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    • 18. 发明专利
    • 製造由至少兩箔片所構成之層狀組合物之方法及其裝置
    • 制造由至少两箔片所构成之层状组合物之方法及其设备
    • TW350818B
    • 1999-01-21
    • TW085107040
    • 1996-06-12
    • 威西赫羅斯公司
    • 湯瑪斯羅斯
    • B32B
    • B32B37/203B26F1/40B32B38/0004B32B38/1841
    • 本發明係關於一種方法以及一種裝置,用以製造一由至少兩箔片所構成之層狀組合物,該方法係以一衝壓裝置在箔片上等距離處施以重複之衝壓構造,並在施以衝壓構造後,以箔片之衝壓構造朝彼此在已預定位置上膠合在一起之方式,使得箔片可膠合在一起。要將不同之箔片以一簡單之方法膠合成一緊密接合之層狀組合物,係以箔片一個接著一個進給至相同之衝壓裝置,在衝壓裝置之第一部份將同樣之位置記號衝壓在箔片上,然後在衝壓裝置獨自及可更換之第二部份上,將特有之箔體構造衝壓在每一箔片上,在一種箔片通過衝壓裝置以後,便可更換衝壓裝置之第二部份。藉由黏附點之在前應用,可避免在膠合箔片成一整體時,由於箔片不同之熱膨脹而造成之總和誤差。
    • 本发明系关于一种方法以及一种设备,用以制造一由至少两箔片所构成之层状组合物,该方法系以一冲压设备在箔片上等距离处施以重复之冲压构造,并在施以冲压构造后,以箔片之冲压构造朝彼此在已预定位置上胶合在一起之方式,使得箔片可胶合在一起。要将不同之箔片以一简单之方法胶合成一紧密接合之层状组合物,系以箔片一个接着一个进给至相同之冲压设备,在冲压设备之第一部份将同样之位置记号冲压在箔片上,然后在冲压设备独自及可更换之第二部份上,将特有之箔体构造冲压在每一箔片上,在一种箔片通过冲压设备以后,便可更换冲压设备之第二部份。借由黏附点之在前应用,可避免在胶合箔片成一整体时,由于箔片不同之热膨胀而造成之总和误差。
    • 19. 发明专利
    • 供陰極噴鍍之靶及該靶之製法
    • 供阴极喷镀之靶及该靶之制法
    • TW324744B
    • 1998-01-11
    • TW085108492
    • 1996-07-12
    • 威西赫羅斯公司
    • 翰斯.伯漢莫
    • C23CC04BB28B
    • C23C14/086C04B35/01C23C14/3414
    • 根據本發明供陰極噴鍍之標靶,係由熱壓製或熱等力壓製之氧化銦/氧化錫粉末所形成,已知其具有最小密度為理論密度之95%,並具有低於化學計量之氧含量。為提供高安定性之改良,及同時改良高噴鍍速率,根據本發明係提出該標靶應具有以氧化銦與氧化錫之固熔體所形成之結晶相,其具有最低90重量%,較佳為最低97重量%之固熔體,且其具有平均晶粒大小範圍從2微米至20微米。為使一種簡易且成本上有效之方法能夠有效地用以製造一種由氧化銦/氧化錫之起始粉末所組成之標靶,且其允許在整個標靶體積中精確設定氧含量及勻化學組成,故本發明提出應使用一種起始粉末,其係經由將微細分佈之銦錫金屬氧化所製成。
    • 根据本发明供阴极喷镀之标靶,系由热压制或热等力压制之氧化铟/氧化锡粉末所形成,已知其具有最小密度为理论密度之95%,并具有低于化学计量之氧含量。为提供高安定性之改良,及同时改良高喷镀速率,根据本发明系提出该标靶应具有以氧化铟与氧化锡之固熔体所形成之结晶相,其具有最低90重量%,较佳为最低97重量%之固熔体,且其具有平均晶粒大小范围从2微米至20微米。为使一种简易且成本上有效之方法能够有效地用以制造一种由氧化铟/氧化锡之起始粉末所组成之标靶,且其允许在整个标靶体积中精确设置氧含量及匀化学组成,故本发明提出应使用一种起始粉末,其系经由将微细分布之铟锡金属氧化所制成。