DAIMATSU, KAZUKI , 山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO , 岡本敏 , OKAMOTO, SATOSHI
IPC分类号： B32B27/30 , G02F1/1335
摘要：本發明之課題在於提供一種適合使用於顯示裝置等且可抑制凹部缺陷的產生之樹脂積層體。上述課題之解決手段為一種樹脂積層體，係具有：包含(甲基)丙烯酸系樹脂及偏氟乙烯(vinylidene fluoride)樹脂作為樹脂成分之中間層(A)、以及分別存在於該中間層(A)的兩側之樹脂層(B)及(C)；其中，該中間層(A)所含的偏氟乙烯樹脂的結晶化度為15.5至50%。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种适合使用于显示设备等且可抑制凹部缺陷的产生之树脂积层体。上述课题之解决手段为一种树脂积层体，系具有：包含(甲基)丙烯酸系树脂及偏氟乙烯(vinylidene fluoride)树脂作为树脂成分之中间层(A)、以及分别存在于该中间层(A)的两侧之树脂层(B)及(C)；其中，该中间层(A)所含的偏氟乙烯树脂的结晶化度为15.5至50%。

22. 发明专利

TW201811562A 樹脂積層體的製造方法审中-公开
简体标题：树脂积层体的制造方法
公开(公告)号：TW201811562A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106117160
申请日：2017-05-24
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：大松一喜 , DAIMATSU, KAZUKI , 大関美保 , OZEKI, MIHO , 山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO
IPC分类号： B32B27/30
摘要：本發明提供透明性佳的樹脂積層體的製造方法。本發明關於一種樹脂積層體的製造方法，該樹脂積層體至少具有中間層(A)以及分別存在於該中間層(A)的兩側的熱塑性樹脂層(B)及(C)；該中間層(A)係由樹脂組成物(a)形成，該熱塑性樹脂層(B)及(C)係分別由熱塑性樹脂(b)及(c)形成；該製造方法包括：將至少由熔融的樹脂組成物(a)、熱塑性樹脂(b)及(c)所形成的熔融樹脂積層體從模頭吐出並冷卻的步驟；基於樹脂組成物(a)所含的全部樹脂而言，該樹脂組成物(a)包含10至90質量%的(甲基)丙烯酸樹脂及90至10質量%的偏二氟乙烯樹脂，該(甲基)丙烯酸樹脂的重量平均分子量(Mw)為100,000至300,000；於該步驟中，從吐出溫度至100℃為止的平均冷卻速度為2.5℃/秒以上。
简体摘要：本发明提供透明性佳的树脂积层体的制造方法。本发明关于一种树脂积层体的制造方法，该树脂积层体至少具有中间层(A)以及分别存在于该中间层(A)的两侧的热塑性树脂层(B)及(C)；该中间层(A)系由树脂组成物(a)形成，该热塑性树脂层(B)及(C)系分别由热塑性树脂(b)及(c)形成；该制造方法包括：将至少由熔融的树脂组成物(a)、热塑性树脂(b)及(c)所形成的熔融树脂积层体从模头吐出并冷却的步骤；基于树脂组成物(a)所含的全部树脂而言，该树脂组成物(a)包含10至90质量%的(甲基)丙烯酸树脂及90至10质量%的偏二氟乙烯树脂，该(甲基)丙烯酸树脂的重量平均分子量(Mw)为100,000至300,000；于该步骤中，从吐出温度至100℃为止的平均冷却速度为2.5℃/秒以上。

23. 发明专利

TW201808638A 樹脂積層體、顯示裝置及偏光板审中-公开
简体标题：树脂积层体、显示设备及偏光板
公开(公告)号：TW201808638A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106117157
申请日：2017-05-24
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：大松一喜 , DAIMATSU, KAZUKI , 大関美保 , OZEKI, MIHO , 山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO
IPC分类号： B32B27/30 , G02B5/30 , G02F1/1335 , G06F3/041
CPC分类号： B32B27/30 , G02B5/30 , G02F1/1333
摘要：本發明之課題為提供適合用於顯示裝置且不易產生翹曲之樹脂積層體。本發明之解決手段為一種樹脂積層體，其至少具有中間層(A)、及分別存在於該中間層(A)兩側之熱塑性樹脂層(B)及(C)；相對於該中間層(A)所含全樹脂，該中間層(A)係含有10至90質量%之(甲基)丙烯酸樹脂及90至10質量%之偏二氟乙烯樹脂，該(甲基)丙烯酸樹脂之重量平均分子量(Mw)為100,000至300,000；該熱塑性樹脂層(B)及(C)係滿足以下關係；△L=｜LB-LC｜≦20μm △λBC=｜△λB-△λC｜≦0.19×10-4△T=｜TB-TC｜≦4℃[式中，LB及LC分別表示熱塑性樹脂層(B)及(C)之膜厚平均值，△λB及△λC分別以下式表示；△λB=｜λ’B-λB｜ △λC=｜λ’C-λC｜上述式中，λ’B及λ’C分別表示對樹脂積層體中熱塑性樹脂層(B)及(C)所測定之雙折射(I)，λB及λC分別表示對在比熱塑性樹脂層(B)及(C)之菲卡軟化溫度低25℃之溫度進行4小時退火處理後，對樹脂積層體中熱塑性樹脂層(B)及(C)所測定之雙折射(II)，TB及TC分別表示熱塑性樹脂層(B)及(C)之菲卡軟化溫度。]
简体摘要：本发明之课题为提供适合用于显示设备且不易产生翘曲之树脂积层体。本发明之解决手段为一种树脂积层体，其至少具有中间层(A)、及分别存在于该中间层(A)两侧之热塑性树脂层(B)及(C)；相对于该中间层(A)所含全树脂，该中间层(A)系含有10至90质量%之(甲基)丙烯酸树脂及90至10质量%之偏二氟乙烯树脂，该(甲基)丙烯酸树脂之重量平均分子量(Mw)为100,000至300,000；该热塑性树脂层(B)及(C)系满足以下关系；△L=｜LB-LC｜≦20μm △λBC=｜△λB-△λC｜≦0.19×10-4△T=｜TB-TC｜≦4℃[式中，LB及LC分别表示热塑性树脂层(B)及(C)之膜厚平均值，△λB及△λC分别以下式表示；△λB=｜λ’B-λB｜ △λC=｜λ’C-λC｜上述式中，λ’B及λ’C分别表示对树脂积层体中热塑性树脂层(B)及(C)所测定之双折射(I)，λB及λC分别表示对在比热塑性树脂层(B)及(C)之菲卡软化温度低25℃之温度进行4小时退火处理后，对树脂积层体中热塑性树脂层(B)及(C)所测定之双折射(II)，TB及TC分别表示热塑性树脂层(B)及(C)之菲卡软化温度。]

24. 发明专利

TWI599483B 層合薄膜有权
简体标题：层合薄膜
公开(公告)号：TWI599483B
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：TW102113482
申请日：2013-04-16
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO , 黑田俊也 , KURODA, TOSHIYA
IPC分类号： B32B3/30 , C23C16/44
CPC分类号： B32B3/30 , B32B2250/02 , C23C16/401 , C23C16/545 , Y10T428/24355

25. 发明专利

TW201708369A 樹脂組成物、膜、觸控感測器面板及顯示裝置审中-公开
简体标题：树脂组成物、膜、触摸传感器皮肤及显示设备
公开(公告)号：TW201708369A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105118328
申请日：2016-06-08
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：大松一喜 , DAIMATSU, KAZUKI , 大関美保 , OZEKI, MIHO , 山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO
IPC分类号： C08L33/06 , C08L27/16 , C08L27/20 , C08J5/18 , B32B27/08 , G06F3/041 , G09F9/00
CPC分类号： B32B27/30 , C08J7/04 , C08L27/16 , C08L33/04
摘要：本發明為一種樹脂組成物，其係在(甲基)丙烯酸樹脂及偏二氟乙烯樹脂的合計量每100質量份中，含有(甲基)丙烯酸樹脂45至60質量份及偏二氟乙烯樹脂40至55質量份，該偏二氟乙烯樹脂係含有來自偏二氟乙烯的結構單元65至90質量%、及來自六氟丙烯的結構單元10至35質量%之偏二氟乙烯-六氟丙烯共聚物。
简体摘要：本发明为一种树脂组成物，其系在(甲基)丙烯酸树脂及偏二氟乙烯树脂的合计量每100质量份中，含有(甲基)丙烯酸树脂45至60质量份及偏二氟乙烯树脂40至55质量份，该偏二氟乙烯树脂系含有来自偏二氟乙烯的结构单元65至90质量%、及来自六氟丙烯的结构单元10至35质量%之偏二氟乙烯-六氟丙烯共聚物。

26. 发明专利

TW201627385A 樹脂組成物、膜及顯示裝置审中-公开
简体标题：树脂组成物、膜及显示设备
公开(公告)号：TW201627385A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104139697
申请日：2015-11-27
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：大松一喜 , DAIMATSU, KAZUKI , 山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO , 赤田勝己 , AKADA, KATSUMI , 前川智博 , MAEKAWA, TOMOHIRO
IPC分类号： C08L33/12 , C08L27/16 , C08J5/14 , B32B27/30 , G06F3/041 , G09F9/00 , G02B5/30 , G02F1/1335
CPC分类号： C08L27/16 , C08L33/10 , G06F3/041
摘要：本發明之課題為提供可形成具有高介電率，並且即使在高溫高濕的環境下長時間使用亦可維持透明性之膜的樹脂組成物。本發明之解決手段為一種樹脂組成物，其係包含(甲基)丙烯酸樹脂及偏二氟乙烯樹脂之樹脂組成物，(甲基)丙烯酸樹脂及偏二氟乙烯樹脂之合計每100質量%中，分別包含(甲基)丙烯酸樹脂35~45質量%及偏二氟乙烯樹脂65~55質量%，該(甲基)丙烯酸樹脂之重量平均分子量(Mw)為100,000~300,000，樹脂組成物中所包含的樹脂之至少1種係包含鹼金屬，樹脂組成物中所包含的全樹脂及鹼金屬之合計量每100質量份中，鹼金屬之含量為50ppm以下。
简体摘要：本发明之课题为提供可形成具有高介电率，并且即使在高温高湿的环境下长时间使用亦可维持透明性之膜的树脂组成物。本发明之解决手段为一种树脂组成物，其系包含(甲基)丙烯酸树脂及偏二氟乙烯树脂之树脂组成物，(甲基)丙烯酸树脂及偏二氟乙烯树脂之合计每100质量%中，分别包含(甲基)丙烯酸树脂35~45质量%及偏二氟乙烯树脂65~55质量%，该(甲基)丙烯酸树脂之重量平均分子量(Mw)为100,000~300,000，树脂组成物中所包含的树脂之至少1种系包含碱金属，树脂组成物中所包含的全树脂及碱金属之合计量每100质量份中，碱金属之含量为50ppm以下。

27. 发明专利

TW201615878A 積層膜及可撓性電子裝置审中-公开
简体标题：积层膜及可挠性电子设备
公开(公告)号：TW201615878A
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW104129484
申请日：2015-09-07
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO , 中島秀明 , NAKAJIMA, HIDEAKI , 伊藤豊 , ITO, YUTAKA
IPC分类号： C23C16/30 , C23C16/40 , B32B9/04
CPC分类号： C23C16/32 , B32B9/00 , C23C16/401 , C23C16/50 , C23C16/509 , C23C16/545
摘要：本發明之課題係提供一種當將相異種類之層設置於薄膜層上時耐衝擊性優異之氣體障壁性積層膜。本發明提供一種積層膜，其係具備可撓性基材、形成於前述基材之至少一側之表面上之薄膜層，前述薄膜層含有Si、O及C，針對前述薄膜層的表面進行X射線光電子光譜測定時，使用由寬譜掃描能譜所得之相當於Si之2p、O之1s、N之1s及C之1s各自的結合能之譜峰所算出之C對Si之原子數比在下述式(1)之範圍，且針對前述薄膜層表面進行紅外光譜測定時，存在於950至1050cm-1之譜峰強度(I1)、與存在於1240至1290cm-1之譜峰強度(I2)的強度比在下述式(2)之範圍。 0.01
简体摘要：本发明之课题系提供一种当将相异种类之层设置于薄膜层上时耐冲击性优异之气体障壁性积层膜。本发明提供一种积层膜，其系具备可挠性基材、形成于前述基材之至少一侧之表面上之薄膜层，前述薄膜层含有Si、O及C，针对前述薄膜层的表面进行X射线光电子光谱测定时，使用由宽谱扫描能谱所得之相当于Si之2p、O之1s、N之1s及C之1s各自的结合能之谱峰所算出之C对Si之原子数比在下述式(1)之范围，且针对前述薄膜层表面进行红外光谱测定时，存在于950至1050cm-1之谱峰强度(I1)、与存在于1240至1290cm-1之谱峰强度(I2)的强度比在下述式(2)之范围。 0.01

28. 发明专利

TWI650438B 層合薄膜及撓曲性電子裝置有权
简体标题：层合薄膜及挠曲性电子设备
公开(公告)号：TWI650438B
公开(公告)日：2019-02-11
申请号：TW103144078
申请日：2014-12-17
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO , 伊藤豊 , ITO, YUTAKA , 中島秀明 , NAKAJIMA, HIDEAKI
IPC分类号： C23C16/42 , H01L51/50 , H05B33/02

29. 发明专利

TW201620712A 積層膜及可撓性電子裝置审中-公开
简体标题：积层膜及可挠性电子设备
公开(公告)号：TW201620712A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：TW104132346
申请日：2015-09-30
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：李冠 , LI, GUAN , 山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO , 野殿光紀 , NODONO, MITSUNORI
IPC分类号： B32B9/00 , B32B27/30 , H01B17/60 , H01L27/32
CPC分类号： G01J3/42 , B32B9/00 , B32B15/08 , B32B27/08 , B32B27/281 , B32B38/0008 , B32B2307/412 , B32B2307/7242 , G01N21/31 , G01N21/35 , G01N21/73 , G01N25/72 , G02F1/1339 , G06F1/1652 , H04M1/0268
摘要：本發明之課題在於提供一種即便於高溫下之使用環境下亦具有高密接性的阻氣性之積層膜。本發明之積層膜具有可撓性基材、與上述基材之至少單面相接設置之有機層、及於上述有機層上相接設置之薄膜層，上述有機層含有丙烯酸酯系樹脂，上述薄膜層含有Si、O及C，於上述薄膜層之矽分佈曲線、氧分佈曲線及碳分佈曲線中，滿足所有下述條件(i)~(iii)：(i)Si之原子數比、O之原子數比及C之原子數比於上述薄膜層之膜厚方向上之90%以上之區域中滿足下述式(1)；O之原子數比>Si之原子數比>C之原子數比(ii)上述碳分佈曲線具有至少1個極值；及(iii)上述碳分佈曲線中之碳之原子數比之最大值與最小值之差之絕對值為0.05以上。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种即便于高温下之使用环境下亦具有高密接性的阻气性之积层膜。本发明之积层膜具有可挠性基材、与上述基材之至少单面相接设置之有机层、及于上述有机层上相接设置之薄膜层，上述有机层含有丙烯酸酯系树脂，上述薄膜层含有Si、O及C，于上述薄膜层之硅分布曲线、氧分布曲线及碳分布曲线中，满足所有下述条件(i)~(iii)：(i)Si之原子数比、O之原子数比及C之原子数比于上述薄膜层之膜厚方向上之90%以上之区域中满足下述式(1)；O之原子数比>Si之原子数比>C之原子数比(ii)上述碳分布曲线具有至少1个极值；及(iii)上述碳分布曲线中之碳之原子数比之最大值与最小值之差之绝对值为0.05以上。

30. 发明专利

TWI700192B 積層膜及可撓性電子裝置有权
简体标题：积层膜及可挠性电子设备
公开(公告)号：TWI700192B
公开(公告)日：2020-08-01
申请号：TW104132346
申请日：2015-09-30
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：李冠 , LI, GUAN , 山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO , 野殿光紀 , NODONO, MITSUNORI
IPC分类号： B32B9/00 , B32B27/30 , H01B17/60 , H01L27/32

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