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11. 发明专利

TWI596686B 基板處理方法有权
简体标题：基板处理方法
公开(公告)号：TWI596686B
公开(公告)日：2017-08-21
申请号：TW101114651
申请日：2012-04-25
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：王新明 , WANG, XINMING , 宮崎充 , MIYAZAKI, MITSURU , 松下邦政 , MATSUSHITA, KUNIMASA
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67051 , B08B3/024

12. 发明专利

TWI550760B 基板處理裝置、基板處理方法、基板保持機構及基板保持方法有权
简体标题：基板处理设备、基板处理方法、基板保持机构及基板保持方法
公开(公告)号：TWI550760B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：TW098118507
申请日：2009-06-04
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：宮崎充 , MIYAZAKI, MITSURU , 勝岡誠司 , KATSUOKA, SEIJI , 松田尚起 , MATSUDA, NAOKI , 國澤淳次 , KUNISAWA, JUNJI , 小林賢一 , KOBAYASHI, KENICHI , 外崎宏 , SOTOZAKI, HIROSHI , 篠崎弘行 , SHINOZAKI, HIROYUKI , 鍋谷治 , NABEYA, OSAMU , 森澤伸哉 , MORISAWA, SHINYA , 小川貴弘 , OGAWA, TAKAHIRO , 牧野夏木 , MAKINO, NATSUKI
IPC分类号： H01L21/683 , B24B37/04 , H01L21/304

13. 发明专利

TWI514456B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI514456B
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：TW101119485
申请日：2012-05-31
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：橫山俊夫 , YOKOYAMA, TOSHIO , 國澤淳次 , KUNISAWA, JUNJI , 宮崎充 , MIYAZAKI, MITSURU , 鈴木憲一 , SUZUKI, KENICHI , 外崎宏 , SOTOZAKI, HIROSHI
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67718 , B25J11/0095 , H01L21/6704 , H01L21/67173 , H01L21/67196 , H01L21/67219 , H01L21/67706 , H01L21/67742 , H01L21/68707

14. 发明专利

TW201513201A 硏磨裝置及硏磨方法审中-公开
简体标题：研磨设备及研磨方法
公开(公告)号：TW201513201A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW103145187
申请日：2009-06-04
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：宮崎充 , MIYAZAKI, MITSURU , 勝岡誠司 , KATSUOKA, SEIJI , 松田尙起 , MATSUDA, NAOKI , 國澤淳次 , KUNISAWA, JUNJI , 小林賢一 , KOBAYASHI, KENICHI , 外崎宏 , SOTOZAKI, HIROSHI , 篠崎弘行 , SHINOZAKI, HIROYUKI , 鍋谷治 , NABEYA, OSAMU , 森澤伸哉 , MORISAWA, SHINYA , 小川貴弘 , OGAWA, TAKAHIRO , 牧野夏木 , MAKINO, NATSUKI
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/04 , B24B29/02 , H01L21/683
摘要：本發明揭露一種基板處理裝置。該裝置包含組構成用以研磨基板的研磨區、組構成用以傳送該基板的傳送機構以及組構成用以清潔並烘乾該經過研磨之基板的清潔區。該清潔區具有用以清潔複數個基板的複數條清潔線。該複數條清潔線具有複數個清潔模組和用以傳送該等基板的複數個傳送機器人。
简体摘要：本发明揭露一种基板处理设备。该设备包含组构成用以研磨基板的研磨区、组构成用以发送该基板的发送机构以及组构成用以清洁并烘干该经过研磨之基板的清洁区。该清洁区具有用以清洁复数个基板的复数条清洁线。该复数条清洁线具有复数个清洁模块和用以发送该等基板的复数个发送机器人。

15. 发明专利

TW201425191A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201425191A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW102134962
申请日：2013-09-27
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：宮崎充 , MIYAZAKI, MITSURU , 小林賢一 , KOBAYASHI, KENICHI , 本坊光朗 , HOMBO, TERUAKI , 今村聴 , IMAMURA, AKIRA , 董博宇 , DONG, BOYU , 篠崎弘行 , SHINOZAKI, HIROYUKI
IPC分类号： B65G49/07
CPC分类号： H01L21/6719 , H01L21/67046 , H01L21/67051 , H01L21/67178 , H01L21/67207 , H01L21/67745 , H01L21/68728
摘要：本發明的基板處理裝置，達成產出量提升及省空間化，並可彈性地對應例如基板上氧化膜等的膜質等不同的洗淨模式變更。該基板處理裝置，具有：第一洗淨室190，在縱方向並列配置的至少一個以上的第一洗淨模組200a與兩個第二洗淨模組201a、201b；第二洗淨室192，在縱方向配置兩個第三洗淨模組202a、202b；以及第一搬送自動機240，收納於前述第一洗淨室190與前述第二洗淨室192之間的第一搬送室191內，在前述第一洗淨模組200a、前述第二洗淨模組201a、201b以及前述第三洗淨模組202a、202b相互間進行基板傳遞。
简体摘要：本发明的基板处理设备，达成产出量提升及省空间化，并可弹性地对应例如基板上氧化膜等的膜质等不同的洗净模式变更。该基板处理设备，具有：第一洗净室190，在纵方向并列配置的至少一个以上的第一洗净模块200a与两个第二洗净模块201a、201b；第二洗净室192，在纵方向配置两个第三洗净模块202a、202b；以及第一搬送自动机240，收纳于前述第一洗净室190与前述第二洗净室192之间的第一搬送室191内，在前述第一洗净模块200a、前述第二洗净模块201a、201b以及前述第三洗净模块202a、202b相互间进行基板传递。

16. 发明专利

TW201407678A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201407678A
公开(公告)日：2014-02-16
申请号：TW102140252
申请日：2003-11-14
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：勝岡誠司 , KATSUOKA, SEIJI , 關本雅彥 , SEKIMOTO, MASAHIKO , 橫山俊夫 , YOKOYAMA, TOSHIO , 渡邊輝行 , WATANABE, TERUYUKI , 小川貴弘 , OGAWA, TAKAHIRO , 小林賢一 , KOBAYASHI, KENICHI , 宮崎充 , MIYAZAKI, MITSURU , 本島靖之 , MOTOSHIIMA, YASUYUKI , 尾渡晃 , OWATARI, AKIRA , 大直樹 , DAI, NAOKI
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67161 , C23C18/1628 , C23C18/1893 , C25D7/123 , C25D17/001 , C25D17/08 , H01L21/67051 , H01L21/67126 , H01L21/67173 , H01L21/6719 , H01L21/67196 , H01L21/6723 , H01L21/67742 , H01L21/67751 , H01L21/67766 , H01L21/67781 , H01L21/68707 , H01L21/68721 , Y10S134/902 , Y10T279/11
摘要：本發明係關於一種適用於對基板進行鍍覆處理、將基板浸漬於處理液以進行處理之基板處理裝置。本發明之處理裝置係具有：用於進行基板之取出放入之裝載-卸載區；用以清洗基板之清洗區；用以進行基板之鍍覆處理之鍍覆處理區；而在前述裝載-卸載區則設置有：具有複數個乾式機械手之載運基板機器人；用以搭載基板匣之裝載口；將基板由面朝上切換為面朝下之乾式反轉機。
简体摘要：本发明系关于一种适用于对基板进行镀覆处理、将基板浸渍于处理液以进行处理之基板处理设备。本发明之处理设备系具有：用于进行基板之取出放入之装载-卸载区；用以清洗基板之清洗区；用以进行基板之镀覆处理之镀覆处理区；而在前述装载-卸载区则设置有：具有复数个干式机械手之载运基板机器人；用以搭载基板匣之装载口；将基板由面朝上切换为面朝下之干式反转机。

18. 发明专利

TWI401736B 基板研磨裝置及方法有权
简体标题：基板研磨设备及方法
公开(公告)号：TWI401736B
公开(公告)日：2013-07-11
申请号：TW096137212
申请日：2007-10-04
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：勝岡誠司 , KATSUOKA, SEIJI , 關本雅彥 , SEKIMOTO, MASAHIKO , 國澤淳次 , KUNISAWA, JUNJI , 宮崎充 , MIYAZAKI, MITSURU , 渡邊輝行 , WATANABE, TERUYUKI , 小林賢一 , KOBAYASHI, KENICHI , 粂川正行 , KUMEKAWA, MASAYUKI , 橫山俊夫 , YOKOYAMA, TOSHIO
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： B24B37/04 , B24B55/02 , Y10S451/914

19. 发明专利

TW201308479A 基板處理方法及基板處理單元审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理单元
公开(公告)号：TW201308479A
公开(公告)日：2013-02-16
申请号：TW101114651
申请日：2012-04-25
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：王新明 , WANG, XINMING , 宮崎充 , MIYAZAKI, MITSURU , 松下邦政 , MATSUSHITA, KUNIMASA
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67051 , B08B3/024
摘要：當考慮到像是處理時間(生產率)因素的關係時，一種基板處理方法可以容易地且最佳化地控制流體噴嘴的移動速度，使得有可能在整個表面上均勻地執行基板表面的處理，像是清潔或乾燥。該種基板處理方法，係包括當從旋轉中的基板的中心朝向周緣移動流體噴嘴時從流體噴嘴朝向旋轉中的基板表面噴出至少一種流體。該流體噴嘴係以固定初始移動速度從該基板的該中心移動至預定點。接著，以滿足下列關係式的移動速度V(r)從該預定點移動該流體噴嘴：V(r)×rα=C(常數)，其中V(r)代表當該流體噴嘴通過對應於在該基板表面上離該基板的中心之距離“r”的位置之位置時之該流體噴嘴的該移動速度，而α代表冪指標。
简体摘要：当考虑到像是处理时间(生产率)因素的关系时，一种基板处理方法可以容易地且最优化地控制流体喷嘴的移动速度，使得有可能在整个表面上均匀地运行基板表面的处理，像是清洁或干燥。该种基板处理方法，系包括当从旋转中的基板的中心朝向周缘移动流体喷嘴时从流体喷嘴朝向旋转中的基板表面喷出至少一种流体。该流体喷嘴系以固定初始移动速度从该基板的该中心移动至预定点。接着，以满足下列关系式的移动速度V(r)从该预定点移动该流体喷嘴：V(r)×rα=C(常数)，其中V(r)代表当该流体喷嘴通过对应于在该基板表面上离该基板的中心之距离“r”的位置之位置时之该流体喷嘴的该移动速度，而α代表幂指针。

20. 发明专利

TW201005865A 基板處理裝置、基板處理方法、基板保持機構及基板保持方法 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, SUBSTRATE HOLDING MECHANISM, AND SUBSTRATE HOLDING METHOD 审中-公开
简体标题：基板处理设备、基板处理方法、基板保持机构及基板保持方法 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, SUBSTRATE HOLDING MECHANISM, AND SUBSTRATE HOLDING METHOD
公开(公告)号：TW201005865A
公开(公告)日：2010-02-01
申请号：TW098118507
申请日：2009-06-04
申请人：荏原製作所股份有限公司
发明人：宮崎充 , 勝岡誠司 , 松田尚起 , 國澤淳次 , 小林賢一 , 外崎宏 , 篠崎弘行 , 鍋谷治 , 森澤伸哉 , 小川貴弘 , 牧野夏木
IPC分类号： H01L , B24B
摘要：本發明揭露一種基板處理裝置。該裝置包含組構成用以研磨基板的研磨區、組構成用以傳送該基板的傳送機構以及組構成用以清潔並烘乾該經過研磨之基板的清潔區。該清潔區具有用以清潔複數個基板的複數條清潔線。該複數條清潔線具有複數個清潔模組和用以傳送該等基板的複數個傳送機器人。
简体摘要：本发明揭露一种基板处理设备。该设备包含组构成用以研磨基板的研磨区、组构成用以发送该基板的发送机构以及组构成用以清洁并烘干该经过研磨之基板的清洁区。该清洁区具有用以清洁复数个基板的复数条清洁线。该复数条清洁线具有复数个清洁模块和用以发送该等基板的复数个发送机器人。

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