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1. 发明专利

TW201829190A 氣體阻障性膜及含有該膜之裝置审中-公开
简体标题：气体阻障性膜及含有该膜之设备
公开(公告)号：TW201829190A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106138289
申请日：2017-11-06
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：大関美保 , OZEKI, MIHO , 山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO
IPC分类号： B32B27/06 , C08J5/18 , H01L51/50
摘要：本發明之課題，係對使用在可撓性顯示器之以防濕為目的之氣體阻障性膜賦予耐光性，謀求抑制比氣體阻障性膜更下層的裝置內部之UV劣化、及/或抑制氣體阻障性膜本身之UV劣化。本發明之解決手段，係提供一種氣體阻障性膜，其係依照下列順序具有至少包含可撓性基材之基材層、無機薄膜層、及含紫外線吸收劑的有機層之氣體阻障性膜，前述無機薄膜層係含有矽原子、氧原子及碳原子，前述氣體阻障性膜在380nm之透光率為20%以下。
简体摘要：本发明之课题，系对使用在可挠性显示器之以防湿为目的之气体阻障性膜赋予耐光性，谋求抑制比气体阻障性膜更下层的设备内部之UV劣化、及/或抑制气体阻障性膜本身之UV劣化。本发明之解决手段，系提供一种气体阻障性膜，其系依照下列顺序具有至少包含可挠性基材之基材层、无机薄膜层、及含紫外线吸收剂的有机层之气体阻障性膜，前述无机薄膜层系含有硅原子、氧原子及碳原子，前述气体阻障性膜在380nm之透光率为20%以下。

2. 发明专利

TW201632358A 層合體之製造方法审中-公开
简体标题：层合体之制造方法
公开(公告)号：TW201632358A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW104133230
申请日：2015-10-08
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：牧寺雅巳 , MAKIDERA, MASAMI , 山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO , 野殿光紀 , NODONO, MITSUNORI , 岡本敏 , OKAMOTO, SATOSHI
IPC分类号： B32B37/26 , B32B38/18
CPC分类号： B32B37/20 , B32B7/10 , B32B7/12 , B32B37/12 , B32B37/203 , B32B2307/54 , B32B2457/20 , C23C16/02 , C23C16/401 , C23C16/402 , C23C16/45523 , C23C16/50 , C23C16/545 , H01L51/0024 , H01L51/50 , H01L51/5253
摘要：本發明為一種層合體之製造方法，其係具有層合薄膜、與接著層之層合體之製造方法，此製造方法係包含於此層合薄膜一側的面形成此接著層之步驟，此層合薄膜係至少層合基材與至少包含矽之薄膜層之層合薄膜，形成此接著層之步驟，係包含將此層合薄膜為成帶狀連續之層合薄膜原布(Original fabric)，對縱向方向運送，並且對於前述層合薄膜原布，於此縱向方向，以加入每一單位截面積為0.5N/mm2以上且未滿50N/mm2之張力的狀態，於層合在此層合薄膜原布之此薄膜層的面，形成此接著層。
简体摘要：本发明为一种层合体之制造方法，其系具有层合薄膜、与接着层之层合体之制造方法，此制造方法系包含于此层合薄膜一侧的面形成此接着层之步骤，此层合薄膜系至少层合基材与至少包含硅之薄膜层之层合薄膜，形成此接着层之步骤，系包含将此层合薄膜为成带状连续之层合薄膜原布(Original fabric)，对纵向方向运送，并且对于前述层合薄膜原布，于此纵向方向，以加入每一单位截面积为0.5N/mm2以上且未满50N/mm2之张力的状态，于层合在此层合薄膜原布之此薄膜层的面，形成此接着层。

3. 发明专利

TW201819168A 附透明黏著劑之樹脂積層體及含有該樹脂積層體之顯示裝置审中-公开
简体标题：附透明黏着剂之树脂积层体及含有该树脂积层体之显示设备
公开(公告)号：TW201819168A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106117162
申请日：2017-05-24
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：大関美保 , OZEKI, MIHO , 大松一喜 , DAIMATSU, KAZUKI , 山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO
IPC分类号： B32B7/02 , B32B27/00 , B32B27/20 , B32B27/30 , C09J7/02 , C09J201/00 , G02B5/30
摘要：本發明之課題係提供一種對於高溫高濕具有耐久性之附透明黏著劑之樹脂積層體。上述課題之解決手段為附透明黏著劑之樹脂積層體，係具有樹脂積層體(A)、及存在於該樹脂積層體(A)之至少一表面的透明黏著劑(B)，該樹脂積層體(A)係至少包含中間層及分別存在於該中間層之兩面的熱塑性樹脂層；其中，前述樹脂積層體(A)之中間層係以在中間層所含有之全樹脂成分為基準，包含(甲基)丙烯酸樹脂35至45質量%及偏二氟乙烯樹脂65至55質量%，該(甲基)丙烯酸樹脂之重量平均分子量(Mw)係100,000至300,000，前述中間層中之鹼金屬之含量係以在中間層所含有之全樹脂成分為基準計為50ppm以下。
简体摘要：本发明之课题系提供一种对于高温高湿具有耐久性之附透明黏着剂之树脂积层体。上述课题之解决手段为附透明黏着剂之树脂积层体，系具有树脂积层体(A)、及存在于该树脂积层体(A)之至少一表面的透明黏着剂(B)，该树脂积层体(A)系至少包含中间层及分别存在于该中间层之两面的热塑性树脂层；其中，前述树脂积层体(A)之中间层系以在中间层所含有之全树脂成分为基准，包含(甲基)丙烯酸树脂35至45质量%及偏二氟乙烯树脂65至55质量%，该(甲基)丙烯酸树脂之重量平均分子量(Mw)系100,000至300,000，前述中间层中之碱金属之含量系以在中间层所含有之全树脂成分为基准计为50ppm以下。

4. 发明专利

TW201808640A 樹脂積層體、顯示裝置及偏光板审中-公开
简体标题：树脂积层体、显示设备及偏光板
公开(公告)号：TW201808640A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106117159
申请日：2017-05-24
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：大松一喜 , DAIMATSU, KAZUKI , 大関美保 , OZEKI, MIHO , 山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO
IPC分类号： B32B27/30 , B32B27/18 , G02B5/30
CPC分类号： B32B27/18 , B32B27/30 , G02B5/30 , G02F1/1335
摘要：本發明之課題在於提供一種樹脂積層體，其具有特別適於保護偏光板的紫外線吸收能力。上述課題之解決方式為一種樹脂積層體，其係至少具有中間層(A)與分別存在於該中間層(A)的兩側之熱塑性樹脂層(B)及(C)者；以該中間層(A)所含有的全部樹脂為基準，該中間層(A)含有10至90質量%的(甲基)丙烯酸樹脂及90至10質量%的偏二氟乙烯樹脂，該(甲基)丙烯酸樹脂的重量平均分子量(Mw)是100,000至300,000；該中間層(A)、該熱塑性樹脂層(B)及(C)中至少一層含有至少1種在320至400nm具有極大吸收的紫外線吸收劑；將中間層(A)、熱塑性樹脂層(B)及(C)的膜厚之平均值分別設為TA、TB及TC(μm)，並將中間層(A)、熱塑性樹脂層(B)及(C)中的紫外線吸收劑之含量分別設為WA、WB及WC(質量%)時，藉由下式計算出的X，係0.01以上、0.25以下：X=(TA×WA+TB×WB+TC×WC)/(TA+TB+TC)。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种树脂积层体，其具有特别适于保护偏光板的紫外线吸收能力。上述课题之解决方式为一种树脂积层体，其系至少具有中间层(A)与分别存在于该中间层(A)的两侧之热塑性树脂层(B)及(C)者；以该中间层(A)所含有的全部树脂为基准，该中间层(A)含有10至90质量%的(甲基)丙烯酸树脂及90至10质量%的偏二氟乙烯树脂，该(甲基)丙烯酸树脂的重量平均分子量(Mw)是100,000至300,000；该中间层(A)、该热塑性树脂层(B)及(C)中至少一层含有至少1种在320至400nm具有极大吸收的紫外线吸收剂；将中间层(A)、热塑性树脂层(B)及(C)的膜厚之平均值分别设为TA、TB及TC(μm)，并将中间层(A)、热塑性树脂层(B)及(C)中的紫外线吸收剂之含量分别设为WA、WB及WC(质量%)时，借由下式计算出的X，系0.01以上、0.25以下：X=(TA×WA+TB×WB+TC×WC)/(TA+TB+TC)。

5. 发明专利

TW201805072A 氣體阻障性膜、光學膜及可撓性顯示器审中-公开
简体标题：气体阻障性膜、光学膜及可挠性显示器
公开(公告)号：TW201805072A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW106116279
申请日：2017-05-17
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：上野敏幸 , UENO, TOSHIYUKI , 山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO , 野殿光紀 , NODONO, MITSUNORI , 岡本敏 , OKAMOTO, SATOSHI
IPC分类号： B05D3/12 , B32B27/08 , C08J7/04 , C08J7/18 , C23C14/58
CPC分类号： B32B27/08 , B05D3/12 , C08J7/042 , C08J7/045 , C08J7/18 , C08J2345/00 , C23C14/5886 , C23C16/401 , C23C16/509 , C23C16/545 , G02B5/00
摘要：本發明之課題係提供一種能夠抑制黏結及捲繞偏移之氣體阻障性膜及使用此之光學膜等。本發明之解決手段，係提供氣體阻障性膜100，其具備可撓性基材10及形成在可撓性基材10的至少一表面上之無機薄膜層20。氣體阻障性膜100的一表面與另一表面之間的靜止摩擦係數為0.85以上2.0以下。將從氣體阻障性膜100切取之50mm四方部分，以該部分的中央部接觸水平面之方式載置在水平面上時，從水平面起算至該部分的四角落為止的距離之平均值為2mm以下。
简体摘要：本发明之课题系提供一种能够抑制黏结及卷绕偏移之气体阻障性膜及使用此之光学膜等。本发明之解决手段，系提供气体阻障性膜100，其具备可挠性基材10及形成在可挠性基材10的至少一表面上之无机薄膜层20。气体阻障性膜100的一表面与另一表面之间的静止摩擦系数为0.85以上2.0以下。将从气体阻障性膜100切取之50mm四方部分，以该部分的中央部接触水平面之方式载置在水平面上时，从水平面起算至该部分的四角落为止的距离之平均值为2mm以下。

6. 发明专利

TW201404592A 層合薄膜审中-公开
简体标题：层合薄膜
公开(公告)号：TW201404592A
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW102113482
申请日：2013-04-16
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO , 黑田俊也 , KURODA, TOSHIYA
IPC分类号： B32B3/30 , C23C16/44
CPC分类号： B32B3/30 , B32B2250/02 , C23C16/401 , C23C16/545 , Y10T428/24355
摘要：本發明係一種基材之表面經平坦化之氣體阻隔性優異之層合薄膜，其係具備基材、與形成於前述基材之至少一表面上之至少一層薄膜層的層合薄膜，於垂直於前述基材之表面之方向的截面，當令前述基材之形成有前述薄膜層側之連結表面之兩端部的方向為X方向、垂直於前述X方向的方向為Y方向時，前述基材當於形成有前述薄膜層側之表面具有突起部時，求出通過前述突起部之邊緣且平行於X方向之線段x1、與通過前述突起部之頂點且平行於Y方向之線段y1的交點p1，令前述線段y1之前述頂點與前述交點p1之間的距離為a、前述線段x1之前述邊緣與前述交點p1之間的距離為b、前述基材之前述突起部附近之平坦部上之前述薄膜層的厚度為h，前述基材當於形成有前述薄膜層之側的表面，具有凹陷部時，求出通過前述凹陷部之邊緣且平行於X方向之線段x2、與通過前述凹陷部之底且平行於Y方向之線段y2的交點p2，令前述線段y2之前述底與前述交點p2之間的距離為a、前述線段x2之前述邊緣與前述交點p2之間的距離為b、前述基材之前述凹陷部附近之平坦部上之前述薄膜層的厚度為h，惟，前述截面，係以使a/b之值成為最大的方式所設定者，前述表面中之所有的前述突起部及凹陷部，係滿足下述式(1)所表示之關係。a/b＜0.7(a/h)-1+0.31...(1)
简体摘要：本发明系一种基材之表面经平坦化之气体阻隔性优异之层合薄膜，其系具备基材、与形成于前述基材之至少一表面上之至少一层薄膜层的层合薄膜，于垂直于前述基材之表面之方向的截面，当令前述基材之形成有前述薄膜层侧之链接表面之两端部的方向为X方向、垂直于前述X方向的方向为Y方向时，前述基材当于形成有前述薄膜层侧之表面具有突起部时，求出通过前述突起部之边缘且平行于X方向之线段x1、与通过前述突起部之顶点且平行于Y方向之线段y1的交点p1，令前述线段y1之前述顶点与前述交点p1之间的距离为a、前述线段x1之前述边缘与前述交点p1之间的距离为b、前述基材之前述突起部附近之平坦部上之前述薄膜层的厚度为h，前述基材当于形成有前述薄膜层之侧的表面，具有凹陷部时，求出通过前述凹陷部之边缘且平行于X方向之线段x2、与通过前述凹陷部之底且平行于Y方向之线段y2的交点p2，令前述线段y2之前述底与前述交点p2之间的距离为a、前述线段x2之前述边缘与前述交点p2之间的距离为b、前述基材之前述凹陷部附近之平坦部上之前述薄膜层的厚度为h，惟，前述截面，系以使a/b之值成为最大的方式所设置者，前述表面中之所有的前述突起部及凹陷部，系满足下述式(1)所表示之关系。a/b＜0.7(a/h)-1+0.31...(1)

7. 发明专利

TW201919890A 積層膜审中-公开
简体标题：积层膜
公开(公告)号：TW201919890A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107129372
申请日：2018-08-23
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：牧寺雅巳 , MAKIDERA, MASAMI , 有村孝 , ARIMURA, TAKASHI , 山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO , 花岡秀典 , HANAOKA, HIDENORI
IPC分类号： B32B27/06 , B32B9/00 , B32B5/14 , H05B33/02 , H01L51/50 , G02F1/1333
摘要：一種積層膜，其包括基材、及積層於該基材的至少一個表面的薄膜層，該薄膜層含有矽原子、氧原子及碳原子，且具有至少一個不連續區域，所述不連續區域於表示該薄膜層的膜厚方向上的距薄膜層的表面的距離、與碳原子數相對於位於該距離的點的薄膜層中所含的矽原子、氧原子及碳原子的合計數的比率（碳原子比率）的關係的碳分佈曲線中，具有至少三個極值，極大值的最大值與極大值的最小值的差為14 at%以下，且滿足式（1）～式（3）的關係： 3 at%≦a–b （1） 3 at%≦b–c （2） 0.5＜（a–c）/dx （3）。
简体摘要：一种积层膜，其包括基材、及积层于该基材的至少一个表面的薄膜层，该薄膜层含有硅原子、氧原子及碳原子，且具有至少一个不连续区域，所述不连续区域于表示该薄膜层的膜厚方向上的距薄膜层的表面的距离、与碳原子数相对于位于该距离的点的薄膜层中所含的硅原子、氧原子及碳原子的合计数的比率（碳原子比率）的关系的碳分布曲线中，具有至少三个极值，极大值的最大值与极大值的最小值的差为14 at%以下，且满足式（1）～式（3）的关系： 3 at%≦a–b （1） 3 at%≦b–c （2） 0.5＜（a–c）/dx （3）。

8. 发明专利

TW201826584A 氣體阻障性膜及可撓性電子裝置审中-公开
简体标题：气体阻障性膜及可挠性电子设备
公开(公告)号：TW201826584A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106140986
申请日：2017-11-24
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：伊藤豊 , ITO, YUTAKA , 山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/04 , H05B33/10
摘要：本發明之課題在於提供一種氣體阻障性膜，其特別係抑制了在高溫高濕下之經時性的氣體阻障性降低。上述課題之解決手段為一種至少具有至少包含可撓性基材之基材層及無機薄膜層之氣體阻障性膜，其中，該基材層與該無機薄膜層之間的密接性依ASTM D3359測定為2B以上，且該無機薄膜層具有至少1個裁切端面，並具有由剝離及破裂所成群組中選出之至少1個缺陷或不具該缺陷者。在此，該無機薄膜層具有該缺陷時，該缺陷的存在區域為從該裁切端面算起至法線方向120μm以下之範圍內。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种气体阻障性膜，其特别系抑制了在高温高湿下之经时性的气体阻障性降低。上述课题之解决手段为一种至少具有至少包含可挠性基材之基材层及无机薄膜层之气体阻障性膜，其中，该基材层与该无机薄膜层之间的密接性依ASTM D3359测定为2B以上，且该无机薄膜层具有至少1个裁切端面，并具有由剥离及破裂所成群组中选出之至少1个缺陷或不具该缺陷者。在此，该无机薄膜层具有该缺陷时，该缺陷的存在区域为从该裁切端面算起至法线方向120μm以下之范围内。

9. 发明专利

TW201819512A 樹脂積層體的製造方法审中-公开
简体标题：树脂积层体的制造方法
公开(公告)号：TW201819512A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106117161
申请日：2017-05-24
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：大松一喜 , DAIMATSU, KAZUKI , 大関美保 , OZEKI, MIHO , 山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO
IPC分类号： C08L27/16 , C08L33/06 , B29C47/06 , B32B27/30
摘要：本發明之課題在於提供一種透明性優異的樹脂積層體的製造方法。上述課題之解決手段為提供一種樹脂積層體的製造方法，其係包含下述步驟(i)及步驟(ii)：步驟(i)：至少將(甲基)丙烯酸樹脂與偏二氟乙烯樹脂進行熔融混練而得到樹脂組成物(a)之步驟，其中，相對於樹脂組成物(a)所含之全部樹脂，該樹脂組成物(a)係包含35至45質量%之(甲基)丙烯酸樹脂及65至55質量%之偏二氟乙烯樹脂，(甲基)丙烯酸樹脂之重量平均分子量(Mw)為100,000至300,000；步驟(ii)：得到樹脂積層體之步驟，該樹脂積層體至少具有：由該樹脂組成物(a)所形成之中間層(A)、及由分別存在於該中間層(A)兩側之熱塑性樹脂(b)及(c)所分別形成的熱塑性樹脂層(B)及(C)。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种透明性优异的树脂积层体的制造方法。上述课题之解决手段为提供一种树脂积层体的制造方法，其系包含下述步骤(i)及步骤(ii)：步骤(i)：至少将(甲基)丙烯酸树脂与偏二氟乙烯树脂进行熔融混练而得到树脂组成物(a)之步骤，其中，相对于树脂组成物(a)所含之全部树脂，该树脂组成物(a)系包含35至45质量%之(甲基)丙烯酸树脂及65至55质量%之偏二氟乙烯树脂，(甲基)丙烯酸树脂之重量平均分子量(Mw)为100,000至300,000；步骤(ii)：得到树脂积层体之步骤，该树脂积层体至少具有：由该树脂组成物(a)所形成之中间层(A)、及由分别存在于该中间层(A)两侧之热塑性树脂(b)及(c)所分别形成的热塑性树脂层(B)及(C)。

10. 发明专利

TW201815581A 附偏光板之樹脂積層體及含有該積層體之顯示裝置审中-公开
简体标题：附偏光板之树脂积层体及含有该积层体之显示设备
公开(公告)号：TW201815581A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106117166
申请日：2017-05-24
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：大関美保 , OZEKI, MIHO , 大松一喜 , DAIMATSU, KAZUKI , 山下恭弘 , YAMASHITA, YASUHIRO
IPC分类号： B32B27/18 , B32B27/20 , B32B27/30 , G02B5/30 , G02F1/1335
摘要：本發明之課題係提供一種對於高溫高濕具有耐久性之附偏光板之樹脂積層體。上述課題之解決手段為附偏光板之樹脂積層體，係具有：樹脂積層體(A)，其係具有含有(甲基)丙烯酸樹脂及偏二氟乙烯樹脂作為樹脂成分之中間層、在該中間層之兩面的熱塑性樹脂層、及在該熱塑性樹脂層之至少一表面的硬塗層；透明黏著劑(B)，其係存在於該硬塗層之表面；及偏光板(C)。
简体摘要：本发明之课题系提供一种对于高温高湿具有耐久性之附偏光板之树脂积层体。上述课题之解决手段为附偏光板之树脂积层体，系具有：树脂积层体(A)，其系具有含有(甲基)丙烯酸树脂及偏二氟乙烯树脂作为树脂成分之中间层、在该中间层之两面的热塑性树脂层、及在该热塑性树脂层之至少一表面的硬涂层；透明黏着剂(B)，其系存在于该硬涂层之表面；及偏光板(C)。

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